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Produktdetails:
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| Typ: | Prüfmaschine | Genauigkeitsklasse: | Hohe Genauigkeit |
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| Genauigkeit: | / | Anwendung: | Automatisches Testen |
| maßgeschneiderte Unterstützung: | OEM, ODM, OBM | Leistung: | --- |
| Schutzklasse: | IP56 | Stromspannung: | 220 V, Sonstiges |
| Garantie: | 1 Jahr | Datenschnittstelle: | MES-Systemdatenkonnektivität unterstützt |
| Hervorheben: | spektroskopischer Ellipsometer Dünnschichttester,Nanofilmdicken-Prüfgerät,Spektral-Ellipsometer Brechzahlmesser |
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Spektrale Ellipsometrie Spektralellipsometer Dünnschichtdickenmessgerät Brechungsindex-Tester Nanofilm-Dickenmessgerät
I. Überblick
Die Ellipsometer der ES-Serie sind hochpräzise, schnell zugängliche Spektralellipsometer von LONROY, die für Forschungs- und Industrieumgebungen konzipiert sind und den Wellenlängenbereich des ultravioletten, sichtbaren und infraroten Lichts abdecken.
Basierend auf einer hochempfindlichen Detektionseinheit und einer Ellipsometer-Analysesoftware werden die Ellipsometer der ES-Serie zur Messung der Schichtstrukturparameter (z. B. Dicke) und physikalischen Parameter (z. B. Brechungsindex n, Extinktionskoeffizient k oder dielektrische Funktionen ε1 und ε2) von ein- und mehrlagigen Nanofilmen verwendet. Sie können auch zur Messung der optischen Eigenschaften von Massivmaterialien verwendet werden. Messbare Proben umfassen:
1) Schichtdicke d und physikalische Parameter (z. B. Brechungsindex n, Extinktionskoeffizient k oder dielektrische Funktionen ε1 und ε2) von ein- und mehrlagigen nanostrukturierten Proben;
2) Physikalische Parameter (z. B. Brechungsindex n, Extinktionskoeffizient k oder dielektrische Funktionen ε1 und ε2) von Massivmaterialien;
3) Reflektivität R der Probe;
4) Transmission T der Probe (nicht unterstützt für feste Winkel oder für die Verwendung mit Mikrospots);
5) Messung im Streumodus (nur für die 02-Serie mit unabhängiger automatischer Winkelvariation).
Darüber hinaus ist das Instrument mit einer leistungsstarken spektralen Ellipsometrie-Mess- und Analysesoftware ausgestattet.
II. Technische Merkmale
(1) Rotationskompensatormesstechnik: Der Messbereich des Ellipsometriewinkels Δ beträgt 0-360°, ohne tote Winkel. ES ist ein einzelner Rotationskompensator, der alle 12 Elemente der Mueller-Matrix einer Probe messen kann, wodurch der Einfluss von Depolarisationseffekten, die durch raue Oberflächen verursacht werden, auf die Ergebnisse eliminiert wird;
(2) Extrem hohe Langzeitgenauigkeit: Durch schnelle Kompensatorrotation und Breitband-Super-Achromat-Kompensatoren werden Langzeitgenauigkeit und Zuverlässigkeit gewährleistet;
(3) Nachweisempfindlichkeit auf Atomlagenebene: Fähigkeit zur Messung einzelner Atomlagen;
(4) Videobasierte Probenjustierung: Präzise Ausrichtung von Proben und Erleichterung der Beobachtung, wodurch menschliche Fehler reduziert werden;
(5) Einstellung mehrerer Einfallswinkel: Das Design der Multi-Einfallswinkelstruktur erhöht die Messflexibilität des Instruments, besonders geeignet für die Messung von ultradünnen oder komplexen Proben;
(6) Reflexions-/Transmissionsmessung: Ermöglicht die spektrale Reflexions- und Transmissionsmessung von Proben;
(7) Ein-Klick-Bedienung des Instruments: Für Routinevorgänge schließt ein einziger Mausklick komplexe Mess-, Modellierungs-, Anpassungs- und Analyseprozesse ab. Eine reichhaltige Modell- und Materialbibliothek erleichtert auch die Bedürfnisse fortgeschrittener Benutzer;
III. Instrumentenkonfiguration
3.1. Grundkonfiguration
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Seriennummer |
Modell |
Name |
Haupttechnische Parameter |
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1 |
ES |
Spektroskopische Ellipsometrie Haupteinheit |
Es umfasst die folgenden Hauptkomponenten: Winkelstruktur-Baugruppe; Lichtquellen-Baugruppe; Polarisationsoptik-Baugruppe; Probenjustierungs-Baugruppe; Steuerungssystem-Baugruppe. |
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2 |
ET-CON-5 |
Steuerungscomputer |
Für Bewegungssteuerung und Datenanalysen, die Konfiguration sollte nicht weniger als sein: i5 CPU; 8 GB RAM; 21-Zoll-Farbbildschirm; Windows 10 System; |
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3 |
C7 |
Instrumentensteuerungsbox |
Wird für die Bewegungssteuerung von Instrumenten usw. verwendet. |
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4 |
ETES |
Dedizierte Betriebs- und Analysesoftware |
Wird für die Instrumenteneinrichtung, den Betrieb, die Messung, die Datenanalyse und die Ausgabe verwendet. |
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5 |
NFS-SiO2 / Si |
Standard-Nanofilm-Wafer-Probe |
Siliziumdioxid (SiO2/Si) wird auf kristallinem Silizium abgeschieden, mit einem Durchmesser von 4 Zoll und einer Schichtdicke von 100 nm. |
3.2. Häufig verwendetes optionales Zubehör
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Nr. |
Modell |
Name |
Haupttechnische Parameter |
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X1a |
F-U-200 |
Mikrospot-Komponente |
Durchmesser des Mikrolichtflecks (kurze Achse): 200 μm (erfordert X2 Autofokus-Zubehör für die Verwendung) |
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X2a |
Autofokus |
Z-Achsen-Autofokussiersystem |
Hub: 0-10 mm; |
Spektrale Ellipsometrie Spektralellipsometer Dünnschichtdickenmessgerät Brechungsindex-Tester Nanofilm-Dickenmessgerät
