Elipsometria spettrale Elipsometro spettroscopico Spessore del film sottile Indice di rifrazione Tester Nanofilm Spessore di prova macchina

Numero di Serie

Modello

Nome

Parametri tecnici principali

1

ES

Unità Principale Ellissometro Spettroscopico

Include i seguenti componenti principali:

Gruppo struttura angolare;

Gruppo sorgente luminosa;

Gruppo ottica di polarizzazione;

Gruppo allineamento campione;

Gruppo sistema di controllo.

2

ET-CON-5

Computer di Controllo

Per il controllo del movimento e i calcoli di analisi dei dati, la configurazione non deve essere inferiore a: CPU i5; 8 GB di RAM; display a colori da 21 pollici; sistema Windows 10;

3

C7

Scatola di Controllo Strumento

Utilizzata per il controllo del movimento degli strumenti, ecc.

4

ETES

Software Dedicato di Funzionamento e Analisi

Utilizzato per la configurazione dello strumento, il funzionamento, la misurazione, l'analisi dei dati e l'output.

5

NFS-SiO2 / Si

Campione Standard di Wafer Nanofilm

Ossido di silicio (SiO2/Si) depositato su silicio cristallino, con un diametro di 4” e uno spessore del film di 100 nm.

N.ro

Modello

Nome

Parametri Tecnici Principali

X1a

F-U-200

Componente micro-spot  

Diametro del micro-spot luminoso (asse corto): 200 μm (Richiede l'accessorio di messa a fuoco automatica X2 per l'uso)

X2a

Messa a Fuoco Automatica

Sistema di messa a fuoco automatica sull'asse Z

Corsa: 0-10 mm;

Specifiche Generali

Intervallo Spettrale

245 – 1000 nm; intervalli spettrali personalizzati disponibili su richiesta

Angolo di Incidenza

(F) Angolo di incidenza fisso; angolo predefinito: 65°

Specifiche di Prestazione

Ripetibilità della Misurazione*

Per film di SiO2 da 100 nm su wafer standard di Si: ripetibilità dello spessore 0,005 nm, ripetibilità dell'indice di rifrazione 0,0002

Tempo di Misurazione Singola

Tempo di misurazione tipico 1–2 secondi

Componenti Ottici e Meccanici

Sorgente Luminosa

Sorgente luminosa a banda larga ad alta stabilità (lampada tungsteno-alogeno, lampada deuterio-alogeno)

Modalità di Regolazione Spettrale

Dimensione del punto regolabile automaticamente; tempo di integrazione regolabile automaticamente per un abbinamento ottimale

Polarizzatore / Analizzatore

Prisma polarizzatore di alta qualità

Spot di Misurazione

Intervallo regolabile manualmente: 1–4 mm

Intervallo Spettrale

≤ banda 1000 nm: 1 nm

Piastra Campione

Intervallo di regolazione verticale: 10 mm (manuale); intervallo di regolazione inclinazione 2D: ±2° (manuale); aspirazione sottovuoto supportata; dimensione massima campione: 8 pollici (200 mm); dimensioni personalizzate disponibili

Allineamento Campione

Telescopio autocollimatore & microscopio per allineamento campione di precisione (altezza e inclinazione 2D); allineamento elettronico tramite immagine video

Rilevatore

Rilevatore spettrale a basso rumore e alta sensibilità

Armadio di Controllo

Telaio diviso con circuito stampato, unità di micro-controllo, alimentatore, ecc.

Computer

Computer di alta qualità con sistema operativo

Software

Lingua dell'Interfaccia

Supporto multilingue incluso cinese/inglese; predefinito cinese

Gestione Permessi

Livelli di permesso amministratore e operatore per la gestione dello strumento

Modalità Operative

Modalità di misurazione di routine con un clic (facile per principianti);

lmodalità di analisi avanzata per l'analisi di materiali complessi

Misurazione Spettrale

lImpostazione automatica dell'azimut dei componenti ottici;

lesecuzione manuale/automatica di attività definite dall'utente;

lspettro visualizzato in unità di energia o lunghezza d'onda standard;

lmonitoraggio in tempo reale della risposta del campione con visualizzazione online di ψ e Δ

Output Risultati Misurazione

lMatrice di Mueller 11 elementi e altre forme di output (N, C, S);

lspessore del film d, indice di rifrazione n, coefficiente di estinzione k;

lfunzione dielettrica ε;

langoli ellissometrici ψ, Δ;

ldepolarizzazione p;

ltrasmittanza T (non supportata da strumenti ad angolo fisso e misurazione laser);

lriflettanza R;

lritaglio dati lunghezza d'onda/angolo senza alterare i dati grezzi;

lfunzione di unione dati multi-angolo;

lformati di espressione come tanψ, cosΔ e altri

Modellazione & Fitting

lCapace di adattare strutture multistrato (film a strato singolo, film compositi e film multistrato a periodicità alternata)

lDatabase materiali facile da usare ed espandibile

lAmpio elenco di costanti ottiche dei materiali

lInclude vari modelli di dispersione dei materiali come Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Drude, F-B, B-spline e Tauc-Lorentz.

lModellazione e analisi di strutture a superreticolo

lAnalisi approssimata del mezzo effettivo EMA

lOgni strato del film può essere considerato come un film omogeneo, interfaccia, superficie ruvida, ecc.

lAnalisi di dati compositi da misurazioni multi-angolo di incidenza

lAlgoritmo di fitting di regressione veloce per modelli ottici e dati di misurazione

lVisualizzazione grafica simultanea dei dati misurati e simulati

Simulazione

lCalcoli di simulazione degli angoli di ellitticità ψ e Δ del campione

lCalcoli di simulazione della trasmittanza T e della riflettanza R del campione

Visualizzazione Risultati

lVisualizza grafici adattati

lImmagini renderizzate 2D e 3D

lReportistica avanzata, output di spettri misurati e calcolati, modelli ottici e parametri adattati

Gestione File

Software basato su Windows con funzioni complete di gestione file

Interfaccia Dati

Connettività dati sistema MES supportata