| タイプ: | テストマシン | 精度クラス: | 高精度 |
|---|---|---|---|
| 正確さ: | / | 応用: | 自動テスト |
| カスタマイズされたサポート: | OEM、ODM、OBM | 力: | - |
| 保護クラス: | IP56 | 電圧: | 220 v |
| 保証: | 1年 | 再現性測定精度: | 0.01Nm |
| 入射角範囲: | 45〜90° | マッピングストローク: | 100*100mm (オプション) |
| サポートされているサンプルサイズ: | 200mmまで | ||
| ハイライト: | 光譜エリプソメーター実験機,メーピングスペクトロスコピカル・エリプソメーター,光谱エリプソメトリ試験装置 |
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マッピング分光エリプソメーター スペクトルエリプソメーター 分光エリプソメトリー機械の工場価格
I. 概要
ME-Mapping Spectral Ellipsometer は、マッピングが可能なカスタマイズ可能なマッピング測定分光計です。自動マッピング測定モジュールが装備されており、偏光解析パラメータと透過/反射率の測定を通じて、膜厚と光学パラメータの自己定義のマッピング測定特性評価と分析を迅速に実現できます。
1.偏光解析マッピングと基板全体の測定のための完全なソリューション。
2.ワンクリックの測定図面により、製品設計と機能モジュールのカスタマイズをサポートします。
3.マッピング モジュールを構成して、基板全体のカスタム多点位置測定機能を有効にします。
4.豊富なデータベースと幾何構造モデル ライブラリにより、強力なデータ分析機能が保証されます。
II.製品の特徴
1.重水素ランプとハロゲンランプの複合光源を採用し、スペクトル領域は紫外から近赤外(193~2500nm)までをカバーします。
2.高精度の回転補償器変調と PCRSA 構成により、Psi/Delta スペクトル データを高速に取得できます。
3.基板全体の多点自動位置決め測定を完全にカスタマイズする機能があり、包括的な膜厚検出および分析レポートを提供します。
4.現在の太陽光発電材料の大部分をカバーする、何百もの材料データベースと複数のアルゴリズム モデル ライブラリが利用可能です。
Ⅲ.製品の用途
ME マッピングは、OLED、LED、太陽光発電、集積回路などの産業用途で広く使用されており、大面積の基板膜厚、光学定数、膜厚分布の迅速な測定と特性評価を可能にします。
マッピング分光エリプソメーター スペクトルエリプソメーター 分光エリプソメトリー機械の工場価格
技術仕様
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モデル |
MEマッピング |
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アプリケーションの位置付け |
自動タイプ |
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基本機能 |
Psi/Delta、N/C/S、R/T、その他のスペクトル |
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分析スペクトル |
380~1000nm (193~1650nmまでの拡張をサポート) |
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1回の測定時間 |
S15s |
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再現性測定精度 |
0.01nm |
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スポットサイズ |
ラージスポット2~4mm、マイクロスポット200um/100um |
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屈折率再現精度 |
0.0005
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入射角範囲 |
45〜90° |
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入射角調整方法 |
自動可変角度 |
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フォーカス方式 |
オートフォーカス |
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マッピングストローク |
100*100mm (オプション) |
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サポートされているサンプルサイズ |
200mmまで |
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コンタクトパーソン: Kaitlyn Wang
電話番号: 19376687282
ファックス: 86-769-83078748