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Elípsometria espectral Elípsómetro espectroscópico Espessura do filme fino Índice de refração Tester Máquina de teste de espessura do nanofilm

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CHINA DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD Certificações
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Elípsometria espectral Elípsómetro espectroscópico Espessura do filme fino Índice de refração Tester Máquina de teste de espessura do nanofilm

Spectral Ellipsometry Spectroscopic Ellipsometer Thin Film Thickness Refractive Index Tester Nanofilm Thickness Testing Machine
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Imagem Grande :  Elípsometria espectral Elípsómetro espectroscópico Espessura do filme fino Índice de refração Tester Máquina de teste de espessura do nanofilm

Detalhes do produto:
Lugar de origem: Cantão, China
Marca: LONROY
Condições de Pagamento e Envio:
Quantidade de ordem mínima: 1

Elípsometria espectral Elípsómetro espectroscópico Espessura do filme fino Índice de refração Tester Máquina de teste de espessura do nanofilm

descrição
Tipo: Máquina de teste Classe de Precisão: Alta precisão
Precisão: / Aplicativo: Teste automático
suporte personalizado: OEM, ODM, OBM Poder: ----
Classe de Proteção: IP56 Tensão: 220 V, Outro
Garantia: 1 ano Interface de dados: Conectividade de dados do sistema MES suportada
Destacar:

Teste de película fina por ellipsômetro espectroscópico

,

Máquina de ensaio de espessura de nanofilmes

,

Teste de índice de refração por ellipsometria espectral

Elipsômetro Espectral Espectroscópico Testador de Espessura de Filme Fino Índice de Refração Máquina de Teste de Espessura de Nanofilme

 

I. Visão Geral

Os elipsômetros da série ES são elipsômetros espectroscópicos de alta precisão e acesso rápido da LONROY, projetados para ambientes de pesquisa e industriais, cobrindo a faixa de comprimento de onda ultravioleta, visível e infravermelho.

Com base em uma unidade de detecção de alta sensibilidade e software de análise de elipsômetro, os elipsômetros da série ES são usados para medir os parâmetros da estrutura da camada (por exemplo, espessura) e parâmetros físicos (por exemplo, índice de refração n, coeficiente de extinção k ou funções dielétricas ε1 e ε2) de nanofilmes de camada única e multicamadas. Eles também podem ser usados para medir as propriedades ópticas de materiais a granel. As amostras mensuráveis incluem:

1) Espessura do filme d e parâmetros físicos (por exemplo, índice de refração n, coeficiente de extinção k ou funções dielétricas ε1 e ε2) de amostras nanoestruturadas de camada única e multicamadas;

2) Parâmetros físicos (por exemplo, índice de refração n, coeficiente de extinção k ou funções dielétricas ε1 e ε2) de materiais a granel;

3) Refletividade R da amostra;

4) Transmitância T da amostra (não suportada para ângulos fixos ou para uso com micro-spots);

5) Medição no modo de espalhamento (apenas para a série 02 com variação automática independente de ângulo).

Além disso, o instrumento é equipado com um poderoso software de medição e análise de elipsometria espectral. 

 

 

II. Características Técnicas

(1) Tecnologia de medição com compensador rotativo: A faixa de medição do ângulo de elipsometria Δ é de 0-360°, sem pontos cegos. O ES é um compensador de rotação única que pode medir todos os 12 elementos da matriz de Mueller de uma amostra, eliminando a influência de efeitos de despolarização causados por superfícies rugosas nos resultados;

(2) Precisão de longo prazo extremamente alta: Empregando rotação rápida do compensador e compensadores super-acromáticos de banda larga, a precisão e a confiabilidade de longo prazo são garantidas;

(3) Sensibilidade de detecção em nível de camada atômica: Capaz de medir camadas atômicas únicas;

(4) Alinhamento de amostra baseado em vídeo: Alinha precisamente as amostras e facilita a observação, reduzindo o erro humano;

(5) Ajuste de múltiplos ângulos de incidência: O design da estrutura de múltiplos ângulos de incidência aumenta a flexibilidade de medição do instrumento, sendo especialmente adequado para medir amostras ultrafinas ou complexas;

(6) Medição de refletância/transmitância: Permite a medição espectral de refletância e transmitância de amostras;

(7) Operação do instrumento com um clique: Para operações de rotina, um único clique do mouse completa os processos complexos de medição, modelagem, ajuste e análise. Uma rica biblioteca de modelos e materiais também atende às necessidades de usuários avançados;

 

 

III. Configuração do Instrumento

3.1. Configuração Básica

Número de Série

Modelo

Nome

Principais parâmetros técnicos

1

ES

Unidade Principal de Elipsometria Espectral

Inclui os seguintes componentes principais:

Conjunto da estrutura angular;

Conjunto da fonte de luz;

Conjunto de óptica de polarização;

Conjunto de alinhamento da amostra;

Conjunto do sistema de controle.

2

ET-CON-5

Computador de Controle

Para controle de movimento e cálculos de análise de dados, a configuração deve ser no mínimo: CPU i5; 8 GB de RAM; tela colorida de 21 polegadas; sistema Windows 10;

3

C7

Caixa de Controle do Instrumento

Usado para controle de movimento de instrumentos, etc.

4

ETES

Software Dedicado de Operação e Análise

Usado para configuração, operação, medição, análise de dados e saída do instrumento.

