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高真空多弧イオンコーティングシステム 離子薄膜コーティング 離子化塗装層テスト カソド弧堆積装置

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中国 DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD 認証
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高真空多弧イオンコーティングシステム 離子薄膜コーティング 離子化塗装層テスト カソド弧堆積装置

High-Vacuum Multi-Arc Ion Coating System Ionic Thin Film Coater Ionized Plating Layer Tester Cathodic Arc Deposition Device
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大画像 :  高真空多弧イオンコーティングシステム 離子薄膜コーティング 離子化塗装層テスト カソド弧堆積装置

商品の詳細:
起源の場所: 広東省、中国
ブランド名: LONROY
お支払配送条件:
最小注文数量: 1
価格: $1,000

高真空多弧イオンコーティングシステム 離子薄膜コーティング 離子化塗装層テスト カソド弧堆積装置

説明
マシンタイプ: マルチアークイオンコーティングシステム イオン薄膜コート 電圧: 220V
電力(ワット): / 寸法(長さ*幅*高さ): 1900*800*1900mm
保証: 1年 重量(kg): 100
ハイライト:

高真空イオンコーティングシステム

,

カソド弧堆積装置

,

離子薄膜コーティング

製品説明
高真空多弧イオンコーティング装置 イオン薄膜コーター イオンめっき層テスター カソードアーク成膜装置

簡単な紹介 LR-CK107は、多成分アモルファス合金、金属化合物(酸素または窒素雰囲気下での酸化物および窒化物薄膜など)、ナノ粒子触媒膜、熱電材料ターゲットを使用した熱電薄膜の作製を目的とした高真空多弧イオンコーティング装置です。
高真空多弧イオンコーティング装置 イオン薄膜コーター イオンめっき層テスター カソードアーク成膜装置
詳細紹介 LR-CK107は、アーク放電を利用して導電性材料をイオン化します。プロセスの優れた回折特性を活用し、高エネルギーイオンを生成して基板(特にニッケルフォームなどの多孔質基板)に堆積させ、ナノスケールのコーティングまたはナノ粒子を作成します。このシステムは、コーティングチャンバー、多弧ターゲット、多弧電源、パルスバイアス電源、サンプルステージ、加熱要素、真空システム、ガス供給システム、および半自動制御システム(PLC +タッチスクリーン)で構成されています。操作を容易にするためのメインユニットと制御システムを組み合わせた統合設計と、省スペースのコンパクトな構造が特徴です。このシリーズの装置は、大学や研究機関での教育および実験研究、製造企業での予備的な探索実験および新製品開発に広く使用されており、ユーザーから高い評価を得ています。
高真空多弧イオンコーティング装置 イオン薄膜コーター イオンめっき層テスター カソードアーク成膜装置
簡単な紹介 LR-CK107は、多成分アモルファス合金、金属化合物(酸素または窒素雰囲気下での酸化物および窒化物薄膜など)、ナノ粒子触媒膜、熱電材料ターゲットを使用した熱電薄膜の作製を目的とした高真空多弧イオンコーティング装置です。
高真空多弧イオンコーティング装置 イオン薄膜コーター イオンめっき層テスター カソードアーク成膜装置
詳細紹介 LR-CK107は、アーク放電を利用して導電性材料をイオン化します。プロセスの優れた回折特性を活用し、高エネルギーイオンを生成して基板(特にニッケルフォームなどの多孔質基板)に堆積させ、ナノスケールのコーティングまたはナノ粒子を作成します。このシステムは、コーティングチャンバー、多弧ターゲット、多弧電源、パルスバイアス電源、サンプルステージ、加熱要素、真空システム、ガス供給システム、および半自動制御システム(PLC +タッチスクリーン)で構成されています。操作を容易にするためのメインユニットと制御システムを組み合わせた統合設計と、省スペースのコンパクトな構造が特徴です。このシリーズの装置は、大学や研究機関での教育および実験研究、製造企業での予備的な探索実験および新製品開発に広く使用されており、ユーザーから高い評価を得ています。
高真空多弧イオンコーティング装置 イオン薄膜コーター イオンめっき層テスター カソードアーク成膜装置
高真空多弧イオンコーティングシステム 離子薄膜コーティング 離子化塗装層テスト カソド弧堆積装置
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高真空多弧イオンコーティングシステム 離子薄膜コーティング 離子化塗装層テスト カソド弧堆積装置
高真空多弧イオンコーティング装置 イオン薄膜コーター イオンめっき層テスター カソードアーク成膜装置
仕様
技術仕様
項目
仕様
1. 真空チャンバー
φ500×H420mm、304ステンレス鋼、フロントドア開口構造。チャンバー加熱温度:室温~350±1℃。
2. 真空システム
複合分子ポンプ+直結ロータリーポンプ+高真空バルブで構成される高真空システム、およびデジタル
表示複合真空計。
3. 真空度
6.0×10-5Pa未満(無負荷、ベーキング・脱ガス後)。
4. 漏れ率
装置圧力上昇率≤0.8Pa/h。装置圧力維持:ポンプ停止後12時間で真空度≤10Pa。
5. 吸引速度
(無負荷)大気圧から5.0×10-3Paまで15分以内。
6. 基板テーブルサイズ
φ150mm、3回転ステーション。
7. 基板ステージ回転
基板回転:0~20 rpm。
8. スパッタリングターゲット
DN100ニューマグネティックフィルター多弧ターゲット 2セット
9. パルスバイアス電源
-1000V、1セット。
11. 制御方法
PLC+タッチスクリーンヒューマンマシンインターフェース半自動制御システム。
12. アラームと保護
ポンプおよび電極の水不足、過電流、過電圧、
断線などの異常状態に対してアラームを発し、対応する保護措置を実施します。完全な論理プログラムインターロック保護システム。
13. 設置面積
(ホスト)L1900×W800×H1900(mm)。
当社の強み
高真空多弧イオンコーティングシステム 離子薄膜コーティング 離子化塗装層テスト カソド弧堆積装置

連絡先の詳細
DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD

コンタクトパーソン: Kaitlyn Wang

電話番号: 19376687282

ファックス: 86-769-83078748

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