Vierziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Lastverschlusskammer PVD-Dünnfilmbeschichtungsinstrument Legierungsmembranen-Sputter-Tester

Name: Vierziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Lastverschlusskammer PVD-Dünnfilmbeschichtungsinstrument Legierungsmembranen-Sputter-Tester
Brand: DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD
Price: 1 USD
Availability: InStock

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Vierziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Lastverschlusskammer PVD-Dünnfilmbeschichtungsinstrument Legierungsmembranen-Sputter-Tester

Four-Target Magnetron Sputtering Coater with Load-Lock Chamber PVD Thin Film Coating Instrument Alloy Membranes Sputter Tester

Großes Bild : Vierziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Lastverschlusskammer PVD-Dünnfilmbeschichtungsinstrument Legierungsmembranen-Sputter-Tester

Produktdetails:

Herkunftsort:	Guangdong, China
Markenname:	LONROY

Zahlung und Versand AGB:

Min Bestellmenge:	1
Preis:	$1,000

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Vierziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Lastverschlusskammer PVD-Dünnfilmbeschichtungsinstrument Legierungsmembranen-Sputter-Tester

Beschreibung

Maschinentyp:	Magnetron-Sputter-Beschichter	Stromspannung:	380 VAC ± 10%
Leistung (W):	5000	Garantie:	1 Jahr
Gewicht (kg):	600
Hervorheben:	Vier-Target-Magnetron-Sputter-Beschichter mit Schleusenkammer , PVD-Dünnschichtbeschichtungsinstrument für Legierungsmembranen , Labortestmaschine Sputter Tester

Beschreibung der Produkte

Vierziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Lastverschlusskammer PVD-Dünnfilmbeschichtungsinstrument Legierungsmembranen-Sputter-Tester

Kurze EinleitungDie vier-Ziel-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem ist für die Ablagerung von verschiedenen dünnen Filmen, einschließlich ferroelektrische, leitfähige, Legierung, Halbleiter, Keramik, dielektrische, optische,Oxid, hart und PTFE-Filme.

Vierziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Lastverschlusskammer PVD-Dünnfilmbeschichtungsinstrument Legierungsmembranen-Sputter-Tester

Ausführliche EinleitungDieses vier-Ziel-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem ist eine kostengünstige Einheit, die von unserer Firma unabhängig entwickelt wurde und ein standardisiertes, modulares und anpassbares Design aufweist.Kunden können Magnetron-Ziele in Größen von 1 bis 4 Zoll wählen, basierend auf ihren SubstratdimensionenDas System ist mit 500W Gleichspannungs- und 500W HF-Stromversorgungen ausgestattet; der Gleichspannungsvorrat eignet sich für Metallfolien, während der HF-Vorrat für nichtmetallische Folien verwendet wird.Die Vier-Ziel-Konfiguration unterstützt mehrschichtige oder sequentielle BeschichtungsprozesseAuf Anfrage sind kundenspezifische HF- und pulsierte Stromversorgungen mit verschiedenen Spezifikationen von 300 W bis 1000 W erhältlich. Die Ausrüstung besteht aus einer Hauptkammer und einer Ladungssperrkammer (Übergangskammer).Diese Konstruktion ermöglicht es den Benutzern, Proben in der Ladungssperrkammer zu laden und vorzutauben, während das Sputtern in der Hauptkammer erfolgtNach Abschluss des Hauptprozesses kann die Probe mit Hilfe des Magnetstäbels auf die Hauptkammerbühne übertragen werden.und dadurch Zeit sparen, die eine überlegene Vakuumumumgebung gewährleistet und die Beschichtungsqualität wirksam verbessert. Die vier-Ziel-Magnetron-Sputter-Beschichtungssystem eignet sich für die Ablagerung von Einzel-oder mehrschichtigen Filmen wie ferroelektrische, leitfähige, Legierung, Halbleiter, Keramik, dielektrische, optische, Oxid,Im Vergleich zu ähnlichen Geräten bietet dieses Vierziel-Magnetron-Sputtersystem nicht nur eine breite Anwendbarkeit, sondern auch die Vorteile einer kompakten Größe und einfacher Bedienung.Dies macht es zu einem idealen Werkzeug für die Herstellung von Dünnschichten im Labor.Der gesamte Ablagerungsprozess erfolgt in einer Vakuumumumgebung, wodurch sichergestellt wird, daß verdampfte Atome oder Moleküle direkt das Substrat erreichen.Dies verhindert die Kontamination durch atmosphärische Verunreinigungen und verbessert die FilmqualitätHohe Vakuumbedingungen tragen auch dazu bei, die Oxidation des Ausgangsmaterials zu minimieren und die Reinheit und Leistungsfähigkeit des resultierenden dünnen Films weiter zu verbessern.

Vierziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Lastverschlusskammer PVD-Dünnfilmbeschichtungsinstrument Legierungsmembranen-Sputter-Tester

Spezifikation

Technische Spezifikation

Kategorie	Artikel	Spezifikation
Produktbezeichnung	Ein Magnetron-Spruttering-Coater mit vier Zielen (DC-Leistung + RF-Leistung)
Produktmodell	Die in Absatz 1 genannten Anforderungen gelten nicht.
Probephase	Abmessungen	φ150 mm
		Temperatursteuerungsgenauigkeit	±1°C
		Heizbereich	Raumtemperatur auf 900°C
		Einstellbare Drehgeschwindigkeit	1 ′ 20 Rpm (verstellbar)
Magnetron-Zielpistolen	Sputterrichtung	Abwärtssputtern
		Zielwinkelbereich	-45° bis +45°; mit Luftverschluss ausgestattet
		Zielmaterialdimensionen	Durchmesser von 4 Zoll, Dicke ≤ 3 mm
		Isolierspannung	> 2000 V
		Anzahl	Drei 4-Zoll-Neigungsziele; ein 4-Zoll-Festziel
		Kühlmethode	Wasserkühlung
Vakuumkammer	Typ der Kammer	Kammer des Typs D
		Abmessungen der Kammer	Φ500 mm × 500 mm
		Material der Kammer	304 aus rostfreiem Stahl
		Beobachtungsfenster	Quarzfenster mit einem Durchmesser von φ100 mm
		Öffnungsmethode	Tür mit Vorderaufnahme
Gassteuerung	Durchflusssteuerung	3-Kanal-Massendurchflussregler:Bereich: 0?? 500 SCCMBereich: 0?? 100 SCCMBereich: 0?? 20 SCCM
Bipolare Pulsierungsanlage für Magnetronen	Eingangsspannung	380 VAC ±10%, 3-phasiges 4-drahtes System, 50 ∼ 60 Hz
		Ausgangsleistung	0 ̊5 kW
		Ausgangsspannung	0 ‰ 1000 V
		Ausgangsstrom	Max. 9 A (bei konstanter Leistung)
		Ausgangsfrequenz	1 kHz 150 kHz
		Ausgangsmerkmale	Ständiger Strom / Ständige Leistung / Ständige Spannung
		Kühlmethode	Luftkühlung
		Kommunikation	Analogsignal von 5 V oder 10 V; RS-485
		Zyklus der Arbeitszeit	100%
		Anzahl	1 Einheit
Stromversorgungsquelle	Nennwert für die Stromversorgung	1000 W
		Leistungsbereich	0W ¥ 1000W
		Maximale Ausgangsleistung	1000 W
		Höchstreflektierte Leistung	130 W
		HF-Frequenz	130,56 MHz (Stabilität: ± 0,005%)
		Anzahl	1 Einheit
Gleichstromversorgung	Macht	1000 W
Gleichstromversorgung		Anzahl	2 Einheiten
Molekulare Pumpe	Pumpgeschwindigkeit	1200 L/s
		Kühlmethode	Wasserkühlt
		Vakuumniveau	90,0 × 10−4 Pa
		Pumpengeschwindigkeit der Vorpumpe	4 L/s
		Zusammengesetzter Vakuummessgerät	Messbereich 10−5 Pa ∼ 105 Pa
		Anzahl	1 Satz
		Vakuumventil	Elektrisch gesteuerte Pneumatikventile
Übergangskammer	Größe der Kammer geeignet für Wafer bis 6 Zoll
Übergangskammer		Ausgestattet mit einer molekularen Pumpenanlage:Vorpumpe: VRD-4 (Pumpengeschwindigkeit: 1,1 L/s) Molekulare Pumpe: TG60F (Japan) (Pumpengeschwindigkeit: 60 L/s)
Filmdickenheitsmessgerät	Anzahl	1 Satz
		Kanäle	Einzelkanal
		Messgenauigkeit	1 Å
		Standard-Quarzkristall für Sensoren	6 MHz
		Kompatible Quarzkristallgröße	φ14 mm
Wasserkühler	Temperaturregelungsbereich	10°C bis 25°C
		Nennkühlleistung	00,75 kW
		Durchflussrate	10 L/min
		Kühlwasser	Reinigtes Wasser
Luftkompressor	Drehgeschwindigkeit	1380 Umdrehungen pro Minute
		Durchflussrate	40 L/min
		Nennentladungsdruck	0.7 MPa
Steuerungssystem	PLC + 14,3-Zoll-Touchscreen

Unsere Vorteile

Größe und Tag:

Ansprechpartner: Kaitlyn Wang

Telefon: 19376687282

Faxen: 86-769-83078748

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ISO 12156 Kontaktmüdigkeit Verschleißprüfungsausrüstung 5KW Sturzprüfmaschine mit 1 bis 2000 U/min und ±0,5% Geschwindigkeitssteuerungsgenauigkeit

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Anzeigefehler beim Laden: ±1 %

Langfristiger Ladefehler: ±1 %

Motorleistung: 5KW

Hin- und hergehende Reibungsprüfmaschine mit einer Wiederholfrequenz von 0–10 Hz, einer maximalen Prüfkraft von 800 N und einem Wiederholhub von 0–20 mm

Maximale Test-Kraft: 800 N ±1 %

Wiederholungsfrequenz: 0 - 10 Hz

Wiederholter Schlag: 0 - 20 mm

Prüftemperatur: Raumtemperatur bis 1200℃ ±2℃

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Maximale Test-Kraft: 3000N

Maximale Reibungskraft: 300n

Genauigkeit der Reibungskraft: ±1 %

Genauigkeit der Testkraft: ±0,5 %

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Genauigkeit der Testkraft: ±1 %

Maximale Reibungskraft: 300n

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