Ellipsomètre spectral Ellipsomètre spectroscopique Testeur d'épaisseur de couches minces Indice de réfraction Machine de test d'épaisseur de nanofilms
description de
Taper:
Machine d'essai
Classe de précision:
Haute précision
Précision:
/
Application:
Test automatique
accompagnement personnalisé:
OEM, ODM, OBM
Pouvoir:
---
Classe de protection:
IP56
Tension:
220 V, Autre
Garantie:
1 an
Interface de données:
Connectivité des données du système MES prise en charge
Mettre en évidence:
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,
ellipsomètre spectral testeur d'indice de réfraction
Ellipsomètre Spectroscopique à Ellipsométrie Spectrale, Testeur d'Indice de Réfraction d'Épaisseur de Film Mince, Machine de Test d'Épaisseur de Nanofilm
I. Aperçu
Les ellipsomètres de la série ES sont des ellipsomètres spectroscopiques de haute précision et à accès rapide de LONROY, conçus pour les environnements de recherche et industriels, couvrant la gamme de longueurs d'onde ultraviolette, visible et infrarouge.
Basés sur une unité de détection à haute sensibilité et un logiciel d'analyse d'ellipsométrie, les ellipsomètres de la série ES sont utilisés pour mesurer les paramètres de structure de couche (par exemple, l'épaisseur) et les paramètres physiques (par exemple, l'indice de réfraction n, le coefficient d'extinction k, ou les fonctions diélectriques ε1 et ε2) de nanofilms monocouches et multicouches. Ils peuvent également être utilisés pour mesurer les propriétés optiques des matériaux massifs. Les échantillons mesurables comprennent :
1) Épaisseur de film d et paramètres physiques (par exemple, indice de réfraction n, coefficient d'extinction k, ou fonctions diélectriques ε1 et ε2) d'échantillons nanostructurés monocouches et multicouches ;
2) Paramètres physiques (par exemple, indice de réfraction n, coefficient d'extinction k, ou fonctions diélectriques ε1 et ε2) de matériaux massifs ;
3) Réflectivité R de l'échantillon ;
4) Transmittance T de l'échantillon (non prise en charge pour les angles fixes ou pour une utilisation avec des micro-spots) ;
5) Mesure en mode diffusion (uniquement pour la série 02 avec variation automatique d'angle indépendante).
De plus, l'instrument est équipé d'un puissant logiciel de mesure et d'analyse par ellipsométrie spectrale.
II. Caractéristiques Techniques
(1) Technologie de mesure à compensateur rotatif : La plage de mesure de l'angle d'ellipsométrie Δ est de 0 à 360°, sans points morts. L'ES est un compensateur rotatif unique qui peut mesurer les 12 éléments de la matrice de Mueller d'un échantillon, éliminant l'influence des effets de dépolarisation causés par les surfaces rugueuses sur les résultats ;
(2) Précision à long terme extrêmement élevée : L'utilisation d'une rotation rapide du compensateur et de compensateurs super-achromatiques à large bande garantit une précision et une fiabilité à long terme ;
(3) Sensibilité de détection au niveau de la couche atomique : Capable de mesurer des couches atomiques uniques ;
(4) Alignement d'échantillon basé sur vidéo : Aligne précisément les échantillons et facilite l'observation, réduisant les erreurs humaines ;
(5) Réglage multi-angles d'incidence : La conception de la structure multi-angles d'incidence améliore la flexibilité de mesure de l'instrument, particulièrement adaptée à la mesure d'échantillons ultra-minces ou complexes ;
(6) Mesure de réflectance/transmittance : Permet la mesure spectrale de la réflectance et de la transmittance des échantillons ;
(7) Fonctionnement de l'instrument en un clic : Pour les opérations de routine, un seul clic de souris complète les processus complexes de mesure, de modélisation, d'ajustement et d'analyse. Une riche bibliothèque de modèles et de matériaux facilite également les besoins des utilisateurs avancés ;
III. Configuration de l'Instrument
3.1. Configuration de base
Numéro de série
Modèle
Nom
Paramètres techniques principaux
1
ES
Unité principale d'ellipsométrie spectroscopique
Il comprend les composants principaux suivants :
Ensemble de structure angulaire ;
Ensemble de source lumineuse ;
Ensemble d'optiques de polarisation ;
Ensemble d'alignement d'échantillon ;
Ensemble de système de contrôle.
2
ET-CON-5
Ordinateur de contrôle
Pour le contrôle des mouvements et les calculs d'analyse de données, la configuration doit être au minimum : CPU i5 ; 8 Go de RAM ; écran couleur de 21 pouces ; système Windows 10 ;
3
C7
Boîtier de contrôle de l'instrument
Utilisé pour le contrôle des mouvements des instruments, etc.
4
ETES
Logiciel d'exploitation et d'analyse dédié
Utilisé pour la configuration, le fonctionnement, la mesure, l'analyse des données et la sortie de l'instrument.
