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Produktdetails:
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| Typ: | Testmaschine | Genauigkeitsklasse: | Hohe Genauigkeit |
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| Genauigkeit: | / | Anwendung: | Autotests |
| Maßgeschneiderte Unterstützung: | OEM, ODM, OBM | Leistung: | - |
| Schutzklasse: | IP56 | Stromspannung: | 220 V |
| Garantie: | 1 Jahr | Genauigkeit der Wiederholbarkeitsmessung: | 0.01Nm |
| Einfallswinkelbereich: | 45-90° | Kartierungsstrich: | 100*100mm (optional) |
| Unterstützte Stichprobengröße: | Bis 200mm | ||
| Hervorheben: | Spektroskopischer Ellipsometer Labormaschine,Spektroskopisches Ellipsometer für die Kartierung,Spektroskopische Ellipsometrie-Prüfmaschine |
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Mapping Spektroskopisches Ellipsometer Spektralellipsometer Spektroskopische Ellipsometriemaschine Fabrikpreis
I. Übersicht
Das ME-Mapping Spectral Ellipsometer ist ein anpassbares Mapping-Messspektrometer, das Mapping durchführen kann. Es ist mit einem automatischen Mapping-Messmodul ausgestattet und kann durch die Messung ellipsometrischer Parameter und Transmissions-/Reflexionsraten schnell eine selbstdefinierte Mapping-Messcharakterisierung und Analyse von Filmdicke und optischen Parametern durchführen.
1.Komplettlösung für die ellipsometrische Kartierung und Vermessung des gesamten Substrats;
2.Unterstützt Produktdesign und Anpassung von Funktionsmodulen mit Ein-Klick-Messzeichnung;
3.Konfigurieren Sie das Mapping-Modul und ermöglichen Sie so die vollständige, benutzerdefinierte Multipunkt-Positionierungsmessung des Substrats.
4.Die umfangreiche Datenbank und die Bibliothek mit geometrischen Strukturmodellen gewährleisten eine leistungsstarke Datenanalysefähigkeit.
II. Produktmerkmale
1.Es kommt eine zusammengesetzte Lichtquelle aus Deuteriumlampen und Halogenlampen zum Einsatz, deren Spektralbereich von Ultraviolett bis Nahinfrarot (193 – 2500 nm) reicht.
2.Hochpräzise Rotationskompensatormodulation und PCRSA-Konfiguration ermöglichen die Hochgeschwindigkeitserfassung von Psi/Delta-Spektraldaten.
3.Es ist in der Lage, die automatische Mehrpunkt-Positionierungsmessung für das gesamte Substrat vollständig anzupassen und bietet umfassende Berichte zur Schichtdickenerkennung und -analyse.
4.Es stehen Hunderte von Materialdatenbanken und mehrere Algorithmenmodellbibliotheken zur Verfügung, die die überwiegende Mehrheit der aktuellen Photovoltaikmaterialien abdecken.
III. Produktanwendungen
ME-Mapping wird häufig in industriellen Anwendungen wie OLED, LED, Photovoltaik und integrierten Schaltkreisen eingesetzt und ermöglicht eine schnelle Messung und Charakterisierung großflächiger Substratfilmdicken, optischer Konstanten und Filmdickenverteilung.
Mapping Spektroskopisches Ellipsometer Spektralellipsometer Spektroskopische Ellipsometriemaschine Fabrikpreis
Technische Spezifikation
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Modell |
ME-Mapping |
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Anwendungspositionierung |
Automatischer Typ |
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Grundfunktionen |
Psi/Delta, N/C/S, R/T und andere Spektren |
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Analytisches Spektrum |
380–1000 nm (unterstützte Erweiterung auf 193–1650 nm) |
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Einzelne Messzeit |
S15s |
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Genauigkeit der Wiederholbarkeitsmessung |
0,01 nm |
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Spotgröße |
Großer Spot 2–4 mm, Mikrospot 200 µm/100 µm |
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Wiederholgenauigkeit des Brechungsindex |
0,0005
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Einfallswinkelbereich |
45-90° |
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Methode zur Einstellung des Einfallswinkels |
Automatisch variabler Winkel |
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Fokusmethode |
Automatischer Fokus |
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Kartierungsstrich |
100*100mm (optional) |
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Unterstützte Stichprobengröße |
Bis zu 200 mm |
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Ansprechpartner: Kaitlyn Wang
Telefon: 19376687282
Faxen: 86-769-83078748