|
Λεπτομέρειες:
|
| Τύπος: | Δοκιμαστική μηχανή | Κατηγορία Ακρίβειας: | Υψηλή Ακρίβεια |
|---|---|---|---|
| Ακρίβεια: | / | Εφαρμογή: | Αυτόματη δοκιμή |
| προσαρμοσμένη υποστήριξη: | OEM, ODM, OBM | Εξουσία: | --- |
| Κατηγορία Προστασίας: | IP56 | Δυναμικό: | 220 V, Άλλο |
| Εγγύηση: | 1 Έτος | Διεπαφή δεδομένων: | Υποστηρίζεται συνδεσιμότητα δεδομένων συστήματος MES |
| Επισημαίνω: | φασματικός ελλειψομετρητής δοκιμαστής λεπτού υμενίου,μηχανή δοκιμής πάχους νανοϋμενίου,φασματικός ελλειψομετρητής δοκιμαστής δείκτη διάθλασης |
||
Φασματικός Ελλειψομετρητής Φασματικός Ελλειψομετρητής Δοκιμαστής Πάχους Λεπτού Υμενίου Δείκτη Διάθλασης Μηχανή Δοκιμής Πάχους Νανοϋμενίου
Ι. Επισκόπηση
Οι ελλειψομετρητές της σειράς ES είναι ελλειψομετρητές φασματικής υψηλής ακρίβειας και ταχείας πρόσβασης από την LONROY, σχεδιασμένοι για ερευνητικά και βιομηχανικά περιβάλλοντα, καλύπτοντας το υπεριώδες, το ορατό και το υπέρυθρο φάσμα μήκους κύματος.
Βασισμένοι σε μονάδα ανίχνευσης υψηλής ευαισθησίας και λογισμικό ανάλυσης ελλειψομετρίας, οι ελλειψομετρητές της σειράς ES χρησιμοποιούνται για τη μέτρηση παραμέτρων δομής στρώματος (π.χ. πάχος) και φυσικών παραμέτρων (π.χ. δείκτης διάθλασης n, συντελεστής απόσβεσης k, ή διηλεκτρικές συναρτήσεις ε1 και ε2) μονοστρωματικών και πολυστρωματικών νανοϋμενίων. Μπορούν επίσης να χρησιμοποιηθούν για τη μέτρηση των οπτικών ιδιοτήτων όγκων υλικών. Δείγματα που μπορούν να μετρηθούν περιλαμβάνουν:
1) Πάχος υμενίου d και φυσικές παράμετροι (π.χ. δείκτης διάθλασης n, συντελεστής απόσβεσης k, ή διηλεκτρικές συναρτήσεις ε1 και ε2) μονοστρωματικών και πολυστρωματικών νανοδομημένων δειγμάτων;
2) Φυσικές παράμετροι (π.χ. δείκτης διάθλασης n, συντελεστής απόσβεσης k, ή διηλεκτρικές συναρτήσεις ε1 και ε2) όγκων υλικών;
3) Ανακλαστικότητα R του δείγματος;
4) Διαπερατότητα T του δείγματος (δεν υποστηρίζεται για σταθερές γωνίες ή για χρήση με μικρο-σημεία);
5) Μέτρηση λειτουργίας σκέδασης (μόνο για τη σειρά 02 με ανεξάρτητη αυτόματη μεταβολή γωνίας).
Επιπλέον, το όργανο είναι εξοπλισμένο με ισχυρό λογισμικό μέτρησης και ανάλυσης φασματικής ελλειψομετρίας.
