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Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga/Descarga Instrumento de Revestimento de Filmes Finos PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga

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CHINA DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD Certificações
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Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga/Descarga Instrumento de Revestimento de Filmes Finos PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga

Four-Target Magnetron Sputtering Coater with Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Alloy Membranes Sputter Tester
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Imagem Grande :  Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga/Descarga Instrumento de Revestimento de Filmes Finos PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga

Detalhes do produto:
Lugar de origem: Cantão, China
Marca: LONROY
Condições de Pagamento e Envio:
Quantidade de ordem mínima: 1
Preço: $1,000
Contato

Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga/Descarga Instrumento de Revestimento de Filmes Finos PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga

descrição
Tipo de máquina: Revestidor de pulverização catódica Magnetron Tensão: 380VAC ± 10%
Potência (w): 5.000 Garantia: 1 ano
peso (kg): 600
Destacar:

Coater de pulverização catódica Magnetron de quatro alvos com câmara Load-Lock

,

Instrumento de Revestimento de Filmes Finos PVD para Membranas de Liga

,

Testador de Pulverização de Máquina de Teste de Laboratório

Descrição do Produto
Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga Rápida Instrumento de Revestimento de Filme Fino PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga

Breve Introdução O sistema de revestimento por pulverização magnétron de quatro alvos é projetado para a deposição de vários filmes finos, incluindo filmes ferroelétricos, condutores, de liga, semicondutores, cerâmicos, dielétricos, ópticos, de óxido, duros e de PTFE.
Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga Rápida Instrumento de Revestimento de Filme Fino PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga
Introdução Detalhada Este sistema de revestimento por pulverização magnétron de quatro alvos é uma unidade econômica desenvolvida independentemente por nossa empresa, apresentando um design padronizado, modular e personalizável. Os clientes podem selecionar alvos magnétron em tamanhos que variam de 1 a 4 polegadas com base nas dimensões de seus substratos. O sistema é equipado com fontes de alimentação DC de 500W e RF de 500W; a fonte DC é adequada para filmes metálicos, enquanto a fonte RF lida com filmes não metálicos. A configuração de quatro alvos suporta processos de revestimento multicamadas ou sequenciais. Fontes de alimentação RF e pulsadas personalizadas estão disponíveis mediante solicitação, com várias especificações que variam de 300W a 1000W. O equipamento consiste em uma câmara principal e uma câmara de carga rápida (câmara de transição). A câmara de carga rápida possui uma haste de transferência magnética e uma válvula de comporta a vácuo separa as duas câmaras. Este design permite que os usuários carreguem amostras e realizem pré-vácuo na câmara de carga rápida enquanto a pulverização ocorre na câmara principal. Uma vez que o processo principal é concluído, a amostra pode ser transferida para o estágio da câmara principal usando a haste magnética. Esta configuração minimiza a frequência de ciclos de vácuo da câmara principal, economizando tempo, mantendo um ambiente de vácuo superior e aprimorando efetivamente a qualidade do revestimento. O sistema de revestimento por pulverização magnétron de quatro alvos é adequado para depositar filmes de camada única ou multicamadas, como filmes ferroelétricos, condutores, de liga, semicondutores, cerâmicos, dielétricos, ópticos, de óxido, duros e de PTFE. Comparado com equipamentos semelhantes, este sistema de pulverização magnétron de quatro alvos oferece não apenas ampla aplicabilidade, mas também as vantagens de tamanho compacto e facilidade de operação, tornando-o uma ferramenta ideal para fabricação de filmes finos em laboratório. Todo o processo de deposição ocorre em um ambiente de alto vácuo, garantindo que os átomos ou moléculas evaporados alcancem o substrato diretamente; isso evita a contaminação por impurezas atmosféricas e aprimora a qualidade do filme. Condições de alto vácuo também ajudam a minimizar a oxidação do material fonte, melhorando ainda mais a pureza e o desempenho do filme fino resultante.
Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga Rápida Instrumento de Revestimento de Filme Fino PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga
Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga/Descarga Instrumento de Revestimento de Filmes Finos PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga
Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga/Descarga Instrumento de Revestimento de Filmes Finos PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga
Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga/Descarga Instrumento de Revestimento de Filmes Finos PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga
Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga Rápida Instrumento de Revestimento de Filme Fino PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga
Especificação
Especificações Técnicas
Categoria
Item
Especificação
Nome do Produto
Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos (Potência DC + Potência RF)
Modelo do Produto
LR-CK101
Estágio da Amostra
Dimensões
φ150 mm
Precisão do Controle de Temperatura
±1°C
Faixa de Aquecimento
Temperatura ambiente a 900°C
Velocidade de Rotação Ajustável
1–20 rpm (ajustável)
Canhões de Alvo Magnétron
Direção de Pulverização
Pulverização para baixo
Faixa de Ângulo de Inclinação do Alvo
-45° a +45°; equipado com obturador pneumático
Dimensões do Material do Alvo
Diâmetro de 4 polegadas, espessura ≤3 mm
Tensão de Isolamento
>2000 V
Quantidade
Três alvos inclináveis de 4 polegadas; um alvo fixo de 4 polegadas
Método de Resfriamento
Resfriamento a água
Câmara de Vácuo
Tipo de Câmara
Câmara tipo D
Dimensões da Câmara
Φ500 mm × 500 mm
Material da Câmara
Aço inoxidável 304
Janela de Observação
Janela de quartzo, diâmetro de φ100 mm
Método de Abertura
Porta de abertura frontal
Controle de Gás
Controle de Fluxo
Controladores de fluxo de massa de 3 canais:Faixa: 0–500 SCCM;Faixa: 0–100 SCCM;Faixa: 0–20 SCCM
Fonte de Alimentação Magnétron Pulsada Bipolar
Tensão de Entrada
380 VAC ±10%, sistema trifásico de 4 fios, 50–60 Hz
Potência de Saída
0–5 kW
Tensão de Saída
0–1000 V
Corrente de Saída
Máx. 9 A (em potência constante)
Frequência de Saída
1 kHz – 150 kHz
Características de Saída
Corrente constante / Potência constante / Tensão constante
Método de Resfriamento
Resfriamento a ar
Comunicação
Sinal analógico de 0–5 V ou 0–10 V; RS-485
Ciclo de Trabalho
100%
Quantidade
1 unidade
Fonte de Alimentação RF
Classificação da fonte de alimentação
1000W
Faixa de saída de potência
0W–1000W
Potência máxima de saída
1000W
Potência refletida máxima
130W
Frequência de RF
13,56 MHz (estabilidade: ±0,005%)
Quantidade
1 unidade
Fonte de Alimentação DC
Potência
1000W
Quantidade
2 unidades
Bomba Molecular
Velocidade de bombeamento
1200 L/s
Método de resfriamento
Resfriada a água
Nível de vácuo
9,0 × 10⁻⁴ Pa
Velocidade de bombeamento da bomba de vácuo
4 L/s
Medidor de Vácuo Composto
Faixa de medição 10⁻⁵ Pa – 10⁵ Pa
Quantidade
1 conjunto
Válvula de Vácuo
Válvula pneumática controlada eletricamente
Câmara de Transição
Tamanho da câmara Adequado para wafers de até 6 polegadas
Equipado com conjunto de bomba molecular:Bomba de vácuo: VRD-4 (velocidade de bombeamento: 1,1 L/s)Bomba molecular: TG60F (Japão) (velocidade de bombeamento: 60
L/s)
Monitor de Espessura de Filme
Quantidade
1 conjunto
Canais
Canal único
Precisão de medição
1 Å
Cristal de quartzo sensor padrão
6 MHz
Tamanho compatível do cristal de quartzo
φ14 mm
Chiller de Água
Faixa de controle de temperatura
10–25°C
Capacidade de resfriamento nominal
0,75 kW
Taxa de fluxo
10 L/min
Água de resfriamento
Água purificada
Compressor de Ar
Velocidade de rotação
1380 rpm
Taxa de fluxo
40 L/min
Pressão de descarga nominal
0,7 MPa
Sistema de Controle
PLC + tela sensível ao toque de 14,3 polegadas
Nossas Vantagens
Revestidora de Pulverização Magnétron de Quatro Alvos com Câmara de Carga/Descarga Instrumento de Revestimento de Filmes Finos PVD Testador de Pulverização de Membranas de Liga

etiqueta:

Máquina de Teste de Desgaste 3000N,

Máquina de Teste de Tombamento 5KW,

Máquina de Teste de Desgaste em Temperatura Elevada

Contacto
DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD

Pessoa de Contato: Kaitlyn Wang

Telefone: 19376687282

Fax: 86-769-83078748

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