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Datos del producto:
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| Tipo: | Máquina de prueba | Clase de precisión: | Alta precisión |
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| Exactitud: | / | Solicitud: | Prueba automática |
| soporte personalizado: | OEM, ODM, OBM | Fuerza: | --- |
| Clase de protección: | IP56 | Voltaje: | 220 V, Otro |
| Garantía: | 1 año | Interfaz de datos: | Conectividad de datos del sistema MES compatible |
| Resaltar: | elipsómetro espectroscópico probador de película delgada,máquina de prueba de espesor de nanopelícula,probador de índice de refracción de elipsometría espectral |
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Elipsómetro Espectral Elipsómetro Espectroscópico Medidor de Índice de Refracción de Espesor de Película Delgada Máquina de Prueba de Espesor de Nanopelícula
I. Resumen
Los elipsómetros de la serie ES son elipsómetros espectroscópicos de alta precisión y acceso rápido de LONROY diseñados para entornos de investigación e industriales, que cubren el rango de longitud de onda ultravioleta, visible e infrarrojo.
Basados en una unidad de detección de alta sensibilidad y software de análisis de elipsometría, los elipsómetros de la serie ES se utilizan para medir los parámetros de la estructura de capas (por ejemplo, espesor) y los parámetros físicos (por ejemplo, índice de refracción n, coeficiente de extinción k, o funciones dieléctricas ε1 y ε2) de nanofilms de capa simple y multicapa. También se pueden utilizar para medir las propiedades ópticas de materiales a granel. Las muestras medibles incluyen:
1) Espesor de película d y parámetros físicos (por ejemplo, índice de refracción n, coeficiente de extinción k, o funciones dieléctricas ε1 y ε2) de muestras nanoestructuradas de capa simple y multicapa;
2) Parámetros físicos (por ejemplo, índice de refracción n, coeficiente de extinción k, o funciones dieléctricas ε1 y ε2) de materiales a granel;
3) Reflectividad R de la muestra;
4) Transmitancia T de la muestra (no compatible con ángulos fijos o para uso con micro-puntos);
5) Medición en modo de dispersión (solo para la serie 02 con variación automática de ángulo independiente).
Además, el instrumento está equipado con un potente software de medición y análisis de elipsometría espectral.
II. Características Técnicas
(1) Tecnología de medición con compensador giratorio: El rango de medición del ángulo de elipsometría Δ es de 0-360°, sin puntos ciegos. ES es un compensador de rotación simple que puede medir los 12 elementos de la matriz de Mueller de una muestra, eliminando la influencia de los efectos de despolarización causados por superficies rugosas en los resultados;
(2) Precisión a largo plazo extremadamente alta: Empleando rotación rápida del compensador y compensadores super-acromáticos de banda ancha, se garantiza la precisión y fiabilidad a largo plazo;
(3) Sensibilidad de detección a nivel de capa atómica: Capaz de medir capas atómicas individuales;
(4) Alineación de muestra basada en video: Alinea con precisión las muestras y facilita la observación, reduciendo el error humano;
(5) Ajuste de múltiples ángulos de incidencia: El diseño de la estructura de múltiples ángulos de incidencia mejora la flexibilidad de medición del instrumento, especialmente adecuado para medir muestras ultradelgadas o complejas;
(6) Medición de reflectancia/transmitancia: Permite la medición espectral de reflectancia y transmitancia de muestras;
(7) Operación del instrumento con un clic: Para operaciones rutinarias, un solo clic del ratón completa los procesos complejos de medición, modelado, ajuste y análisis. Una rica biblioteca de modelos y materiales también facilita las necesidades de los usuarios avanzados;
III. Configuración del Instrumento
3.1. Configuración Básica
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Número de Serie |
Modelo |
Nombre |
Parámetros técnicos principales |
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1 |
ES |
Unidad Principal de Elipsometría Espectral |
Incluye los siguientes componentes principales: Conjunto de estructura angular; Conjunto de fuente de luz; Conjunto de óptica de polarización; Conjunto de alineación de muestra; Conjunto de sistema de control. |
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2 |
ET-CON-5 |
Computadora de Control |
Para control de movimiento y cálculos de análisis de datos, la configuración no debe ser inferior a: CPU i5; 8GB RAM; pantalla a color de 21 pulgadas; sistema Windows 10; |
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3 |
C7 |
Caja de Control del Instrumento |
Se utiliza para el control de movimiento de instrumentos, etc. |
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4 |
ETES |
Software Dedicado de Operación y Análisis |
Se utiliza para la configuración, operación, medición, análisis de datos y salida del instrumento. |
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5 |
NFS-SiO2 / Si |
Muestra Estándar de Oblea de Nanopelícula |
Óxido de silicio (SiO2/Si) depositado sobre silicio cristalino, con un diámetro de 4" y un espesor de película de 100 nm. |
3.2. Accesorios Opcionales Comúnmente Utilizados
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No. |
Modelo |
Nombre |
Parámetros Técnicos Principales |
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X1a |
F-U-200 |
Componente de micro-punto |
Diámetro del micro-punto de luz (eje corto): 200 μm (Requiere accesorio de autoenfoque X2 para su uso) |
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X2a |
Auto-Focus |
Sistema de autoenfoque de eje Z |
Carrera: 0-10 mm; |
Elipsómetro Espectral Elipsómetro Espectroscópico Medidor de Índice de Refracción de Espesor de Película Delgada Máquina de Prueba de Espesor de Nanopelícula
