टेबल रैपिड एनीलिंग फर्नेस 6-इंच वेफर रैपिड एनीलिंग फर्नेस उच्च परिशुद्धता वेफर रैपिड एनीलिंग ओवन लैब टेस्ट मा

एलआरपी-टेबल-6 एक डेस्कटॉप 6-इंच वेफर रैपिड एनीलिंग फर्नेस है, जो थर्मल इन्सुलेशन के लिए आंतरिक क्वार्ट्ज कैविटी को गर्म करने के लिए ताप स्रोत के रूप में इन्फ्रारेड हैलोजन लैंप की दो परतों का उपयोग करता है, और कैविटी शेल पानी से ठंडा एल्यूमीनियम मिश्र धातु है, ताकि उत्पाद समान रूप से गर्म हो और सतह का तापमान कम हो।

एलआरपी-टेबल-6 को पीआईडी ​​एल्गोरिदम द्वारा नियंत्रित किया जाता है, और सिस्टम इन्फ्रारेड हैलोजन लैंप की आउटपुट पावर को जल्दी से समायोजित कर सकता है, जिससे तापमान नियंत्रण अधिक सटीक हो जाता है।

उत्पाद की विशेषताएँ

1.डबल-लेयर इन्फ्रारेड हैलोजन लैंप हीटिंग, नाइट्रोजन जल्दी ठंडा;

2.तापमान की एकरूपता को बेहतर बनाने के लिए स्व-विकसित लैंप को समूहों में व्यवस्थित किया जाता है;

3.पीआईडी ​​एल्गोरिदम द्वारा नियंत्रित, लैंप का पावर आउटपुट वास्तविक समय में समायोजित किया जाता है;

4.सूचना प्रबंधन की सुविधा के लिए उपयोगकर्ता खातों को अनुमतियों के तीन स्तरों में विभाजित किया गया है;

5.सॉफ़्टवेयर का मुख्य इंटरफ़ेस वास्तविक समय में गैस, तापमान, वैक्यूम और अन्य पैरामीटर प्रदर्शित कर सकता है;

6.सिस्टम स्वचालित रूप से प्रत्येक प्रक्रिया की प्रासंगिक जानकारी सहेजता है;

7.त्रुटि जानकारी को स्वचालित रूप से पहचानें, और कोई असामान्यता होने पर स्वचालित रूप से डिवाइस की सुरक्षा करें:

8.ओवरहीटिंग का पता लगाना: कैविटी हाउसिंग में पानी से ठंडा एल्यूमीनियम मिश्र धातु का तापमान 70 डिग्री सेल्सियस से अधिक है

9.थर्मोकपल का पता लगाना: सिस्टम प्रक्रिया के दौरान, थर्मोकपल मॉनिटरिंग मान सेटिंग से मेल नहीं खाता है

10.ताप का पता लगाना: गर्म होने पर असामान्य आउटपुट पावर

11।फर्नेस दरवाज़ा लॉक का पता लगाना: क्या प्रत्येक प्रक्रिया से पहले दरवाज़ा लॉक बंद है

12.गैस का पता लगाना: गैस का दबाव निर्धारित सीमा से अधिक है, गैस का दबाव बहुत बड़ा या बहुत छोटा है

13.जल प्रवाह का पता लगाना: जल प्रवेश प्रवाह दर डिफ़ॉल्ट मान से कम है

14.जल रिसाव का पता लगाना: जल रिसाव का पता लगाया गया है

15.आपातकालीन स्टॉप स्विच: प्रक्रिया को तुरंत रोकें और ताप स्रोत को काट दें

एलआरपी-तालिका-6 उद्योग अनुप्रयोग

1.छोटा सा भूत एनीलिंग

2.आईटीओ कोटिंग के बाद तेजी से एनीलिंग

3.आक्साइड

4.नाइट्राइड वृद्धि

5.सिलिसाइड मिश्र धातु एनीलिंग

6.गैलियम आर्सेनाइड प्रक्रिया

7.ओमिक संपर्क तेज मिश्र धातु

8.ऑक्सीकरण भाटा

9.अन्य सेमीकंडक्टर रैपिड हीट ट्रीटमेंट प्रक्रियाएं