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Recubridora por Sputtering de Magnetrón de Cuatro Blancos con Cámara de Carga y Descarga, Instrumento de Recubrimiento de Película Delgada PVD, Probador de Sputtering de Membranas de Aleación

Name: Recubridora por Sputtering de Magnetrón de Cuatro Blancos con Cámara de Carga y Descarga, Instrumento de Recubrimiento de Película Delgada PVD, Probador de Sputtering de Membranas de Aleación
Brand: DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD
Price: 1 USD
Availability: InStock

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Recubridora por Sputtering de Magnetrón de Cuatro Blancos con Cámara de Carga y Descarga, Instrumento de Recubrimiento de Película Delgada PVD, Probador de Sputtering de Membranas de Aleación

Four-Target Magnetron Sputtering Coater with Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Alloy Membranes Sputter Tester

Ampliación de imagen : Recubridora por Sputtering de Magnetrón de Cuatro Blancos con Cámara de Carga y Descarga, Instrumento de Recubrimiento de Película Delgada PVD, Probador de Sputtering de Membranas de Aleación

Datos del producto:

Lugar de origen:	Cantón, China
Nombre de la marca:	LONROY

Pago y Envío Términos:

Cantidad de orden mínima:	1
Precio:	$1,000

Contacto

Recubridora por Sputtering de Magnetrón de Cuatro Blancos con Cámara de Carga y Descarga, Instrumento de Recubrimiento de Película Delgada PVD, Probador de Sputtering de Membranas de Aleación

descripción

Tipo de máquina:	Recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón	Voltaje:	380 VAC ± 10%
Potencia(W):	5000	Garantía:	1 año
peso (kg):	600
Resaltar:	Recubridor por pulverización catódica con magnetrón de cuatro objetivos con cámara de bloqueo de carga , Instrumento de Recubrimiento de Película Delgada PVD para Membranas de Aleación , Máquina de Prueba de Laboratorio

Descripción del producto

Coated de pulverización de magnetrón de cuatro objetivos con cámara de carga-bloqueo Instrumento de recubrimiento de película delgada PVD Probador de pulverización de membranas de aleación

Breve introducción El sistema de recubrimiento por pulverización de magnetrón de cuatro objetivos está diseñado para la deposición de diversas películas delgadas, incluyendo películas ferroeléctricas, conductoras, de aleación, semiconductoras, cerámicas, dieléctricas, ópticas, de óxido, duras y de PTFE.

Coated de pulverización de magnetrón de cuatro objetivos con cámara de carga-bloqueo Instrumento de recubrimiento de película delgada PVD Probador de pulverización de membranas de aleación

Introducción detallada Este sistema de recubrimiento por pulverización de magnetrón de cuatro objetivos es una unidad rentable desarrollada independientemente por nuestra empresa, que presenta un diseño estandarizado, modular y personalizable. Los clientes pueden seleccionar objetivos de magnetrón en tamaños que van de 1 a 4 pulgadas según las dimensiones de sus sustratos. El sistema está equipado con fuentes de alimentación DC de 500W y RF de 500W; la fuente de alimentación DC es adecuada para películas metálicas, mientras que la fuente de alimentación RF maneja películas no metálicas. La configuración de cuatro objetivos admite procesos de recubrimiento multicapa o secuenciales. Las fuentes de alimentación RF y pulsadas personalizadas están disponibles bajo pedido, con varias especificaciones que van de 300W a 1000W. El equipo consta de una cámara principal y una cámara de carga-bloqueo (cámara de transición). La cámara de carga-bloqueo cuenta con una varilla de transferencia magnética y una válvula de compuerta de vacío separa las dos cámaras. Este diseño permite a los usuarios cargar muestras y realizar pre-vacío en la cámara de carga-bloqueo mientras la pulverización tiene lugar en la cámara principal. Una vez completado el proceso principal, la muestra se puede transferir al escenario de la cámara principal utilizando la varilla magnética. Esta configuración minimiza la frecuencia de los ciclos de vacío de la cámara principal, ahorrando así tiempo, manteniendo un entorno de vacío superior y mejorando eficazmente la calidad del recubrimiento. El sistema de recubrimiento por pulverización de magnetrón de cuatro objetivos es adecuado para depositar películas de una o varias capas como películas ferroeléctricas, conductoras, de aleación, semiconductoras, cerámicas, dieléctricas, ópticas, de óxido, duras y de PTFE. En comparación con equipos similares, este sistema de pulverización de magnetrón de cuatro objetivos ofrece no solo una amplia aplicabilidad, sino también las ventajas de un tamaño compacto y facilidad de operación, lo que lo convierte en una herramienta ideal para la fabricación de películas delgadas en laboratorio. Todo el proceso de deposición se lleva a cabo en un entorno de alto vacío, asegurando que los átomos o moléculas evaporados lleguen directamente al sustrato; esto evita la contaminación por impurezas atmosféricas y mejora la calidad de la película. Las condiciones de alto vacío también ayudan a minimizar la oxidación del material fuente, mejorando aún más la pureza y el rendimiento de la película delgada resultante.

