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I. Visão geral

O ELIPSOMETRO ESPECTRAL ME-Mapping é um espectrômetro de medição de mapeamento personalizável capaz de mapear. It is equipped with an automatic Mapping measurement module and can quickly achieve self-defined mapping measurement characterization and analysis of film thickness and optical parameters through the measurement of ellipsometric parameters and transmission/reflection rates.

1.Solução completa para mapeamento e medição ellipsométrica de todo o substrato;

2.Suporta o design de produtos e a personalização de módulos funcionais, com desenho de medição com um clique;

3.Configurar o módulo de mapeamento, permitindo a capacidade de medição de posicionamento multiponto personalizado do substrato completo;

4.A abundante base de dados e biblioteca de modelos de estrutura geométrica garantem uma poderosa capacidade de análise de dados.

II. Características do produto

1.É adotada uma fonte de luz composta, constituída por lâmpadas de deutério e de halogénio, cuja gama espectral abrange os raios ultravioleta e infravermelhos próximos (193-2500 nm).

2.A modulação do compensador de rotação de alta precisão e a configuração PCRSA permitem a aquisição de dados espectral Psi/Delta de alta velocidade.

3.Possui a capacidade de personalizar totalmente a medição automática de posicionamento em vários pontos para todo o substrato e fornece relatórios abrangentes de detecção e análise da espessura do filme;

4.São disponíveis centenas de bases de dados de materiais e várias bibliotecas de modelos de algoritmos, que abrangem a grande maioria dos materiais fotovoltaicos actuais.

III. Aplicações dos produtos 

O ME-Mapping é amplamente utilizado em aplicações industriais como OLED, LED, fotovoltaicos e circuitos integrados, permitindo a medição e caracterização rápidas da espessura da película de substrato de grande área,constantes ópticas, e distribuição da espessura da película.

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Especificação técnica