ΙΙ. Τεχνικά Χαρακτηριστικά
(1) Τεχνολογία μέτρησης περιστρεφόμενου αντιστάθμιστή: Το εύρος μέτρησης της γωνίας ελλειψομετρίας Δ είναι 0-360°, χωρίς τυφλά σημεία. Το ES είναι ένας μοναδικός περιστρεφόμενος αντιστάθμιστης που μπορεί να μετρήσει όλα τα 12 στοιχεία του πίνακα Mueller ενός δείγματος, εξαλείφοντας την επίδραση των φαινομένων αποπόλωσης που προκαλούνται από τραχιές επιφάνειες στα αποτελέσματα;
(2) Εξαιρετικά υψηλή μακροπρόθεσμη ακρίβεια: Χρησιμοποιώντας ταχεία περιστροφή αντιστάθμιστή και ευρυζωνικούς υπερ-αχρωματικούς αντιστάθμιστες, εγγυάται μακροπρόθεσμη ακρίβεια και αξιοπιστία;
(3) Ευαισθησία ανίχνευσης επιπέδου ατομικής στρώσης: Ικανό για μέτρηση μεμονωμένων ατομικών στρώσεων;
(4) Ευθυγράμμιση δείγματος μέσω βίντεο: Ευθυγραμμίζει με ακρίβεια τα δείγματα και διευκολύνει την παρατήρηση, μειώνοντας το ανθρώπινο λάθος;
(5) Ρύθμιση πολλαπλών γωνιών πρόσπτωσης: Ο σχεδιασμός δομής πολλαπλών γωνιών πρόσπτωσης ενισχύει την ευελιξία μέτρησης του οργάνου, ιδιαίτερα κατάλληλος για τη μέτρηση εξαιρετικά λεπτών ή σύνθετων δειγμάτων;
(6) Μέτρηση ανακλαστικότητας/διαπερατότητας: Επιτρέπει τη μέτρηση φασματικής ανακλαστικότητας και διαπερατότητας δειγμάτων;
(7) Λειτουργία οργάνου με ένα κλικ: Για συνήθεις λειτουργίες, ένα μόνο κλικ του ποντικιού ολοκληρώνει σύνθετες διαδικασίες μέτρησης, μοντελοποίησης, προσαρμογής και ανάλυσης. Μια πλούσια βιβλιοθήκη μοντέλων και υλικών διευκολύνει επίσης τις ανάγκες προηγμένων χρηστών;
ΙΙΙ. Διαμόρφωση Οργάνου
3.1. Βασική Διαμόρφωση
|
Σειριακός Αριθμός |
Μοντέλο |
Όνομα |
Κύριες τεχνικές παράμετροι |
|
1 |
ES |
Κύρια Μονάδα Φασματικής Ελλειψομετρίας |
Περιλαμβάνει τα ακόλουθα κύρια εξαρτήματα: Συναρμολόγηση γωνιακής δομής; Συναρμολόγηση πηγής φωτός; Συναρμολόγηση οπτικών πόλωσης; Συναρμολόγηση ευθυγράμμισης δείγματος; Συναρμολόγηση συστήματος ελέγχου. |
|
2 |
ET-CON-5 |
Υπολογιστής Ελέγχου |
Για τον έλεγχο κίνησης και τους υπολογισμούς ανάλυσης δεδομένων, η διαμόρφωση δεν πρέπει να είναι κατώτερη από: επεξεργαστής i5, 8GB RAM, έγχρωμη οθόνη 21 ιντσών, σύστημα Windows 10; |
|
3 |
C7 |
Κουτί Ελέγχου Οργάνου |
Χρησιμοποιείται για τον έλεγχο κίνησης οργάνων, κ.λπ. |
|
4 |
ETES |
Ειδικό Λογισμικό Λειτουργίας και Ανάλυσης |
Χρησιμοποιείται για τη ρύθμιση, λειτουργία, μέτρηση, ανάλυση δεδομένων και εξαγωγή του οργάνου. |
|
5 |
NFS-SiO2 / Si |
Τυπικό Δείγμα Νανοϋμενίου |
Οξείδιο του πυριτίου (SiO2/Si) εναποτίθεται σε κρυσταλλικό πυρίτιο, με διάμετρο 4” και πάχος υμενίου 100nm. |