5

NFS-SiO2 / Si

Amostra Padrão de Wafer de Nanofilme

Óxido de silício (SiO2/Si) depositado em silício cristalino, com diâmetro de 4” e espessura de filme de 100nm.

 

3.2. Acessórios Opcionais Comumente Usados

Nº.

Modelo

Nome

Principais Parâmetros Técnicos

X1a

F-U-200

Componente de micro-spot  

Diâmetro do micro-spot de luz (eixo curto): 200 μm (Requer acessório de autofoco X2 para uso)

X2a

Autofoco

Sistema de autofoco automático no eixo Z

Curso: 0-10 mm;

 

Elipsômetro Espectral Espectroscópico Testador de Espessura de Filme Fino Índice de Refração Máquina de Teste de Espessura de Nanofilme

IV. Especificações Técnicas

Especificações Gerais

 

Faixa Espectral

245 – 1000 nm; faixas espectrais personalizadas disponíveis mediante solicitação

Ângulo de Incidência

(F) Ângulo de incidência fixo; ângulo padrão: 65°

Especificações de Desempenho

 

Repetibilidade de Medição*

Para filme de SiO2 de 100 nm em wafer padrão de Si: repetibilidade de espessura 0,005 nm, repetibilidade de índice de refração 0,0002

Tempo de Medição Única

Tempo típico de medição de 1 – 2 segundos

Componentes Ópticos e Mecânicos

 

Fonte de Luz

Fonte de luz de banda larga de alta estabilidade (lâmpada de tungstênio-halogênio, lâmpada de deutério-halogênio)

Modo de Ajuste Espectral

Tamanho de spot autoajustável; tempo de integração autoajustável para correspondência ideal

Polarizador / Analisador

Prisma polarizador de alta qualidade

Spot de Medição

Faixa ajustável manual de 1 – 4 mm

Intervalo Espectral

Banda de ≤1000 nm: 1 nm

Plataforma da Amostra

Faixa de ajuste vertical: 10 mm (manual); faixa de ajuste de inclinação 2D: ±2° (manual); adsorção a vácuo suportada; tamanho máximo da amostra: 8 polegadas (200 mm); tamanhos personalizados disponíveis

Alinhamento da Amostra

Telescópio autocollimator & microscópio para alinhamento de amostra de precisão (altura e inclinação 2D); alinhamento eletrônico de imagem de vídeo

Detector

Detector espectral de alta sensibilidade e baixo ruído

Gabinete de Controle

Chassi dividido com placa de circuito, unidade de microcontrole, fonte de alimentação, etc.

Computador

Computador de alta qualidade com sistema operacional

Software

 

Idioma da Interface

Suporte multilíngue incluindo chinês/inglês; padrão chinês

Gerenciamento de Permissões

Níveis de permissão de administrador e operador para gerenciamento do instrumento

Modos de Operação

Modo de medição de rotina com um clique (amigável para iniciantes);

lmodo de análise avançada para análise de materiais complexos

Medição Espectral

lConfiguração automática do azimute do componente óptico;

lexecução manual/automática de tarefas definidas pelo usuário;

lespectro exibido em unidades padrão de energia ou comprimento de onda;

lmonitoramento em tempo real da resposta da amostra com exibição online de ψ e Δ

Saída de Resultado de Medição

lMatriz de Mueller com 11 elementos e outras formas de saída (N, C, S);

lespessura do filme d, índice de refração n, coeficiente de extinção k;

lfunção dielétrica ε;

lângulos elipsométricos ψ, Δ;

ldespolarização p;

ltransmitância T (não suportada por instrumentos de ângulo fixo e medição a laser);

lrefletância R;

lrecorte de dados de comprimento de onda/ângulo sem alterar os dados brutos;

lfunção de mesclagem de dados multi-ângulo;

ltanψ, cosΔ e outros formatos de expressão

Modelagem e Ajuste

lCapaz de ajustar estruturas multicamadas (filmes de camada única, filmes compostos e filmes multicamadas alternados periodicamente)

lBanco de dados de materiais amigável e expansível

lExtensa lista de constantes ópticas de materiais

lInclui vários modelos de dispersão de materiais como Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Drude, F-B, B-spline e Tauc-Lorentz.

lModelagem e análise de estruturas de super-rede

lAnálise aproximada do meio efetivo EMA

lCada camada de filme pode ser considerada como um filme homogêneo, interface, superfície rugosa, etc.

lAnálise de dados compostos de medições de múltiplos ângulos de incidência

lAlgoritmo de ajuste de regressão rápido para modelos ópticos e dados de medição

lExibição gráfica simultânea de dados medidos e simulados

Simulação

lCálculos de simulação dos ângulos de elipticidade ψ e Δ da amostra

lCálculos de simulação da transmitância T e refletância R da amostra

Exibição de Resultado

lExibe gráficos ajustados

lImagens renderizadas em 2D e 3D

lRelatórios avançados, emitindo espectros medidos e calculados, modelos ópticos e parâmetros ajustados

Gerenciamento de Arquivos

Software baseado em Windows com funções abrangentes de gerenciamento de arquivos

Interface de Dados

Conectividade de dados do sistema MES suportada

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Contacto
DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD

Pessoa de Contato: Kaitlyn Wang

Telefone: 19376687282

Fax: 86-769-83078748

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