Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester

Name: Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester
Brand: DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD
Price: 1 USD
Availability: InStock

Alle producten

Lab Test Machine
(716)

Inkproofer
(42)

Keramische tester
(91)

Olieproefmachine
(97)

Verfproefinstallatie
(221)

Plastic testmachine
(118)

Universele trekproefmachine
(63)

De Kamer van de milieutest
(58)

Contacthoekmeter
(17)

Differentieel Aftastencalorimeter
(52)

Filmproefapparatuur
(108)

Ontvlambaarheidstester
(79)

Profielprojector
(14)

ICP-emissiespectrometer
(74)

De Machine van de trillingstest
(48)

XRF-analysator
(43)

Kleine meter
(102)

Textielproefmachine
(282)

hydraulische het testen machine
(27)

Thermische Analysator
(69)

Certificaat

CHINA DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD certificaten

Ik ben online Chatten Nu

Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester

Four-Target Magnetron Sputtering Coater with Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Alloy Membranes Sputter Tester

Grote Afbeelding : Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester

Productdetails:

Plaats van herkomst:	Guangdong, China
Merknaam:	LONROY

Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:

Min. bestelaantal:	1
Prijs:	$1,000

Contact

Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester

beschrijving

Machinetype:	Magnetron sputtercoater	Spanning:	380VAC ± 10%
Vermogen (w):	5000	Garantie:	1 jaar
gewicht (kg):	T/T
Markeren:	Magnetron-sputtercoater met vier doelen en Load-Lock-kamer , PVD dunne film coating instrument voor legeringsmembranen , Laboratoriumproefmachine Sputter Tester

Beschrijving van de producten

Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester

Een korte inleidingHet magnetron-sputteringcoatingsysteem met vier doelen is ontworpen voor de afzetting van verschillende dunne films, waaronder ferro-elektrische, geleidende, legering, halfgeleider, keramische, dielectrische, optische,oxide, hard en PTFE-folie.

Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester

Gedetailleerde inleidingDit magnetron-sputtering coating systeem met vier doelen is een kosteneffectieve eenheid die onafhankelijk door ons bedrijf is ontwikkeld, met een gestandaardiseerd, modulair en aanpasbaar ontwerp.Klanten kunnen magnetron doelen selecteren in maten variërend van 1 tot 4 inch op basis van hun substraat afmetingenHet systeem is uitgerust met 500W gelijkstroom- en 500W RF-stroomvoorzieningen; de gelijkstroomvoorziening is geschikt voor metalen folies, terwijl de RF-voorziening niet-metalen folies verwerkt.De vier-doelstelling configuratie ondersteunt meerlaagse of sequentiële coating processenOp aanvraag zijn aangepaste RF- en gepulseerde voedingsbronnen beschikbaar, met verschillende specificaties variërend van 300W tot 1000W. De uitrusting bestaat uit een hoofdkamer en een ladingsluikkamer (overgangskamer). De ladingsluikkamer is voorzien van een magnetische overdrachtsstaaf en een vacuümpoortklep scheidt de twee kamers.Dit ontwerp stelt gebruikers in staat om monsters te laden en te pre-vacuumen in de ladingsluikkamer terwijl het sputteren plaatsvindt in de hoofdkamer.Wanneer het hoofdproces is voltooid, kan het monster met behulp van de magnetische staaf op het podium van de hoofdkamer worden overgebracht.en zo tijd besparen, waarbij een superieure vacuümomgeving wordt gehandhaafd en de coatingkwaliteit effectief wordt verbeterd. Het magnetron-sputteringcoatingsysteem met vier doelen is geschikt voor het deponeren van een- of meerlaagse films zoals ferro-elektrische, geleidende, legering, halfgeleider, keramische, dielectrische, optische, oxide,In vergelijking met vergelijkbare apparatuur biedt dit magnetron-sputtersysteem met vier doelen niet alleen een brede toepassingsmogelijkheid, maar biedt het ook de voordelen van een compacte afmeting en een gemakkelijke bediening.waardoor het een ideaal hulpmiddel is voor de fabricage van dunne folie in het laboratorium.Het gehele afzettingsproces vindt plaats in een vacuümomgeving, waardoor de verdampte atomen of moleculen rechtstreeks het substraat bereiken.Dit voorkomt verontreiniging door atmosferische onzuiverheden en verbetert de filmkwaliteitBij hoge vacuümomstandigheden wordt ook de oxidatie van het bronmateriaal tot een minimum beperkt, waardoor de zuiverheid en de prestaties van de resulterende dunne film verder worden verbeterd.

Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester

Specificatie

Technische specificaties

Categorie	Artikel 1	Specificatie
Productnaam	Magnetron-sputteringcoating met vier doelen (DC-energie + RF-energie)
Productmodel	LR-CK101
Stadium van de steekproef	Afmetingen	φ150 mm
		Temperatuurcontrole nauwkeurigheid	± 1°C
		Verwarmingsbereik	Kamertemperatuur tot 900°C
		Verstelbare rotatiesnelheid	1 ′20 rpm (instelbaar)
Magnetron doelgeweren	Sputteringrichting	Neerwaartse sputtering
		Neiging van het doelhoekgebied	-45° tot +45°; voorzien van een pneumatische sluiter
		Doelmateriaal afmetingen	Diameter van 4 inch, dikte ≤ 3 mm
		Isolatiespanning	> 2000 V
		Hoeveelheid	Drie 4 inch kantelende doelen; één 4 inch vaste doelwit
		Koelmethode	Waterkoeling
Vacuümkamer	Kamertype	D-type kamer
		Afmetingen van de kamer	Φ500 mm × 500 mm
		Kamermateriaal	304 roestvrij staal
		Waarnemingsvenster	Kwartsruimte, diameter φ100 mm
		Openingsmethode	Voordeur
Gascontrole	Stroomcontrole	3-kanaals massa-stroomregulators:Reeks: 0?? 500 SCCM;Reeks: 0?? 100 SCCM;Reeks: 0?? 20 SCCM
Bipolaire pulserende magnetron-sputteringstroomvoorziening	Inlaatspanning	380 VAC ±10%, 3-fasig 4-draad systeem, 50 ∼60 Hz
		Uitgangsvermogen	0·5 kW
		Uitgangsspanning	0 ‰ 1000 V
		Uitgangsstroom	Max. 9 A (bij constant vermogen)
		Uitgangsfrequentie	1 kHz ¢ 150 kHz
		Outputkenmerken	Constante stroom / Constante vermogen / Constante spanning
		Koelmethode	Luchtkoeling
		Communicatie	0 ′5 V of 0 ′10 V analoge signaal; RS-485
		Werkcyclus	100%
		Hoeveelheid	1 eenheid
RF-stroombron	Stroomvoorziening	1000 W
		Vermogenbereik	0W ¥ 1000W
		Maximaal uitgangsvermogen	1000 W
		Maximaal gereflecteerd vermogen	130 W
		RF-frequentie	130,56 MHz (stabiliteit: ±0,005%)
		Hoeveelheid	1 eenheid
Gelijkstroomvoorziening	Kracht	1000 W
Gelijkstroomvoorziening		Hoeveelheid	2 eenheden
Moleculaire pomp	Pompsnelheid	1200 l/s
		Koelmethode	watergekoelde
		Vacuümniveau	9.0 × 10−4 Pa
		Pompsnelheid van de voorpomp	4 l/s
		Samengestelde vacuümmeter	Meetbereik 10−5 Pa ∼ 105 Pa
		Hoeveelheid	1 set
		Vacuümklep	elektrisch bediende pneumatische kleppen
Overgangskamer	Kamergrootte Geschikt voor wafers tot 6 inch
Overgangskamer		Uitgerust met moleculaire pomp:Voorpomp: VRD-4 (pompsnelheid: 1,1 L/s)Moleculaire pomp: TG60F (Japan) (pompsnelheid: 60 L/s)
Filmdikte-monitor	Hoeveelheid	1 set
		Kanalen	Eenkanaal
		Meting nauwkeurigheid	1 Å
		Standaard sensor kwartskristal	6 MHz
		Compatibele kwartskristalgrootte	φ14 mm
Waterkoeler	Temperatuursysteem	10°25°C
		Nominale koelcapaciteit	00,75 kW
		Stroompercentage	10 l/min
		Koelwater	Gezuiverd water
Aircompressor	Rotatiesnelheid	1380 t/min
		Stroompercentage	40 l/min
		Nominale ontladingsdruk	0.7 MPa
Controlesysteem	PLC + 14,3 inch touchscreen

Onze voordelen

label:

Contactpersoon: Kaitlyn Wang

Tel.: 19376687282

Fax: 86-769-83078748

Andere Producten

ISO 12156 Contactvermoeidheid slijtage-testapparatuur 5KW struikelproefmachine met 1 tot 2000 RPM en ±0,5% snelheidsregeling nauwkeurigheid

Laadbereik: 80N--30000N

Weergavefout laden: ±1%

Laadfout op lange termijn: ±1%

Motorvermogen: 5 kW

Heen en weer bewegende wrijvingstestmachine met herhaalde frequentie van 0 - 10 Hz, maximale testkracht van 800 N en herhaalde slag van 0 - 20 mm

Maximumtestkracht: 800N ±1%

herhalingsfrequentie: 0 - 10 Hz

Herhaaldelijke slag: 0 - 20mm

temperatuur testen: Kamertemperatuur tot 1200℃ ±2℃

Pin-disk tribometer 220V 50Hz-frictie- en slijttoetsmachine met een maximaal wrijvingsmoment van 1N.m en een meetnauwkeurigheid van ±2%

Maximaal wrijvingskoppel: 1n.m

Nauwkeurigheid van wrijvingskoppel: ± 2%

Diameter van het pinmonster: 4 mm optioneel

Maximale belasting: 30KG

ASTM Lab Test Machine 3000N Maximum Test Force Ring Block Tester met ±1% wrijvingskrachtnauwkeurigheid en servo volledig automatisch laden

Maximumtestkracht: 12 maanden

Maximale wrijvingskracht: 300N

Precisiteit van de wrijvingskracht: ±1%

Test Force Nauwkeurigheid: ±0,5%

Timken Analyzer Ringblok-slijtagetestmachine met 3000N maximale testkracht ± 1% nauwkeurigheid en ± 2% spilsnelheidsfout

Test Force Nauwkeurigheid: ±1%

Maximale wrijvingskracht: 300N

Spindelsnelheidsfout: ± 2%

Weergavebereik: 0-9999999

Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester

Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester

Vier-doelmagnetron Sputtering Coater met Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Legiemembranen Sputter Tester

Magnetron-sputtercoater met vier doelen en Load-Lock-kamer

PVD dunne film coating instrument voor legeringsmembranen

Laboratoriumproefmachine Sputter Tester

Wear Testing Machine 3000N,

5KW Tumble Test Machine,