|
Productdetails:
|
| Nominale kracht: | 3 kW | Tube Voltage: | 10 - 60kV |
|---|---|---|---|
| Stabiliteit: | ≤0.005% | Garantie: | 1 jaar |
| Model: | AL-Y3500xrdf | Overall Dimensions: | 1320*1000*1800mm |
| Markeren: | XRD-XRF geïntegreerde analysator AL-Y3500xrdf,X-ray diffractie XRF-spectrometer,XRF-analysator met garantie |
||
Het AL-Y3500xrdf-instrument is een geavanceerd analytisch apparaat dat röntgendiffractietechnologie (XRD) en röntgenspectroscopietechnologie (EDS) integreert. Het wordt voornamelijk gebruikt voor de analyse van de elementaire samenstelling en de structurele karakterisering van materialen. Via een enkele meting kan het tegelijkertijd belangrijke informatie verkrijgen, zoals de elementaire samenstelling, kristalstructuur, fasesamenstelling en korrelgrootte van het materiaal. Het wordt veel toegepast op gebieden als materiaalkunde, geologie, natuurkunde, scheikunde, biologie, halfgeleiders, karakterisering van katalysatoren, analyse van metaalmatrixen en nanotechnologie.
Functies:
1.Efficiënte integratie: Met één enkele meting kunnen tegelijkertijd diffractie- en spectroscopiegegevens worden verkregen, waardoor het tijdrovende en foutgevoelige proces van traditionele stapsgewijze metingen wordt geëlimineerd.
2. Hoge gevoeligheid en nauwkeurigheid: met behulp van geavanceerde detectoren en algoritmen is de detectielimiet zo laag als het ppm-niveau en bereikt de nauwkeurigheid van de structurele resolutie het atomaire niveau.
3.Multifunctionele uitbreiding: verschillende functionele accessoires voldoen aan de behoeften van verschillende testdoeleinden. Ze ondersteunen verschillende monstervormen (poeder, blok, film, enz.), zijn compatibel met speciale omgevingen zoals hoge temperaturen, lage temperaturen en hoge druk, en zijn uitgerust met een uiterst stabiel röntgengeneratorbesturingssysteem om een stabielere nauwkeurigheid van herhaalde metingen te bereiken.
4.Hardware-integratie: het delen van de röntgenbron, het monsterplatform en het besturingssysteem om de synchronisatie van de optische paden en signaalmatching van de twee technologieën te garanderen.
5. Datafusie: Via speciale software worden de diffractiepatronen en spectrale gegevens gezamenlijk geanalyseerd. Door de kristalstructuurinformatie van röntgendiffractie (XRD) en de elementaire samenstellingsgegevens van röntgenfluorescentiespectroscopie (XRF) te integreren, wordt de volledige dimensionale karakterisering van de stof bereikt.
6. Identificatie van een of meer kristalfasen in onbekende monsters kan gelijktijdig worden uitgevoerd en 40 elementen kunnen tegelijkertijd worden geanalyseerd.
7. Het maakt gebruik van meerdere collimators en een zonne-spleetsysteem en beschikt over gepatenteerde technologie voor intellectueel eigendom.
8. Er wordt kristalstructuuranalyse (Rietveld-structuuranalyse) uitgevoerd, inclusief basisparameters, empirische coëfficiëntenmethode, enz.
9. Onder onconventionele omstandigheden (zoals hoge en lage temperaturen) kan de kristalstructuur veranderen en kunnen meerdere monsterplatforms worden ondergebracht.
10. Analyse van dunne-filmmonsters, inclusief de kristalfase van de film, de dikte van meerlaagse films, oppervlakteruwheid en ladingsdichtheid.
11. Analyse van monsters van microgebieden, textuur van metaalmateriaal en spanningsanalyse.
Technische parameter
|
Nominaal vermogen |
3kW (hoogfrequente hoogspanningsregeltechnologie) |
|
Buisspanning |
10 - 60 kV |
|
Buisstroom |
5 - 50 mA |
|
Röntgenbuis |
Metalen keramische buis, materialen: Cu, Fe, Co, Cr, Mo, enz., vermogen: 2,4 kW |
|
Brandpuntsgrootte |
1×10mm, 0,4×14mm, 2×12mm |
|
Stabiliteit |
≤0,005% |
|
Elementdetectiebereik |
Na (natrium) ~ U (uraan) |
|
Goniometer-structuur |
Monster horizontaal (θ - θ) |
|
Diffractiecirkelradius |
225 mm (of naar wens aangepast: 185 - 325 mm optioneel) |
|
Detectie dikte |
Analyseerbare metaalcoatinglaag met een dikte van 0,0025 μm |
|
Meetbereik elementinhoud |
1PPM - 99,99% |
|
2θ meetbereik |
- 110° ~ 168° |
|
Scansnelheid |
0,0012° ~ 50°/min |
|
Hoekpositioneringssnelheid |
1500°/min |
|
Scanmodus |
θ/s/θ/dkoppeling, enkele actie; continu, stapsgewijs, 0 mg |
|
Minimale staphoek |
1/10000° |
|
Hoekige herhaalbaarheid |
1/10000° |
|
2θ Hoeklineariteit |
De hoekafwijking van alle pieken binnen het volledige spectrumbereik van internationale standaardmonsters (Si, Al2O3) niet groter is dan ±0,01° |
|
Detector |
Scintillatiedetector (SC), enkelvoudige fotondetector, hogesnelheidsarraydetector + energiedetector met hoge resolutie |
|
Maximale lineaire telsnelheid |
5×10⁵CPS (SC met compensatiefunctie voor overlooptellingen), 3×10⁵CPS (enkel foton), 9×10⁵CPS (array), 1,5×10⁵CPS (energie) |
|
Energieresolutie |
≤50% (SC), ≤200eV (enkel foton), ≤25% (array), ≤140eV (energie) |
|
Telmodus |
Differentiële of integrale modus, automatische PHA, dode tijdcorrectie |
|
Stabiliteit van systeemmetingen |
≤0,01% |
|
Verspreide stralingsdosis |
≤1μSv/h (behalve röntgenbeschermingsapparaat) |
|
Uitgebreide stabiliteit van instrumenten |
≤0,1% |
|
Algemene afmetingen |
1320×1000×1800mm |
Contactpersoon: Ms. Kaitlyn Wang
Tel.: 19376687282
Fax: 86-769-83078748