logo
Thuis ProductenXRF-analysator

XRD-XRF Geïntegreerde analysator AL-Y3500xrdf Röntgendiffractie-instrument XRF-spectrometer XRF-analysator XRF-analysator XRF Ana

Certificaat
CHINA DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD certificaten
CHINA DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD certificaten
Ik ben online Chatten Nu

XRD-XRF Geïntegreerde analysator AL-Y3500xrdf Röntgendiffractie-instrument XRF-spectrometer XRF-analysator XRF-analysator XRF Ana

XRD-XRF Integrated Analyzer AL-Y3500xrdf X-ray Diffraction Instrument XRF Spectrometer XRF Analyzer XRF Analyzer XRF Ana
XRD-XRF Integrated Analyzer AL-Y3500xrdf X-ray Diffraction Instrument XRF Spectrometer XRF Analyzer XRF Analyzer XRF Ana

Grote Afbeelding :  XRD-XRF Geïntegreerde analysator AL-Y3500xrdf Röntgendiffractie-instrument XRF-spectrometer XRF-analysator XRF-analysator XRF Ana

Productdetails:
Plaats van herkomst: China
Merknaam: Lonroy
Certificering: ISO ASTM CE
Model Number: AL-Y3500xrdf
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:
Min. bestelaantal: 1
Prijs: Negotaible
Verpakking Details: houten pakket
Levertijd: 5-8 werkdagen
Betalingscondities: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Levering vermogen: 200

XRD-XRF Geïntegreerde analysator AL-Y3500xrdf Röntgendiffractie-instrument XRF-spectrometer XRF-analysator XRF-analysator XRF Ana

beschrijving
Nominale kracht: 3 kW Tube Voltage: 10 - 60kV
Stabiliteit: ≤0.005% Garantie: 1 jaar
Model: AL-Y3500xrdf Overall Dimensions: 1320*1000*1800mm
Markeren:

XRD-XRF geïntegreerde analysator AL-Y3500xrdf

,

X-ray diffractie XRF-spectrometer

,

XRF-analysator met garantie

XRD-XRF Geïntegreerde analysator AL-Y3500xrdf Röntgendiffractie-instrument XRF-spectrometer XRF-analysator XRF-analysator XRF Ana

XRD-XRF Geïntegreerde analysator AL-Y3500xrdf Röntgendiffractie-instrument XRF-spectrometer

Beschrijving:

Het AL-Y3500xrdf-instrument is een geavanceerd analytisch apparaat dat röntgendiffractietechnologie (XRD) en röntgenspectroscopietechnologie (EDS) integreert. Het wordt voornamelijk gebruikt voor de analyse van de elementaire samenstelling en de structurele karakterisering van materialen. Via een enkele meting kan het tegelijkertijd belangrijke informatie verkrijgen, zoals de elementaire samenstelling, kristalstructuur, fasesamenstelling en korrelgrootte van het materiaal. Het wordt veel toegepast op gebieden als materiaalkunde, geologie, natuurkunde, scheikunde, biologie, halfgeleiders, karakterisering van katalysatoren, analyse van metaalmatrixen en nanotechnologie.


Functies:

