|
Productdetails:
|
| Type: | Testmachine | Nauwkeurigheidsklasse: | Hoge nauwkeurigheid |
|---|---|---|---|
| Nauwkeurigheid: | / | Sollicitatie: | Automatisch testen |
| ondersteuning op maat: | OEM, ODM, OBM | Stroom: | --- |
| Beschermingsklasse: | IP56 | Spanning: | 220 V, anders |
| Garantie: | 1 jaar | Gegevensinterface: | MES-systeemdataconnectiviteit ondersteund |
| Markeren: | spectroscopic ellipsometer thin film tester,machine voor het testen van de dikte van nanofilms,spectrale ellipsometrie-brekingsindexmeter |
||
Spectrale Ellipsometrie Spectroscopische Ellipsometer Dunne Film Dikte Brekingsindex Tester Nanofilm Dikte Testmachine
I. Overzicht
De ES-serie ellipsometers zijn hoog-precisie, snelle spectroscopische ellipsometers van LONROY, ontworpen voor onderzoeks- en industriële omgevingen, die het ultraviolette, zichtbare en infrarode golflengtebereik bestrijken.
Gebaseerd op een hooggevoelige detectie-eenheid en ellipsometer-analysoftware, worden de ES-serie ellipsometers gebruikt om de laagstructuurparameters (bijv. dikte) en fysische parameters (bijv. brekingsindex n, extinctiecoëfficiënt k, of diëlektrische functies ε1 en ε2) van enkelvoudige en meerlaagse nanofilms te meten. Ze kunnen ook worden gebruikt om de optische eigenschappen van bulkmaterialen te meten. Meetbare monsters omvatten:
1) Film dikte d en fysische parameters (bijv. brekingsindex n, extinctiecoëfficiënt k, of diëlektrische functies ε1 en ε2) van enkelvoudige en meerlaagse nanogestructureerde monsters;
2) Fysische parameters (bijv. brekingsindex n, extinctiecoëfficiënt k, of diëlektrische functies ε1 en ε2) van bulkmaterialen;
3) Reflectiviteit R van het monster;
4) Transmissie T van het monster (niet ondersteund voor vaste hoeken of voor gebruik met micro-spots);
5) Meting in strooiingsmodus (alleen voor de 02-serie met onafhankelijke automatische hoekvariatie).
Bovendien is het instrument uitgerust met krachtige spectrale ellipsometrie meet- en analysoftware.
II. Technische Kenmerken
(1) Rotatiecompensator meettechnologie: Het meetbereik van de ellipsometrische hoek Δ is 0-360°, zonder blinde vlekken. ES is een enkele rotatiecompensator die alle 12 elementen van de Mueller-matrix van een monster kan meten, waardoor de invloed van depolarisatie-effecten veroorzaakt door ruwe oppervlakken op de resultaten wordt geëlimineerd;
(2) Extreem hoge langetermijnnauwkeurigheid: Door gebruik te maken van snelle compensatorrotatie en breedband super-achromatische compensators, worden langetermijnnauwkeurigheid en betrouwbaarheid gegarandeerd;
(3) Detectiegevoeligheid op atoomlaagniveau: In staat om enkele atoomlagen te meten;
(4) Video-gebaseerde monsteruitlijning: Ligt monsters nauwkeurig uit en vergemakkelijkt de observatie, waardoor menselijke fouten worden verminderd;
(5) Aanpassing van meerdere invalshoeken: Het ontwerp met meerdere invalshoeken verbetert de meetflexibiliteit van het instrument, vooral geschikt voor het meten van ultradunne of complexe monsters;
(6) Reflectantie/transmissiemeting: Maakt spectrale reflectantie- en transmissiemeting van monsters mogelijk;
(7) Eén-klik instrumentbediening: Voor routinematige bewerkingen voltooit een enkele muisklik complexe meet-, modelleer-, fitting- en analyseprocessen. Een rijke model- en materiaalbibliotheek faciliteert ook geavanceerde gebruikersbehoeften;
III. Instrumentconfiguratie
3.1. Basale Configuratie
|
Serienummer |
Model |
Naam |
Belangrijkste technische parameters |
|
1 |
ES |
Spectroscopische Ellipsometrie Hoofdunit |
Het omvat de volgende hoofdcomponenten: Hoekstructuur assemblage; Lichtbron assemblage; Polarisatieoptiek assemblage; Monsteruitlijning assemblage; Besturingssysteem assemblage. |
|
2 |
ET-CON-5 |
Besturingscomputer |
Voor bewegingscontrole en data-analyseberekeningen, moet de configuratie niet minder zijn dan: i5 CPU; 8GB RAM; 21-inch kleurenscherm; Windows 10 systeem; |
|
3 |
C7 |
Instrument Besturingskast |
Gebruikt voor bewegingscontrole van instrumenten, etc. |
|
4 |
ETES |
Speciale Bedrijfs- en Analysoftware |
Gebruikt voor instrumentinstelling, bediening, meting, data-analyse en output. |
|
5 |
NFS-SiO2 / Si |
Standaard Nanofilm Wafel Monster |
Siliciumoxide (SiO2/Si) is afgezet op kristallijn silicium, met een diameter van 4” en een filmdikte van 100nm. |
3.2. Veelgebruikte Optionele Accessoires
