|
Szczegóły Produktu:
|
| Typ: | Maszyna testowa | Klasa dokładności: | Wysoka dokładność |
|---|---|---|---|
| Dokładność: | / | Aplikacja: | Testowanie automatyczne |
| Indywidualne wsparcie: | OEM, ODM, OBM | Moc: | -- |
| Klasa ochrony: | IP56 | Woltaż: | 220 V |
| Gwarancja: | 1 rok | Dokładność pomiaru powtarzalności: | 0,01 nm |
| Zakres kąta padania: | 45-90° | Mapowanie udaru: | 100*100mm (opcjonalnie) |
| Obsługiwany rozmiar próbki: | do 200mm | ||
| Podkreślić: | Spectroscopic ellipsometer laboratory machine,mapping spectroscopic ellipsometer,spectroscopic ellipsometry test machine |
||
Mapowanie spektroskopowego elipsometru Spektroskopowy elipsometr Spektroskopowa maszyna elipsometryczna Cena fabryczna
I. Przegląd
Elipsometr spektralny ME-Mapping to konfigurowalny spektrometr do pomiaru mapowania, który umożliwia mapowanie. Jest wyposażony w automatyczny moduł pomiarowy Mapping i może szybko osiągnąć samodzielnie zdefiniowaną charakterystykę pomiarów mapowania oraz analizę grubości folii i parametrów optycznych poprzez pomiar parametrów elipsometrycznych i współczynników transmisji/odbicia.
1.Kompletne rozwiązanie do mapowania elipsometrycznego i pomiaru całego podłoża;
2.Obsługuje projektowanie produktów i dostosowywanie modułów funkcjonalnych za pomocą rysunku pomiarowego jednym kliknięciem;
3.Skonfiguruj moduł mapowania, umożliwiający pełny, niestandardowy, wielopunktowy pomiar pozycjonowania podłoża;
4.Bogata baza danych i biblioteka modeli konstrukcji geometrycznych zapewniają potężne możliwości analizy danych.
II. Cechy produktu
1.Zastosowano kompozytowe źródło światła składające się z lamp deuterowych i lamp halogenowych o zakresie widmowym od ultrafioletu do bliskiej podczerwieni (193 - 2500 nm).
2.Precyzyjna modulacja kompensatora rotacji i konfiguracja PCRSA umożliwiają szybką akwizycję danych widmowych Psi/Delta.
3.Ma możliwość pełnego dostosowania wielopunktowego automatycznego pomiaru pozycjonowania dla całego podłoża i zapewnia kompleksowe raporty dotyczące wykrywania i analizy grubości warstwy;
4.Dostępne są setki baz danych materiałów i wiele bibliotek modeli algorytmów, obejmujących zdecydowaną większość obecnych materiałów fotowoltaicznych.
III. Aplikacje produktów
ME-Mapping jest szeroko stosowany w zastosowaniach przemysłowych, takich jak OLED, LED, fotowoltaika i obwody scalone, umożliwiając szybki pomiar i charakterystykę grubości warstwy podłoża na dużej powierzchni, stałych optycznych i rozkładu grubości warstwy.
Mapowanie spektroskopowego elipsometru Spektroskopowy elipsometr Spektroskopowa maszyna elipsometryczna Cena fabryczna
Specyfikacja techniczna
|
Model |
Mapowanie ME |
|
Pozycjonowanie aplikacji |
Typ automatyczny |
|
Podstawowe funkcje |
Widma Psi/Delta, N/C/S, R/T i inne |
|
Widmo analityczne |
380-1000nm (obsługa rozszerzenia do 193-1650nm) |
|
Czas pojedynczego pomiaru |
S15 |
|
Dokładność pomiaru powtarzalności |
0,01 nm |
|
Rozmiar plamki |
Duża plamka 2-4mm, mikrokropka 200um/100um |
|
Dokładność powtarzalności współczynnika załamania światła |
0,0005
|
|
Zakres kąta padania |
45-90° |
|
Metoda regulacji kąta padania |
Automatyczny zmienny kąt |
|
Metoda skupienia |
Automatyczne ustawianie ostrości |
|
Mapowanie udaru |
100*100mm (opcjonalnie) |
|
Obsługiwany rozmiar próbki |
Do 200 mm |
![]()
![]()
![]()
![]()
Osoba kontaktowa: Kaitlyn Wang
Tel: 19376687282
Faks: 86-769-83078748