Elipsómetro espectroscópico para la medición de estructuras de patrones en microáreas

Elipsómetro Espectroscópico para la Medición de Estructuras de Patrones de Micro-área Instrumento Elipsómetro Espectroscópico

I. Descripción General 

LR-SE-M es un elipsómetro espectroscópico dedicado y personalizado para la industria de semiconductores, diseñado para la medición de estructuras de patrones de micro-área. Adopta 1. tecnología de medición de detección de punto de luz ultra-miniatura y 2. tecnología de velocidad de medición ultra-rápida personalizada. Se puede aplicar a la medición de n/k/d de películas antirreflectantes, películas conductoras y otras películas delgadas en varios sustratos transparentes, y es perfectamente adecuado para el análisis de parámetros ópticos de varios patrones de micro-área.

II. Características Especiales

1. El tamaño del punto de luz se puede personalizar, con un mínimo de 30um.

2. Medición ultra-rápida, con un tiempo de medición único de menos de 0.5 segundos;

3. La configuración de la serie es flexible y admite el diseño funcional personalizado.

4. Estructura compacta, más adecuada para la medición integrada en línea.

III. Ejemplos de Medición

Medición de microestructura del área capturada en la imagen

Elipsómetro Espectroscópico para la Medición de Estructuras de Patrones de Micro-área Instrumento Elipsómetro Espectroscópico

Especificaciones Técnicas