IV. Technische Spezifikationen
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Allgemeine Spezifikationen |
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Spektralbereich |
245 – 1000 nm; kundenspezifische Spektralbereiche auf Anfrage erhältlich |
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Einfallswinkel |
(F) Fester Einfallswinkel; Standardwinkel: 65° |
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Leistungsspezifikationen |
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Messwiederholbarkeit* |
Für 100 nm SiO2 Schicht auf Si-Standardwafer: Dickenwiederholbarkeit 0,005 nm, Brechungsindex-Wiederholbarkeit 0,0002 |
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Einzelmesszeit |
Typische Messzeit 1–2 Sekunden |
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Optische und mechanische Komponenten |
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Lichtquelle |
Hochstabile Breitbandlichtquelle (Wolfram-Halogenlampe, Deuterium-Halogenlampe) |
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Spektrale Einstellungsmodus |
Automatisch verstellbare Spotgröße; automatisch verstellbare Integrationszeit für optimale Anpassung |
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Polarisator / Analysator |
Hochwertiges Polarisationsprisma |
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Messfleck |
Manuell verstellbarer Fleckbereich: 1–4 mm |
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Spektrales Intervall |
≤1000 nm Band: 1 nm |
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Probenhalter |
Vertikaler Verstellbereich: 10 mm (manuell); 2D-Neigungsverstellbereich: ±2° (manuell); Vakuumadsorption unterstützt; maximale Probengröße: 8 Zoll (200 mm); kundenspezifische Größen verfügbar |
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Probenjustierung |
Autokollimator-Teleskop & Mikroskop für präzise Probenjustierung (Höhe und 2D-Neigung); elektronische Video-Bild-Justierung |
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Detektor |
Hochempfindlicher rauscharmer Spektraldetektor |
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Steuerschrank |
Geteilter Chassis mit Leiterplatte, Mikrosteuerungseinheit, Netzteil usw. |
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Computer |
Hochwertiger Computer mit Betriebssystem |
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Software |
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Oberflächensprache |
Mehrsprachige Unterstützung einschließlich Chinesisch/Englisch; Standard Chinesisch |
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Berechtigungsverwaltung |
Administrator- und Bedienerberechtigungsstufen für die Instrumentenverwaltung |
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Betriebsmodi |
Ein-Klick-Routine-Messmodus (anfängerfreundlich); lerweiterter Analysmodus für komplexe Materialanalysen |
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Spektralmessung |
lAutomatische Einstellung des optischen Komponentenazimuts; lmanuelle/automatische Ausführung benutzerdefinierter Aufgaben; lSpektrum angezeigt in Standard-Energie- oder Wellenlängeneinheiten; lEchtzeitüberwachung der Probenantwort mit Online-Anzeige von ψ und Δ |
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Ausgabe der Messergebnisse |
lMueller-Matrix 11 Elemente und andere Ausgabeformen (N, C, S); lSchichtdicke d, Brechungsindex n, Extinktionskoeffizient k; ldielektrische Funktion ε; lellipsometrische Winkel ψ, Δ; lDepolarisation p; lTransmission T (nicht unterstützt von Festwinkel-Instrumenten und Laser-Messung); lReflexion R; lZuschneiden von Wellenlängen-/Winkeldaten ohne Änderung der Rohdaten; lFunktion zum Zusammenführen von Multi-Winkel-Daten; ltanψ, cosΔ und andere Ausdrucksformate |
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Modellierung & Anpassung |
lFähigkeit zur Anpassung von Mehrschichtstrukturen (einlagige Filme, Verbundfilme und periodisch alternierende Mehrschichtfilme) lBenutzerfreundliche und erweiterbare Materialdatenbank lUmfangreiche Liste optischer Konstanten von Materialien lEnthält verschiedene Materialdispersionsmodelle wie Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Drude, F-B, B-Spline und Tauc-Lorentz. lModellierung und Analyse von Supergitterstrukturen lUngefähre Analyse von EMA-Effektiven Medien lJede Filmschicht kann als homogener Film, Grenzfläche, raue Oberfläche usw. betrachtet werden. lAnalyse von Verbunddaten aus Messungen mit mehreren Einfallswinkeln lSchneller Regressions-Anpassungsalgorithmus für optische Modelle und Messdaten lGleichzeitige grafische Anzeige von gemessenen und simulierten Daten |
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Simulation |
lSimulationsberechnungen der Elliptizitätswinkel ψ und Δ der Probe lSimulationsberechnungen der Transmission T und Reflexion R der Probe |
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Ergebnisanzeige |
lZeigt angepasste Graphen an l2D- und 3D-gerenderte Bilder lErweiterte Berichterstattung, Ausgabe von gemessenen und berechneten Spektren, optischen Modellen und angepassten Parametern |
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Dateiverwaltung |
Windows-basierte Software mit umfassenden Dateiverwaltungsfunktionen |
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Datenschnittstelle |
MES-System-Datenkonnektivität unterstützt |
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Ansprechpartner: Kaitlyn Wang
Telefon: 19376687282
Faxen: 86-769-83078748