3.2. Συνήθως Χρησιμοποιούμενα Προαιρετικά Αξεσουάρ
|
Αρ. |
Μοντέλο |
Όνομα |
Κύριες Τεχνικές Παράμετροι |
|
X1a |
F-U-200 |
Εξάρτημα μικρο-σημείου |
Διάμετρος του μικρο-φωτεινού σημείου (μικρός άξονας): 200 μm (Απαιτείται το αξεσουάρ αυτόματης εστίασης X2 για χρήση) |
|
X2a |
Αυτόματη Εστίαση |
Σύστημα αυτόματης εστίασης άξονα Ζ |
Διαδρομή: 0-10 mm; |
Φασματικός Ελλειψομετρητής Φασματικός Ελλειψομετρητής Δοκιμαστής Πάχους Λεπτού Υμενίου Δείκτη Διάθλασης Μηχανή Δοκιμής Πάχους Νανοϋμενίου
IV. Τεχνικές Προδιαγραφές
|
Γενικές Προδιαγραφές |
|
|
Φασματικό Εύρος |
245 – 1000 nm; διαθέσιμα προσαρμοσμένα φασματικά εύρη κατόπιν αιτήματος |
|
Γωνία Πρόσπτωσης |
(F) Σταθερή γωνία πρόσπτωσης; προεπιλεγμένη γωνία: 65° |
|
Προδιαγραφές Απόδοσης |
|
|
Επαναληψιμότητα Μέτρησης* |
Για υμένιο SiO2 100 nm σε τυπική πλάκα Si: επαναληψιμότητα πάχους 0.005 nm, επαναληψιμότητα δείκτη διάθλασης 0.0002 |
|
Χρόνος Μονής Μέτρησης |
Τυπικός χρόνος μέτρησης 1–2 δευτερόλεπτα |
|
Οπτικά & Μηχανικά Εξαρτήματα |
|
|
Πηγή Φωτός |
Ευρυζωνική πηγή φωτός υψηλής σταθερότητας (λάμπα βολφραμίου-αλογόνου, λάμπα αλογόνου-δευτερίου) |
|
Λειτουργία Ρύθμισης Φάσματος |
Αυτόματη ρύθμιση μεγέθους σημείου; αυτόματη ρύθμιση χρόνου ολοκλήρωσης για βέλτιστη αντιστοίχιση |
|
Πολωτής / Αναλυτής |
Πρίσμα πόλωσης υψηλής ποιότητας |
|
Σημείο Μέτρησης |
Χειροκίνητα ρυθμιζόμενο εύρος σημείου: 1–4 mm |
|
Φασματικό Διάστημα |
Ζώνη ≤1000 nm: 1 nm |
|
Βάση Δείγματος |
Εύρος κάθετης ρύθμισης: 10 mm (χειροκίνητο); εύρος ρύθμισης κλίσης 2D: ±2° (χειροκίνητο); υποστηρίζεται προσρόφηση κενού; μέγιστο μέγεθος δείγματος: 8 ίντσες (200 mm); διαθέσιμα προσαρμοσμένα μεγέθη |
|
Ευθυγράμμιση Δείγματος |
Τηλεσκόπιο αυτο-κολλιματόρου & μικροσκόπιο για ευθυγράμμιση δείγματος ακριβείας (ύψος και κλίση 2D); ευθυγράμμιση ηλεκτρονικής εικόνας βίντεο |
|
Ανιχνευτής |
Φασματικός ανιχνευτής χαμηλού θορύβου υψηλής ευαισθησίας |
|
Πίνακας Ελέγχου |
Διαχωρισμένο πλαίσιο με πλακέτα κυκλώματος, μονάδα μικρο-ελέγχου, τροφοδοτικό, κ.λπ. |
|
Υπολογιστής |
Υπολογιστής υψηλής ποιότητας με λειτουργικό σύστημα |
|
Λογισμικό |
|
|
Γλώσσα Διεπαφής |
Πολυγλωσσική υποστήριξη, συμπεριλαμβανομένων Κινεζικών/Αγγλικών. προεπιλογή Κινεζικά |
|
Διαχείριση Δικαιωμάτων |
Επίπεδα δικαιωμάτων διαχειριστή και χειριστή για τη διαχείριση του οργάνου |
|
Λειτουργίες Λειτουργίας |