5
NFS-SiO2/Si
Échantillon de nanofilm standard sur wafer
L'oxyde de silicium (SiO2/Si) est déposé sur du silicium cristallin, avec un diamètre de 4 pouces et une épaisseur de film de 100 nm.
3.2. Accessoires optionnels couramment utilisés
N°
Modèle
Nom
Paramètres techniques principaux
X1a
F-U-200
Composant micro-spot
Diamètre du micro-spot lumineux (axe court) : 200 µm (Nécessite l'accessoire de mise au point automatique X2 pour l'utilisation)
X2a
Mise au point automatique
Système de mise au point automatique de l'axe Z
Course : 0-10 mm ;
Ellipsomètre Spectroscopique à Ellipsométrie Spectrale, Testeur d'Indice de Réfraction d'Épaisseur de Film Mince, Machine de Test d'Épaisseur de Nanofilm
(F) Angle d'incidence fixe ; angle par défaut : 65°
Spécifications de performance
Répétabilité de mesure*
Pour un film de SiO2 de 100 nm sur wafer standard de Si : répétabilité d'épaisseur 0,005 nm, répétabilité d'indice de réfraction 0,0002
Temps de mesure unique
Temps de mesure typique 1–2 secondes
Composants optiques et mécaniques
Source lumineuse
Source lumineuse à large bande à haute stabilité (lampe tungstène-halogène, lampe deutérium-halogène)
Mode de réglage spectral
Taille du spot auto-réglable ; temps d'intégration auto-réglable pour une correspondance optimale
Polariseur / Analyseur
Prisme polarisant de haute qualité
Spot de mesure
Plage réglable manuellement : 1–4 mm
Intervalle spectral
Bande ≤ 1000 nm : 1 nm
Platine d'échantillon
Plage de réglage vertical : 10 mm (manuelle) ; plage de réglage d'inclinaison 2D : ±2° (manuelle) ; adsorption par vide prise en charge ; taille maximale de l'échantillon : 8 pouces (200 mm) ; tailles personnalisées disponibles
Alignement d'échantillon
Télescope autocollimateur & microscope pour un alignement précis de l'échantillon (hauteur et inclinaison 2D) ; alignement par image vidéo électronique
Détecteur
Détecteur spectral à haute sensibilité et faible bruit
Armoire de contrôle
Châssis séparé avec carte de circuit imprimé, unité de microcontrôle, alimentation, etc.
Ordinateur
Ordinateur de haute qualité avec système d'exploitation
Logiciel
Langue de l'interface
Support multilingue incluant chinois/anglais ; chinois par défaut
Gestion des permissions
Niveaux de permission administrateur et opérateur pour la gestion de l'instrument
Modes de fonctionnement
Mode de mesure de routine en un clic (convivial pour débutants) ;
lmode d'analyse avancée pour l'analyse de matériaux complexes
Mesure spectrale
lRéglage automatique de l'azimut des composants optiques ;
lexécution manuelle/automatique de tâches définies par l'utilisateur ;
lspectre affiché en unités d'énergie standard ou de longueur d'onde ;
lsurveillance en temps réel de la réponse de l'échantillon avec affichage en ligne de ψ et Δ
Sortie des résultats de mesure
lMatrice de Mueller 11 éléments et autres formes de sortie (N, C, S) ;
lépaisseur de film d, indice de réfraction n, coefficient d'extinction k ;
lfonction diélectrique ε ;
langles ellipsométriques ψ, Δ ;
ldépolarisation p ;
ltransmittance T (non prise en charge par les instruments à angle fixe et la mesure laser) ;
lréflectance R ;
lrecadrage des données de longueur d'onde/angle sans altérer les données brutes ;
lfonction de fusion de données multi-angles ;
lformats d'expression tanψ, cosΔ et autres
Modélisation et ajustement
lCapable d'ajuster des structures multicouches (films monocouches, films composites et films multicouches à alternance périodique)
lBase de données de matériaux conviviale et extensible
lVaste liste de constantes optiques de matériaux
lComprend divers modèles de dispersion de matériaux tels que Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Drude, F-B, B-spline et Tauc-Lorentz.
lModélisation et analyse de structures supraréseaux
lAnalyse approximative du milieu effectif EMA
lChaque couche de film peut être considérée comme un film homogène, une interface, une surface rugueuse, etc.
lAnalyse de données composites provenant de mesures à plusieurs angles d'incidence
lAlgorithme d'ajustement par régression rapide pour les modèles optiques et les données de mesure
lAffichage graphique simultané des données mesurées et simulées
Simulation
lCalculs de simulation des angles d'ellipticité ψ et Δ de l'échantillon
lCalculs de simulation de la transmittance T et de la réflectance R de l'échantillon
Affichage des résultats
lAffiche les graphiques ajustés
lImages rendues 2D et 3D
lRapports avancés, sortie des spectres mesurés et calculés, modèles optiques et paramètres ajustés
Gestion des fichiers
Logiciel basé sur Windows avec des fonctions complètes de gestion de fichiers
Interface de données
Connectivité des données du système MES prise en charge
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