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Spektrale Ellipsometrie Spektroskopischer Ellipsometer Dünnschichtdicken-Brechzahlmesser Nanofilmdicken-Prüfgerät

Bescheinigung
CHINA DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD zertifizierungen
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Spektrale Ellipsometrie Spektroskopischer Ellipsometer Dünnschichtdicken-Brechzahlmesser Nanofilmdicken-Prüfgerät

Spectral Ellipsometry Spectroscopic Ellipsometer Thin Film Thickness Refractive Index Tester Nanofilm Thickness Testing Machine
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Großes Bild :  Spektrale Ellipsometrie Spektroskopischer Ellipsometer Dünnschichtdicken-Brechzahlmesser Nanofilmdicken-Prüfgerät

Produktdetails:
Herkunftsort: Guangdong, China
Markenname: LONROY
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: 1

Spektrale Ellipsometrie Spektroskopischer Ellipsometer Dünnschichtdicken-Brechzahlmesser Nanofilmdicken-Prüfgerät

Beschreibung
Typ: Prüfmaschine Genauigkeitsklasse: Hohe Genauigkeit
Genauigkeit: / Anwendung: Automatisches Testen
maßgeschneiderte Unterstützung: OEM, ODM, OBM Leistung: ---
Schutzklasse: IP56 Stromspannung: 220 V, Sonstiges
Garantie: 1 Jahr Datenschnittstelle: MES-Systemdatenkonnektivität unterstützt
Hervorheben:

spektroskopischer Ellipsometer Dünnschichttester

,

Nanofilmdicken-Prüfgerät

,

Spektral-Ellipsometer Brechzahlmesser

Spektrale Ellipsometrie Spektralellipsometer Dünnschichtdickenmessgerät Brechungsindex-Tester Nanofilm-Dickenmessgerät

 

I. Überblick

Die Ellipsometer der ES-Serie sind hochpräzise, schnell zugängliche Spektralellipsometer von LONROY, die für Forschungs- und Industrieumgebungen konzipiert sind und den Wellenlängenbereich des ultravioletten, sichtbaren und infraroten Lichts abdecken.

Basierend auf einer hochempfindlichen Detektionseinheit und einer Ellipsometer-Analysesoftware werden die Ellipsometer der ES-Serie zur Messung der Schichtstrukturparameter (z. B. Dicke) und physikalischen Parameter (z. B. Brechungsindex n, Extinktionskoeffizient k oder dielektrische Funktionen ε1 und ε2) von ein- und mehrlagigen Nanofilmen verwendet. Sie können auch zur Messung der optischen Eigenschaften von Massivmaterialien verwendet werden. Messbare Proben umfassen:

1) Schichtdicke d und physikalische Parameter (z. B. Brechungsindex n, Extinktionskoeffizient k oder dielektrische Funktionen ε1 und ε2) von ein- und mehrlagigen nanostrukturierten Proben;

2) Physikalische Parameter (z. B. Brechungsindex n, Extinktionskoeffizient k oder dielektrische Funktionen ε1 und ε2) von Massivmaterialien;

3) Reflektivität R der Probe;

4) Transmission T der Probe (nicht unterstützt für feste Winkel oder für die Verwendung mit Mikrospots);

5) Messung im Streumodus (nur für die 02-Serie mit unabhängiger automatischer Winkelvariation).

Darüber hinaus ist das Instrument mit einer leistungsstarken spektralen Ellipsometrie-Mess- und Analysesoftware ausgestattet. 

 

 

II. Technische Merkmale

(1) Rotationskompensatormesstechnik: Der Messbereich des Ellipsometriewinkels Δ beträgt 0-360°, ohne tote Winkel. ES ist ein einzelner Rotationskompensator, der alle 12 Elemente der Mueller-Matrix einer Probe messen kann, wodurch der Einfluss von Depolarisationseffekten, die durch raue Oberflächen verursacht werden, auf die Ergebnisse eliminiert wird;

(2) Extrem hohe Langzeitgenauigkeit: Durch schnelle Kompensatorrotation und Breitband-Super-Achromat-Kompensatoren werden Langzeitgenauigkeit und Zuverlässigkeit gewährleistet;

