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Détails sur le produit:
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| Puissance nominale: | 3KW | Tube Voltage: | 10 - 60kV |
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| Stabilité: | ≤0.005% | Garantie: | 1 an |
| Model: | AL-Y3500xrdf | Overall Dimensions: | 1320*1000*1800mm |
| Mettre en évidence: | Analyseur intégré XRD-XRF AL-Y3500xrdf,spectromètre XRF à diffraction des rayons X,analyseur XRF avec garantie |
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L'instrument AL-Y3500xrdf est un dispositif d'analyse haut de gamme qui intègre la technologie de diffraction des rayons X (XRD) et la technologie de spectroscopie des rayons X (EDS).Il est principalement utilisé pour l'analyse de la composition élémentaire et la caractérisation structurelle des matériauxGrâce à une seule mesure, il peut obtenir simultanément des informations clés telles que la composition élémentaire, la structure cristalline, la composition de phase et la taille du grain du matériau.Il est largement appliqué dans des domaines tels que la science des matériaux, la géologie, la physique, la chimie, la biologie, les semi-conducteurs, la caractérisation des catalyseurs, l'analyse des matrices métalliques et la nanotechnologie.
Caractéristiques:
1.Intégration efficace: une seule mesure permet d'obtenir simultanément des données de diffraction et de spectroscopie,élimination du processus de mesure traditionnelle étape par étape qui prend du temps et est sujette à erreurs.
2Haute sensibilité et précision: en utilisant des détecteurs et des algorithmes avancés, la limite de détection est aussi basse que le niveau en ppm, et la précision de résolution structurelle atteint le niveau atomique.
3.Extension multifonctionnelle: divers accessoires fonctionnels répondent aux besoins de différents essais. Ils prennent en charge diverses formes d'échantillons (poudre, bloc, film, etc.),sont compatibles avec des environnements spéciaux tels que les hautes températures, à basse température et haute pression, et sont équipés d'un système de commande de générateur à rayons X de haute stabilité pour obtenir une précision de mesure répétée plus stable.
4Intégration matérielle: partage de la source de rayons X, du stade d'échantillonnage et du système de contrôle pour assurer la synchronisation des voies optiques et la correspondance des signaux des deux technologies.
5.Fusion des données: grâce à un logiciel dédié, les modèles de diffraction et les données spectrales sont analysés conjointement.En intégrant les informations sur la structure cristalline provenant de la diffraction par rayons X (XRD) et les données de composition élémentaire provenant de la spectroscopie par fluorescence par rayons X (XRF), la caractérisation complète de la substance est obtenue.
6L'identification d'une ou de plusieurs phases cristallines dans des échantillons inconnus peut être réalisée simultanément et 40 éléments peuvent être analysés en même temps.
7Utilisant plusieurs collimateurs et un système de fente solaire, il dispose d'une technologie de propriété intellectuelle exclusive.
8L'analyse de la structure cristalline (analyse de la structure de Rietveld) est réalisée, y compris les paramètres de base, la méthode empirique des coefficients, etc.
9Dans des conditions non conventionnelles (tels que des températures élevées et basses), la structure cristalline peut changer et plusieurs plates-formes d'échantillonnage peuvent être utilisées.
10Analyse d'échantillons de films minces, y compris la phase cristalline du film, l'épaisseur des films multicouches, la rugosité de la surface et la densité de charge.
11Analyse des échantillons de micro-zone, texture des matériaux métalliques et analyse des contraintes.
Paramètre technique
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Puissance nominale |
3 kW (technologie de régulation haute tension haute fréquence) |
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Voltage du tube |
10 à 60 kV |
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Courant du tube |
5 à 50 mA |
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Tubes à rayons X |
Tubes métalliques en céramique, matériaux: Cu, Fe, Co, Cr, Mo, etc., puissance: 2,4 kW |
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Taille du point focal |
1 × 10 mm, 0,4 × 14 mm, 2 × 12 mm |
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Stabilité |
≤ 0,005% |
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Plage de détection des éléments |
Le produit doit être présenté sous forme d'une couche d'eau. |
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Structure du goniomètre |
Échantillon horizontal (θ - θ) |
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Radius du cercle de diffraction |
225 mm (ou personnalisé selon les besoins: 185 - 325 mm en option) |
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Épaisseur de détection |
Couche de revêtement métallique d'épaisseur analyseable 0,0025 μm |
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Plage de mesure du contenu des éléments |
1 ppm - 99,99% |
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2θ Plage de mesure |
- 110° à 168° |
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Vitesse de balayage |
0Pour les appareils à commande numérique, la valeur de l'échantillon doit être égale ou supérieure à: |
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Vitesse de positionnement angulaire |
1500°/min |
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Mode de numérisation |
θ/s/θ/dL'effet de l'action est le même pour tous les composés. |
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Angle de pas minimum |
1/10000° |
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Répétabilité angulaire |
1/10000° |
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2θ Liniarité angulaire |
La déviation angulaire de tous les pics dans la gamme de spectre complet des échantillons standards internationaux (Je sais.2O3) ne dépasse pas ±0,01° |
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Détecteur |
Détecteur de scintillation (SC), détecteur à photon unique, détecteur à haut débit + détecteur d'énergie haute résolution |
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Taux de comptage linéaire maximal |
5×105CPS (SC avec fonction de compensation du nombre de déversements), 3×105CPS (photon unique), 9×105CPS (array), 1,5×105CPS (énergie) |
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Résolution énergétique |
≤ 50% (SC), ≤ 200eV (photon unique), ≤ 25% (array), ≤ 140eV (énergie) |
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Mode de comptage |
Mode différentiel ou intégral, PHA automatique, correction du temps mort |
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Stabilité de mesure du système |
≤ 0,01% |
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Dose de rayonnement dispersée |
≤ 1 μSv/h (sauf dispositif de protection contre les rayons X) |
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Stabilité globale de l'instrument |
≤ 0,1% |
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Dimensions globales |
Pour les pièces de rechange, voir les notes de bas de page. |
Personne à contacter: Ms. Kaitlyn Wang
Téléphone: 19376687282
Télécopieur: 86-769-83078748