AL-Y3500xrdf cihazı, X-ışını kırınım teknolojisini (XRD) ve X-ışını spektroskopi teknolojisini (EDS) entegre eden üst düzey bir analitik cihazdır. Esas olarak elementel bileşim analizi ve malzemelerin yapısal karakterizasyonu için kullanılır. Tek bir ölçümle, malzemenin element bileşimi, kristal yapısı, faz bileşimi ve tane boyutu gibi önemli bilgileri aynı anda elde edebilir. Malzeme bilimi, jeoloji, fizik, kimya, biyoloji, yarı iletken, katalizör karakterizasyonu, metal matris analizi ve nanoteknoloji gibi alanlarda yaygın olarak uygulanmaktadır.

Özellikler:

1.Verimli entegrasyon: Tek bir ölçüm, kırınım ve spektroskopi verilerini aynı anda elde edebilir ve geleneksel adım adım ölçümlerin zaman alıcı ve hataya açık sürecini ortadan kaldırır.
2.Yüksek hassasiyet ve doğruluk: Gelişmiş dedektörler ve algoritmalar kullanılarak, algılama sınırı ppm seviyesine kadar düşük olup, yapısal çözünürlük doğruluğu atom seviyesine ulaşır.
3.Çok fonksiyonlu genişletme: Çeşitli fonksiyonel aksesuarlar, farklı test amaçlarının ihtiyaçlarını karşılar. Çeşitli numune formlarını (toz, blok, film vb.) destekler, yüksek sıcaklık, düşük sıcaklık ve yüksek basınç gibi özel ortamlarla uyumludur ve daha kararlı tekrar ölçüm doğruluğu elde etmek için yüksek stabiliteye sahip bir X-ışını jeneratörü kontrol sistemi ile donatılmıştır.
4.Donanım entegrasyonu: İki teknolojinin optik yollarının senkronizasyonunu ve sinyal eşleşmesini sağlamak için X-ışını kaynağının, numune aşamasının ve kontrol sisteminin paylaşılması.
5.Veri füzyonu: Özel yazılım aracılığıyla kırınım desenleri ve spektral veriler birlikte analiz edilir. X-ışını kırınımından (XRD) elde edilen kristal yapı bilgisi ile X-ışını floresans spektroskopisinden (XRF) elde edilen element kompozisyonu verilerinin entegre edilmesiyle, maddenin tam boyutlu karakterizasyonu elde edilir.
6.Bilinmeyen numunelerde bir veya daha fazla kristal fazın tanımlanması aynı anda gerçekleştirilebilir ve aynı anda 40 element analiz edilebilir.
7. Birden fazla kolimatör ve güneş yarık sistemi kullanarak, tescilli fikri mülkiyet teknolojisine sahiptir.
8.Temel parametreler, ampirik katsayı yöntemi vb. dahil olmak üzere kristal yapı analizi (Rietveld yapı analizi) gerçekleştirilir.
9. Alışılmadık koşullar altında (yüksek ve düşük sıcaklıklar gibi), kristal yapı değişebilir ve birden fazla numune platformu yerleştirilebilir.

10. Filmin kristal fazı, çok katmanlı filmlerin kalınlığı, yüzey pürüzlülüğü ve yük yoğunluğu dahil olmak üzere ince film numunelerinin analizi.
11.Mikro alan örneklerinin analizi, metal malzeme dokusu ve gerilme analizi.

Teknik Parametre