(3) Nachweisempfindlichkeit auf Atomlagenebene: Fähigkeit zur Messung einzelner Atomlagen;

(4) Videobasierte Probenjustierung: Präzise Ausrichtung von Proben und Erleichterung der Beobachtung, wodurch menschliche Fehler reduziert werden;

(5) Einstellung mehrerer Einfallswinkel: Das Design der Multi-Einfallswinkelstruktur erhöht die Messflexibilität des Instruments, besonders geeignet für die Messung von ultradünnen oder komplexen Proben;

(6) Reflexions-/Transmissionsmessung: Ermöglicht die spektrale Reflexions- und Transmissionsmessung von Proben;

(7) Ein-Klick-Bedienung des Instruments: Für Routinevorgänge schließt ein einziger Mausklick komplexe Mess-, Modellierungs-, Anpassungs- und Analyseprozesse ab. Eine reichhaltige Modell- und Materialbibliothek erleichtert auch die Bedürfnisse fortgeschrittener Benutzer;

 

 

III. Instrumentenkonfiguration

3.1. Grundkonfiguration

Seriennummer

Modell

Name

Haupttechnische Parameter

1

ES

Spektroskopische Ellipsometrie Haupteinheit

Es umfasst die folgenden Hauptkomponenten:

Winkelstruktur-Baugruppe;

Lichtquellen-Baugruppe;

Polarisationsoptik-Baugruppe;

Probenjustierungs-Baugruppe;

Steuerungssystem-Baugruppe.

2

ET-CON-5

Steuerungscomputer

Für Bewegungssteuerung und Datenanalysen, die Konfiguration sollte nicht weniger als sein: i5 CPU; 8 GB RAM; 21-Zoll-Farbbildschirm; Windows 10 System;

3

C7

Instrumentensteuerungsbox

Wird für die Bewegungssteuerung von Instrumenten usw. verwendet.

4

ETES

Dedizierte Betriebs- und Analysesoftware

Wird für die Instrumenteneinrichtung, den Betrieb, die Messung, die Datenanalyse und die Ausgabe verwendet.

5

NFS-SiO2 / Si

Standard-Nanofilm-Wafer-Probe

Siliziumdioxid (SiO2/Si) wird auf kristallinem Silizium abgeschieden, mit einem Durchmesser von 4 Zoll und einer Schichtdicke von 100 nm.

 

3.2. Häufig verwendetes optionales Zubehör

Nr.

Modell

Name

Haupttechnische Parameter

X1a

F-U-200

Mikrospot-Komponente  

Durchmesser des Mikrolichtflecks (kurze Achse): 200 μm (erfordert X2 Autofokus-Zubehör für die Verwendung)

X2a

Autofokus

Z-Achsen-Autofokussiersystem

Hub: 0-10 mm;

 

Spektrale Ellipsometrie Spektralellipsometer Dünnschichtdickenmessgerät Brechungsindex-Tester Nanofilm-Dickenmessgerät

IV. Technische Spezifikationen

Allgemeine Spezifikationen

 

Spektralbereich

245 – 1000 nm; kundenspezifische Spektralbereiche auf Anfrage erhältlich

Einfallswinkel

(F) Fester Einfallswinkel; Standardwinkel: 65°

Leistungsspezifikationen

 

Messwiederholbarkeit*

Für 100 nm SiO2 Schicht auf Si-Standardwafer: Dickenwiederholbarkeit 0,005 nm, Brechungsindex-Wiederholbarkeit 0,0002

Einzelmesszeit

Typische Messzeit 1–2 Sekunden

Optische und mechanische Komponenten

 

Lichtquelle

Hochstabile Breitbandlichtquelle (Wolfram-Halogenlampe, Deuterium-Halogenlampe)

Spektrale Einstellungsmodus

Automatisch verstellbare Spotgröße; automatisch verstellbare Integrationszeit für optimale Anpassung

Polarisator / Analysator

Hochwertiges Polarisationsprisma

Messfleck

Manuell verstellbarer Fleckbereich: 1–4 mm

Spektrales Intervall

≤1000 nm Band: 1 nm

Probenhalter

Vertikaler Verstellbereich: 10 mm (manuell); 2D-Neigungsverstellbereich: ±2° (manuell); Vakuumadsorption unterstützt; maximale Probengröße: 8 Zoll (200 mm); kundenspezifische Größen verfügbar

Probenjustierung

Autokollimator-Teleskop & Mikroskop für präzise Probenjustierung (Höhe und 2D-Neigung); elektronische Video-Bild-Justierung

Detektor

Hochempfindlicher rauscharmer Spektraldetektor

Steuerschrank

Geteilter Chassis mit Leiterplatte, Mikrosteuerungseinheit, Netzteil usw.