Λειτουργία συνήθους μέτρησης με ένα κλικ (φιλική προς αρχάριους); lλειτουργία προηγμένης ανάλυσης για ανάλυση σύνθετων υλικών |
|
Φασματική Μέτρηση |
lΑυτόματη ρύθμιση αζιμουθίου οπτικών εξαρτημάτων; lχειροκίνητη/αυτόματη εκτέλεση εργασιών που ορίζονται από τον χρήστη; lφάσμα εμφανίζεται σε τυπικές μονάδες ενέργειας ή μήκους κύματος; lπαρακολούθηση σε πραγματικό χρόνο της απόκρισης του δείγματος με εμφάνιση ψ και Δ σε απευθείας σύνδεση |
|
Εξαγωγή Αποτελεσμάτων Μέτρησης |
l11 στοιχεία πίνακα Mueller και άλλες μορφές εξαγωγής (N, C, S); lπάχος υμενίου d, δείκτης διάθλασης n, συντελεστής απόσβεσης k; lδιηλεκτρική συνάρτηση ε; lελλειψομετρικές γωνίες ψ, Δ; lαπόσβεση p; lδιαπερατότητα T (δεν υποστηρίζεται από όργανα σταθερής γωνίας και μέτρηση λέιζερ); lανακλαστικότητα R; lπερικοπή δεδομένων μήκους κύματος/γωνίας χωρίς αλλοίωση των ακατέργαστων δεδομένων; lλειτουργία συγχώνευσης δεδομένων πολλαπλών γωνιών; ltanψ, cosΔ και άλλες μορφές έκφρασης |
|
Μοντελοποίηση & Προσαρμογή |
lΙκανό για προσαρμογή πολυστρωματικών δομών (μονοστρωματικά υμένια, σύνθετα υμένια και περιοδικά εναλλασσόμενα πολυστρωματικά υμένια) lΦιλική προς τον χρήστη και επεκτάσιμη βάση δεδομένων υλικών lΕκτενής λίστα οπτικών σταθερών υλικών lΠεριλαμβάνει διάφορα μοντέλα διασποράς υλικών όπως Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Drude, F-B, B-spline και Tauc-Lorentz. lΜοντελοποίηση και ανάλυση δομών υπερπλέγματος lΠροσεγγιστική ανάλυση του ενεργού μέσου EMA lΚάθε στρώμα υμενίου μπορεί να θεωρηθεί ως ομοιογενές υμένιο, διεπιφάνεια, τραχιά επιφάνεια, κ.λπ. lΑνάλυση σύνθετων δεδομένων από μετρήσεις πολλαπλών γωνιών πρόσπτωσης lΑλγόριθμος ταχείας παλινδρόμησης για οπτικά μοντέλα και δεδομένα μέτρησης lΟπτική ταυτόχρονη εμφάνιση μετρημένων και προσομοιωμένων δεδομένων |
|
Προσομοίωση |
lΥπολογισμοί προσομοίωσης των γωνιών ελλειπτικότητας ψ και Δ του δείγματος lΥπολογισμοί προσομοίωσης της διαπερατότητας T και της ανακλαστικότητας R του δείγματος |
|
Εμφάνιση Αποτελεσμάτων |
lΕμφανίζει προσαρμοσμένα γραφήματα l2D και 3D αποδοσμένες εικόνες lΠροηγμένη αναφορά, εξαγωγή μετρημένων και υπολογισμένων φασμάτων, οπτικών μοντέλων και προσαρμοσμένων παραμέτρων |
|
Διαχείριση Αρχείων |
Λογισμικό βασισμένο σε Windows με ολοκληρωμένες λειτουργίες διαχείρισης αρχείων |
|
Διεπαφή Δεδομένων |
Υποστηρίζεται συνδεσιμότητα δεδομένων συστήματος MES |
![]()
![]()
Υπεύθυνος Επικοινωνίας: Kaitlyn Wang
Τηλ.:: 19376687282
Φαξ: 86-769-83078748