|
Nee. |
Model |
Naam |
Belangrijkste Technische Parameters |
|
X1a |
F-U-200 |
Micro-spot component |
Diameter van de micro-lichtspot (korte as): 200 μm (Vereist X2 autofocus accessoire voor gebruik) |
|
X2a |
Auto-Focus |
Z-as automatisch focussysteem |
Slag: 0-10 mm; |
Spectrale Ellipsometrie Spectroscopische Ellipsometer Dunne Film Dikte Brekingsindex Tester Nanofilm Dikte Testmachine
IV. Technische Specificaties
|
Algemene Specificaties |
|
|
Spectraalbereik |
245 – 1000 nm; aangepaste spectraalbereiken beschikbaar op aanvraag |
|
Invalshoek |
(F) Vaste invalshoek; standaardhoek: 65° |
|
Prestatiespecificaties |
|
|
Meet Herhaalbaarheid* |
Voor 100 nm SiO2 film op Si standaard wafer: dikte herhaalbaarheid 0.005 nm, brekingsindex herhaalbaarheid 0.0002 |
|
Enkele Meet Tijd |
Typische meettijd 1–2 seconden |
|
Optische & Mechanische Componenten |
|
|
Lichtbron |
Hoog-stabiele breedband lichtbron (wolfraam-halogeenlamp, deuterium-halogeenlamp) |
|
Spectrale Aanpassingsmodus |
Automatisch instelbare spotgrootte; automatisch instelbare integratietijd voor optimale matching |
|
Polarisator / Analyzer |
Hoogwaardige polariserende prismas |
|
Meet Spot |
Handmatig instelbaar spotbereik: 1–4 mm |
|
Spectraal Interval |
≤1000 nm band: 1 nm |
|
Monster Tafel |
Verticale verstelbereik: 10 mm (handmatig); 2D kantelbereik: ±2° (handmatig); vacuüm adsorptie ondersteund; maximale monstergrootte: 8 inch (200 mm); aangepaste maten beschikbaar |
|
Monster Uitlijning |
Autocollimator telescoop & microscoop voor precisie monsteruitlijning (hoogte en 2D kanteling); elektronische video beelduitlijning |
|
Detector |
Hooggevoelige ruisarme spectrale detector |
|
Besturingskast |
Gesplitst chassis met printplaat, micro-besturingseenheid, voeding, etc. |
|
Computer |
Hoogwaardige computer met besturingssysteem |
|
Software |
|
|
Interface Taal |
Meertalige ondersteuning inclusief Chinees/Engels; standaard Chinees |
|
Toegangsbeheer |
Administrator en operator toegangslevels voor instrumentbeheer |
|
Bedrijfsmodi |
Eén-klik routine meetmodus (beginner-vriendelijk); lgeavanceerde analysemode voor complexe materiaal analyse |
|
Spectrale Meting |
lAutomatische instelling van optische component azimuth; lhandmatige/automatische uitvoering van door de gebruiker gedefinieerde taken; lspectrum weergegeven in standaard energie- of golflengte-eenheden; lreal-time monitoring van monsterrespons met on-line ψ en Δ weergave |
|
Meetresultaat Output |
lMueller matrix 11 elementen en andere outputvormen (N, C, S); lfilm dikte d, brekingsindex n, extinctiecoëfficiënt k; ldiëlektrische functie ε; lellipsometrische hoeken ψ, Δ; ldepolarisatie p; ltransmissie T (niet ondersteund door vaste-hoek instrumenten en laser meting); lreflectantie R; lgolflengte/hoek data bijsnijden zonder ruwe data te wijzigen; lfunctie voor het samenvoegen van multi-hoek data; ltanψ, cosΔ en andere expressieformaten |
|
Modellering & Fitting |
lIn staat om meerlaagse structuren te fitten (enkelvoudige films, samengestelde films en periodiek afwisselende meerlaagse films) lGebruiksvriendelijke en uitbreidbare materiaal database lUitgebreide lijst met optische constanten van materialen lInclusief diverse materiaal dispersiemodellen zoals Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Drude, F-B, B-spline en Tauc-Lorentz. lModellering en analyse van superrooster structuren lBenaderende analyse van EMA effectief medium lElke filmlaag kan worden beschouwd als een homogene film, interface, ruw oppervlak, etc. lAnalyse van samengestelde data van metingen met meerdere invalshoeken lSnelle regressie fitting algoritme voor optische modellen en meetdata lGelijktijdige grafische weergave van gemeten en gesimuleerde data |
|
Simulatie |
lSimulatieberekeningen van de elliptische hoeken ψ en Δ van het monster lSimulatieberekeningen van de transmissie T en reflectantie R van het monster |
|
Resultaat Weergave |
lToont gefitte grafieken l2D en 3D gerenderde beelden lGeavanceerde rapportage, uitvoer van gemeten en berekende spectra, optische modellen en gefitte parameters |
|
Bestandsbeheer |
Windows-gebaseerde software met uitgebreide bestandsbeheerfuncties |
|
Data Interface |
MES systeem data connectiviteit ondersteund |
![]()
![]()
Contactpersoon: Kaitlyn Wang
Tel.: 19376687282
Fax: 86-769-83078748