Computer

Hochwertiger Computer mit Betriebssystem

Software

 

Oberflächensprache

Mehrsprachige Unterstützung einschließlich Chinesisch/Englisch; Standard Chinesisch

Berechtigungsverwaltung

Administrator- und Bedienerberechtigungsstufen für die Instrumentenverwaltung

Betriebsmodi

Ein-Klick-Routine-Messmodus (anfängerfreundlich);

lerweiterter Analysmodus für komplexe Materialanalysen

Spektralmessung

lAutomatische Einstellung des optischen Komponentenazimuts;

lmanuelle/automatische Ausführung benutzerdefinierter Aufgaben;

lSpektrum angezeigt in Standard-Energie- oder Wellenlängeneinheiten;

lEchtzeitüberwachung der Probenantwort mit Online-Anzeige von ψ und Δ

Ausgabe der Messergebnisse

lMueller-Matrix 11 Elemente und andere Ausgabeformen (N, C, S);

lSchichtdicke d, Brechungsindex n, Extinktionskoeffizient k;

ldielektrische Funktion ε;

lellipsometrische Winkel ψ, Δ;

lDepolarisation p;

lTransmission T (nicht unterstützt von Festwinkel-Instrumenten und Laser-Messung);

lReflexion R;

lZuschneiden von Wellenlängen-/Winkeldaten ohne Änderung der Rohdaten;

lFunktion zum Zusammenführen von Multi-Winkel-Daten;

ltanψ, cosΔ und andere Ausdrucksformate

Modellierung & Anpassung

lFähigkeit zur Anpassung von Mehrschichtstrukturen (einlagige Filme, Verbundfilme und periodisch alternierende Mehrschichtfilme)

lBenutzerfreundliche und erweiterbare Materialdatenbank

lUmfangreiche Liste optischer Konstanten von Materialien

lEnthält verschiedene Materialdispersionsmodelle wie Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Drude, F-B, B-Spline und Tauc-Lorentz.

lModellierung und Analyse von Supergitterstrukturen

lUngefähre Analyse von EMA-Effektiven Medien

lJede Filmschicht kann als homogener Film, Grenzfläche, raue Oberfläche usw. betrachtet werden.

lAnalyse von Verbunddaten aus Messungen mit mehreren Einfallswinkeln

lSchneller Regressions-Anpassungsalgorithmus für optische Modelle und Messdaten

lGleichzeitige grafische Anzeige von gemessenen und simulierten Daten

Simulation

lSimulationsberechnungen der Elliptizitätswinkel ψ und Δ der Probe

lSimulationsberechnungen der Transmission T und Reflexion R der Probe

Ergebnisanzeige

lZeigt angepasste Graphen an

l2D- und 3D-gerenderte Bilder

lErweiterte Berichterstattung, Ausgabe von gemessenen und berechneten Spektren, optischen Modellen und angepassten Parametern

Dateiverwaltung

Windows-basierte Software mit umfassenden Dateiverwaltungsfunktionen

Datenschnittstelle

MES-System-Datenkonnektivität unterstützt

Spektrale Ellipsometrie Spektroskopischer Ellipsometer Dünnschichtdicken-Brechzahlmesser Nanofilmdicken-PrüfgerätSpektrale Ellipsometrie Spektroskopischer Ellipsometer Dünnschichtdicken-Brechzahlmesser Nanofilmdicken-Prüfgerät

Kontaktdaten
DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD

Ansprechpartner: Kaitlyn Wang

Telefon: 19376687282

Faxen: 86-769-83078748

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