1.Efficiënte integratie: Met één enkele meting kunnen tegelijkertijd diffractie- en spectroscopiegegevens worden verkregen, waardoor het tijdrovende en foutgevoelige proces van traditionele stapsgewijze metingen wordt geëlimineerd.
2. Hoge gevoeligheid en nauwkeurigheid: met behulp van geavanceerde detectoren en algoritmen is de detectielimiet zo laag als het ppm-niveau en bereikt de nauwkeurigheid van de structurele resolutie het atomaire niveau.
3.Multifunctionele uitbreiding: verschillende functionele accessoires voldoen aan de behoeften van verschillende testdoeleinden. Ze ondersteunen verschillende monstervormen (poeder, blok, film, enz.), zijn compatibel met speciale omgevingen zoals hoge temperaturen, lage temperaturen en hoge druk, en zijn uitgerust met een uiterst stabiel röntgengeneratorbesturingssysteem om een ​​stabielere nauwkeurigheid van herhaalde metingen te bereiken.
4.Hardware-integratie: het delen van de röntgenbron, het monsterplatform en het besturingssysteem om de synchronisatie van de optische paden en signaalmatching van de twee technologieën te garanderen.
5. Datafusie: Via speciale software worden de diffractiepatronen en spectrale gegevens gezamenlijk geanalyseerd. Door de kristalstructuurinformatie van röntgendiffractie (XRD) en de elementaire samenstellingsgegevens van röntgenfluorescentiespectroscopie (XRF) te integreren, wordt de volledige dimensionale karakterisering van de stof bereikt.
6. Identificatie van een of meer kristalfasen in onbekende monsters kan gelijktijdig worden uitgevoerd en 40 elementen kunnen tegelijkertijd worden geanalyseerd.
7. Het maakt gebruik van meerdere collimators en een zonne-spleetsysteem en beschikt over gepatenteerde technologie voor intellectueel eigendom.
8. Er wordt kristalstructuuranalyse (Rietveld-structuuranalyse) uitgevoerd, inclusief basisparameters, empirische coëfficiëntenmethode, enz.
9. Onder onconventionele omstandigheden (zoals hoge en lage temperaturen) kan de kristalstructuur veranderen en kunnen meerdere monsterplatforms worden ondergebracht.

10. Analyse van dunne-filmmonsters, inclusief de kristalfase van de film, de dikte van meerlaagse films, oppervlakteruwheid en ladingsdichtheid.
11. Analyse van monsters van microgebieden, textuur van metaalmateriaal en spanningsanalyse.


Technische parameter

Nominaal vermogen

3kW (hoogfrequente hoogspanningsregeltechnologie)

Buisspanning

10 - 60 kV

Buisstroom

5 - 50 mA

Röntgenbuis

Metalen keramische buis, materialen: Cu, Fe, Co, Cr, Mo, enz., vermogen: 2,4 kW

Brandpuntsgrootte

1×10mm, 0,4×14mm, 2×12mm

Stabiliteit

≤0,005%

Elementdetectiebereik

Na (natrium) ~ U (uraan)

Goniometer-structuur

Monster horizontaal (θ - θ)

Diffractiecirkelradius

225 mm (of naar wens aangepast: 185 - 325 mm optioneel)

Detectie dikte

Analyseerbare metaalcoatinglaag met een dikte van 0,0025 μm

Meetbereik elementinhoud

1PPM - 99,99%

2θ meetbereik

- 110° ~ 168°

Scansnelheid

0,0012° ~ 50°/min

Hoekpositioneringssnelheid

1500°/min

Scanmodus

θ/s/θ/dkoppeling, enkele actie; continu, stapsgewijs, 0 mg

Minimale staphoek

1/10000°

Hoekige herhaalbaarheid

1/10000°

2θ Hoeklineariteit

De hoekafwijking van alle pieken binnen het volledige spectrumbereik van internationale standaardmonsters (Si, Al2O3) niet groter is dan ±0,01°

Detector

Scintillatiedetector (SC), enkelvoudige fotondetector, hogesnelheidsarraydetector + energiedetector met hoge resolutie

Maximale lineaire telsnelheid

5×10⁵CPS (SC met compensatiefunctie voor overlooptellingen), 3×10⁵CPS (enkel foton), 9×10⁵CPS (array), 1,5×10⁵CPS (energie)

Energieresolutie

≤50% (SC), ≤200eV (enkel foton), ≤25% (array), ≤140eV (energie)

Telmodus

Differentiële of integrale modus, automatische PHA, dode tijdcorrectie

Stabiliteit van systeemmetingen

≤0,01%

Verspreide stralingsdosis

≤1μSv/h (behalve röntgenbeschermingsapparaat)

Uitgebreide stabiliteit van instrumenten

≤0,1%

Algemene afmetingen

1320×1000×1800mm


Contactgegevens
DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD

Contactpersoon: Ms. Kaitlyn Wang

Tel.: 19376687282

Fax: 86-769-83078748

Direct Stuur uw aanvraag naar ons (0 / 3000)