|
Λεπτομέρειες:
|
| Τύπος μηχανής: | Σύστημα επίστρωσης ιόντων πολλαπλών τόξων Ionic Thin Film Coate | Δυναμικό: | 220 V |
|---|---|---|---|
| Ισχύς (w): | / | Διάσταση (l*w*h): | 1900*800*1900 χλστ |
| Εγγύηση: | 1 Έτος | βάρος (kg): | 100 |
| Επισημαίνω: | Σύστημα Επίστρωσης Ιόντων Υψηλού Κενού,Συσκευή Καθoδικής Εκτόξευσης Ιόντων,Συσκευή Επίστρωσης Ιοντικών Λεπτών Υμενίων |
||
Είδος | Προσδιορισμός |
1. Θάλαμος κενού | Ф500×H420mm, ανοξείδωτο ατσάλι 304, δομή ανοίγματος μπροστινής πόρτας. Θερμοκρασία θέρμανσης θαλάμου: θερμοκρασία δωματίου ~ 350±1℃; |
2. Σύστημα κενού | Ένα σύστημα υψηλού κενού που αποτελείται από σύνθετη μοριακή αντλία + περιστροφική αντλία πτερυγίων απευθείας συζευγμένης + βαλβίδα υψηλού κενού και μια ψηφιακή Εμφάνιση σύνθετου μετρητή κενού. |
3. Όριο κενού | Καλύτερο από 6,0×10-5Pa (χωρίς φορτίο, μετά το ψήσιμο και την απαέρωση). |
4. Ποσοστό διαρροής | Ρυθμός ενίσχυσης πίεσης εξοπλισμού ≤0,8Pa/h. Συντήρηση πίεσης εξοπλισμού: 12 ώρες μετά τη διακοπή της αντλίας, το κενό είναι ≤10Pa. |
5. Ταχύτητα άντλησης | (Χωρίς φορτίο) Αντλείται από την ατμόσφαιρα σε 5,0×10-3Pa≤15min. |
6. Μέγεθος τραπεζιού υποστρώματος | Φ150mm, 3 σταθμοί περιστροφής; |
7. Περιστροφή σταδίου υποστρώματος | Περιστροφή υποστρώματος: 0~20 rpm; |
8. Στόχος κατάδυσης | DN100 νέο μαγνητικό φίλτρο πολλαπλών τόξων στόχου 2 σετ |
9. Παλμική τροφοδοσία ρεύματος | -1000V, 1 σετ; |
11. Μέθοδος ελέγχου | PLC+οθόνη αφής διεπαφή ανθρώπου-μηχανής ημιαυτόματο σύστημα ελέγχου. |
12. Συναγερμός και προστασία | Συναγερμός και εφαρμογή των αντίστοιχων μέτρων προστασίας για μη φυσιολογικές συνθήκες όπως έλλειψη νερού, υπερβολικό ρεύμα και υπέρταση, θραύση κυκλώματος κ.λπ. σε αντλίες και ηλεκτρόδια. Πλήρες λογικό πρόγραμμα σύστημα προστασίας μανδαλώσεως. |
13. Κατοχή γης | (Κεντρικός υπολογιστής) L1900×W800×H1900(mm). |
Υπεύθυνος Επικοινωνίας: Kaitlyn Wang
Τηλ.:: 19376687282
Φαξ: 86-769-83078748