IV. Especificaciones Técnicas
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Especificaciones Generales |
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Rango Espectral |
245 – 1000 nm; rangos espectrales personalizados disponibles bajo pedido |
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Ángulo de Incidencia |
(F) Ángulo de incidencia fijo; ángulo predeterminado: 65° |
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Especificaciones de Rendimiento |
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Repetibilidad de Medición* |
Para película de SiO2 de 100 nm en oblea estándar de Si: repetibilidad de espesor 0.005 nm, repetibilidad de índice de refracción 0.0002 |
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Tiempo de Medición Única |
Tiempo de medición típico 1–2 segundos |
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Componentes Ópticos y Mecánicos |
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Fuente de Luz |
Fuente de luz de banda ancha de alta estabilidad (lámpara de tungsteno-halógeno, lámpara de deuterio-halógeno) |
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Modo de Ajuste Espectral |
Tamaño de punto autoajustable; tiempo de integración autoajustable para una coincidencia óptima |
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Polarizador / Analizador |
Prisma polarizador de alta calidad |
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Punto de Medición |
Rango ajustable manual del punto: 1–4 mm |
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Intervalo Espectral |
Banda de ≤1000 nm: 1 nm |
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Platina de Muestra |
Rango de ajuste vertical: 10 mm (manual); rango de ajuste de inclinación 2D: ±2° (manual); adsorción por vacío soportada; tamaño máximo de muestra: 8 pulgadas (200 mm); tamaños personalizados disponibles |
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Alineación de Muestra |
Telescopio autocollimador y microscopio para alineación de muestra de precisión (altura e inclinación 2D); alineación electrónica de imagen de video |
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Detector |
Detector espectral de alta sensibilidad y bajo ruido |
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Gabinete de Control |
Chasis dividido con placa de circuito, unidad de microcontrol, fuente de alimentación, etc. |
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Computadora |
Computadora de alta calidad con sistema operativo |
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Software |
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Idioma de Interfaz |
Soporte multilingüe incluyendo chino/inglés; chino por defecto |
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Gestión de Permisos |
Niveles de permiso de administrador y operador para la gestión del instrumento |
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Modos de Operación |
Modo de medición rutinaria con un clic (fácil para principiantes); lmodo de análisis avanzado para análisis de materiales complejos |
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Medición Espectral |
lConfiguración automática de la azimut de los componentes ópticos; lejecución manual/automática de tareas definidas por el usuario; lespectro mostrado en unidades estándar de energía o longitud de onda; lmonitorización en tiempo real de la respuesta de la muestra con visualización en línea de ψ y Δ |
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Salida de Resultados de Medición |
l11 elementos de la matriz de Mueller y otras formas de salida (N, C, S); lespesor de película d, índice de refracción n, coeficiente de extinción k; lfunción dieléctrica ε; lángulos elipsométricos ψ, Δ; ldespolarización p; ltransmitancia T (no compatible con instrumentos de ángulo fijo y medición láser); lreflectancia R; lrecorte de datos de longitud de onda/ángulo sin alterar datos brutos; lfunción de fusión de datos de múltiples ángulos; ltanψ, cosΔ y otros formatos de expresión |
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Modelado y Ajuste |
lCapaz de ajustar estructuras multicapa (películas de capa simple, películas compuestas y películas multicapa de alternancia periódica) lBase de datos de materiales fácil de usar y expandible lAmplia lista de constantes ópticas de materiales lIncluye varios modelos de dispersión de materiales como Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Drude, F-B, B-spline y Tauc-Lorentz. lModelado y análisis de estructuras de superredes lAnálisis aproximado del medio efectivo EMA lCada capa de película puede considerarse como una película homogénea, interfaz, superficie rugosa, etc. lAnálisis de datos compuestos de mediciones de múltiples ángulos de incidencia lAlgoritmo de ajuste de regresión rápido para modelos ópticos y datos de medición lVisualización gráfica simultánea de datos medidos y simulados |
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Simulación |
lCálculos de simulación de los ángulos de elipticidad ψ y Δ de la muestra lCálculos de simulación de la transmitancia T y reflectancia R de la muestra |
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Visualización de Resultados |
lMuestra gráficos ajustados lImágenes renderizadas en 2D y 3D lInformes avanzados, que generan espectros medidos y calculados, modelos ópticos y parámetros ajustados |
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Gestión de Archivos |
Software basado en Windows con funciones completas de gestión de archivos |
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Interfaz de Datos |
Conectividad de datos del sistema MES soportada |
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Persona de Contacto: Kaitlyn Wang
Teléfono: 19376687282
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