Forno de Anilhamento Rápido de Mesa Forno de Anilhamento Rápido de Wafer de 6 polegadas Forno de Anilhamento Rápido de Wafer de Alta Precisão Forno de Anilhamento Rápido de Wafer Teste de laboratório Ma

euRP-Table-6 é um forno de recozimento rápido wafer de mesa de 6 polegadas, que usa duas camadas de lâmpadas halógenas infravermelhas como fonte de calor para aquecer a cavidade interna de quartzo para isolamento térmico, e o revestimento da cavidade é de liga de alumínio resfriada a água, para que o produto seja aquecido uniformemente e a temperatura da superfície seja baixa.

euRP-Table-6 é controlado pelo algoritmo PID e o sistema pode ajustar rapidamente a potência de saída da lâmpada halógena infravermelha, tornando o controle de temperatura mais preciso.

Recursos do produto

1.Aquecimento de lâmpada halógena infravermelha de camada dupla, resfriamento rápido de nitrogênio;

2.As lâmpadas autodesenvolvidas são dispostas em grupos para melhorar a uniformidade da temperatura;

3.Controlado pelo algoritmo PID, a potência da lâmpada é ajustada em tempo real;

4.As contas de usuário são divididas em três níveis de permissões para facilitar o gerenciamento da informação;

5.A interface principal do software pode exibir gás, temperatura, vácuo e outros parâmetros em tempo real;

6.O sistema salva automaticamente as informações relevantes de cada processo;

7.Identifique automaticamente informações de erro e proteja automaticamente o dispositivo quando houver uma anormalidade:

8.Detecção de superaquecimento: A temperatura da liga de alumínio resfriada a água no alojamento da cavidade excede 70°C

9.Detecção de termopar: Durante o processo do sistema, o valor de monitoramento do termopar não corresponde à configuração

10.Detecção de aquecimento: Potência de saída anormal quando aquecido

11.Detecção de fechadura da porta do forno: se a fechadura da porta está travada antes de cada processo

12.Detecção de gás: a pressão do gás excede a faixa definida, a pressão do gás é muito grande ou muito pequena

13.Detecção de fluxo de água: A vazão de entrada de água é inferior ao valor padrão

14.Detecção de vazamento de água: O vazamento de água é detectado

15.Interruptor de parada de emergência: Pare imediatamente o processo e corte a fonte de calor

euRP-Tabela-6 Aplicações Industriais

1.Recozimento IMP

2.Recozimento rápido após revestimento ITO

3.óxidos

4.Crescimento de nitreto

5.Recozimento de liga de silicieto

6.Processo de arsenieto de gálio

7.Liga rápida de contato ôhmico

8.Refluxo de oxidação

9.Outros processos de tratamento térmico rápido de semicondutores