Coated de pulverización de magnetrón de cuatro objetivos con cámara de carga-bloqueo Instrumento de recubrimiento de película delgada PVD Probador de pulverización de membranas de aleación

Coated de pulverización de magnetrón de cuatro objetivos con cámara de carga-bloqueo Instrumento de recubrimiento de película delgada PVD Probador de pulverización de membranas de aleación

Especificación

Especificaciones técnicas

Categoría	Artículo	Especificación
Nombre del producto	Coated de pulverización de magnetrón de cuatro objetivos (alimentación DC + alimentación RF)
Modelo del producto	LR-CK101
Plato de muestra	Dimensiones	φ150 mm
		Precisión del control de temperatura	±1°C
		Rango de calentamiento	Temperatura ambiente a 900°C
		Velocidad de rotación ajustable	1–20 rpm (ajustable)
Cañones de objetivo de magnetrón	Dirección de pulverización	Pulverización hacia abajo
		Rango de ángulo de inclinación del objetivo	-45° a +45°; equipado con obturador neumático
		Dimensiones del material del objetivo	Diámetro de 4 pulgadas, grosor ≤3 mm
		Voltaje de aislamiento	>2000 V
		Cantidad	Tres objetivos inclinables de 4 pulgadas; un objetivo fijo de 4 pulgadas
		Método de enfriamiento	Enfriamiento por agua
Cámara de vacío	Tipo de cámara	Cámara tipo D
		Dimensiones de la cámara	Φ500 mm × 500 mm
		Material de la cámara	Acero inoxidable 304
		Ventana de observación	Ventana de cuarzo, diámetro de φ100 mm
		Método de apertura	Puerta de apertura frontal
Control de gas	Control de flujo	Controladores de flujo másico de 3 canales: Rango: 0–500 SCCM; Rango: 0–100 SCCM; Rango: 0–20 SCCM
Fuente de alimentación de pulverización de magnetrón bipolar pulsada	Voltaje de entrada	380 VCA ±10%, sistema trifásico de 4 hilos, 50–60 Hz
		Potencia de salida	0–5 kW
		Voltaje de salida	0–1000 V
		Corriente de salida	Máx. 9 A (a potencia constante)
		Frecuencia de salida	1 kHz – 150 kHz
		Características de salida	Corriente constante / Potencia constante / Voltaje constante
		Método de enfriamiento	Enfriamiento por aire
		Comunicación	Señal analógica de 0–5 V o 0–10 V; RS-485
		Ciclo de trabajo	100%
		Cantidad	1 unidad
Fuente de alimentación RF	Potencia nominal	1000W
		Rango de potencia de salida	0W–1000W
		Potencia de salida máxima	1000W
		Potencia reflejada máxima	130W
		Frecuencia de RF	13.56 MHz (estabilidad: ±0.005%)
		Cantidad	1 unidad
Fuente de alimentación DC	Potencia	1000W
Fuente de alimentación DC		Cantidad	2 unidades
Bomba molecular	Velocidad de bombeo	1200 L/s
		Método de enfriamiento	Refrigerado por agua
		Nivel de vacío	9.0 × 10⁻⁴ Pa
		Velocidad de bombeo de la bomba de pre-vacío	4 L/s
		Manómetro de vacío compuesto	Rango de medición 10⁻⁵ Pa – 10⁵ Pa
		Cantidad	1 juego
		Válvula de vacío	Válvula neumática controlada eléctricamente
Cámara de transición	Tamaño de la cámara Adecuado para obleas de hasta 6 pulgadas
Cámara de transición		Equipado con conjunto de bomba molecular: Bomba de pre-vacío: VRD-4 (velocidad de bombeo: 1.1 L/s) Bomba molecular: TG60F (Japón) (velocidad de bombeo: 60 L/s)
Monitor de espesor de película	Cantidad	1 juego
		Canales	Canal único
		Precisión de medición	1 Å
		Cristal de cuarzo sensor estándar	6 MHz
		Tamaño de cristal de cuarzo compatible	φ14 mm
Enfriador de agua	Rango de control de temperatura	10–25°C
		Capacidad de enfriamiento nominal	0.75 kW
		Caudal	10 L/min
		Agua de enfriamiento	Agua purificada
Compresor de aire	Velocidad de rotación	1380 rpm
		Caudal	40 L/min
		Presión de descarga nominal	0.7 MPa
Sistema de control	PLC + pantalla táctil de 14.3 pulgadas

Nuestras ventajas

etiqueta:

Persona de Contacto: Kaitlyn Wang

Teléfono: 19376687282

Fax: 86-769-83078748

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Golpe repetitivo: 0 - 20mm

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