|
รายละเอียดสินค้า:
|
| พิมพ์: | เครื่องทดสอบ | ระดับความแม่นยำ: | ความแม่นยำสูง |
|---|---|---|---|
| ความแม่นยำ: | - | แอปพลิเคชัน: | การทดสอบอัตโนมัติการทดสอบในห้องปฏิบัติการการทดสอบในห้องปฏิบัติการ |
| การสนับสนุนที่กำหนดเอง: | OEM, ODM, OBM | พลัง: | - |
| ระดับการป้องกัน: | IP56 | แรงดันไฟฟ้า: | อุปกรณ์ไฟฟ้า 220V |
| การรับประกัน: | 1 ปี | ชื่อสินค้า: | เตาหลอมแบบรวดเร็วบนโต๊ะ |
| ขนาดเวเฟอร์: | เวเฟอร์ขนาด 6 นิ้ว | ฟอร์มแฟคเตอร์ของอุปกรณ์: | 910 มม. * 860 มม. * 695 มม. (กว้าง * ลึก * สูง) |
| เน้น: | โฟนผสมผสานไวของโอฟเฟอร์ขนาด 6 นิ้ว โฟนผสมผสานไวของห้องปฏิบัติการความแม่นยําสูง โฟนผสมผสานโอฟเฟอร์ที่มีการรับประกัน,high precision lab annealing oven,wafer annealing furnace with warranty |
||
เตาหลอมอย่างรวดเร็วแบบตั้งโต๊ะบนโต๊ะ เตาหลอมแบบเวเฟอร์แบบรวดเร็วขนาด 6 นิ้ว เตาอบแบบหลอมอย่างรวดเร็วแบบเวเฟอร์ความแม่นยำสูง
ลRP-Table-6 เป็นเตาหลอมเวเฟอร์แบบตั้งโต๊ะขนาด 6 นิ้วที่ใช้หลอดฮาโลเจนอินฟราเรดสองชั้นเป็นแหล่งความร้อนเพื่อให้ความร้อนแก่ช่องควอทซ์ภายในเพื่อเป็นฉนวนกันความร้อน และเปลือกของช่องเป็นอลูมิเนียมอัลลอยด์ระบายความร้อนด้วยน้ำ เพื่อให้ผลิตภัณฑ์ได้รับความร้อนอย่างสม่ำเสมอและอุณหภูมิพื้นผิวต่ำ
ลRP-Table-6 ควบคุมโดยอัลกอริธึม PID และระบบสามารถปรับกำลังเอาต์พุตของหลอดฮาโลเจนอินฟราเรดได้อย่างรวดเร็ว ทำให้การควบคุมอุณหภูมิแม่นยำยิ่งขึ้น
1.เครื่องทำความร้อนหลอดฮาโลเจนอินฟราเรดสองชั้น, ไนโตรเจนระบายความร้อนอย่างรวดเร็ว;
2.โคมไฟที่พัฒนาขึ้นเองจะจัดเป็นกลุ่มเพื่อให้อุณหภูมิมีความสม่ำเสมอดีขึ้น
3.ควบคุมโดยอัลกอริธึม PID กำลังไฟฟ้าของหลอดไฟจะถูกปรับแบบเรียลไทม์
4.บัญชีผู้ใช้จะถูกแบ่งออกเป็นสามระดับของสิทธิ์เพื่ออำนวยความสะดวกในการจัดการข้อมูล
5.อินเทอร์เฟซหลักของซอฟต์แวร์สามารถแสดงก๊าซ อุณหภูมิ สุญญากาศ และพารามิเตอร์อื่น ๆ ในแบบเรียลไทม์
6.ระบบจะบันทึกข้อมูลที่เกี่ยวข้องของแต่ละกระบวนการโดยอัตโนมัติ
7.ระบุข้อมูลข้อผิดพลาดโดยอัตโนมัติ และปกป้องอุปกรณ์โดยอัตโนมัติเมื่อมีความผิดปกติ:
8.การตรวจจับความร้อนสูงเกินไป: อุณหภูมิของอลูมิเนียมอัลลอยด์ระบายความร้อนด้วยน้ำในตัวเรือนคาวิตี้เกิน 70°C
9.การตรวจจับเทอร์โมคัปเปิล: ในระหว่างกระบวนการของระบบ ค่าการตรวจสอบเทอร์โมคัปเปิลไม่ตรงกับการตั้งค่า
10.การตรวจจับความร้อน: กำลังขับผิดปกติเมื่อถูกความร้อน
11.การตรวจจับการล็อคประตูเตาหลอม: ไม่ว่าการล็อคประตูจะถูกล็อคก่อนแต่ละกระบวนการหรือไม่
12.การตรวจจับก๊าซ: แรงดันแก๊สเกินช่วงที่ตั้งไว้ แรงดันแก๊สใหญ่เกินไปหรือเล็กเกินไป
13.การตรวจจับการไหลของน้ำ: อัตราการไหลของน้ำเข้าต่ำกว่าค่าเริ่มต้น
14.การตรวจจับน้ำรั่ว: ตรวจพบน้ำรั่ว
15.สวิตช์หยุดฉุกเฉิน: หยุดกระบวนการทันทีและตัดแหล่งความร้อนออก
1.IMP การหลอม
2.อบอ่อนอย่างรวดเร็วหลังการเคลือบ ITO
3.ออกไซด์
4.การเจริญเติบโตของไนไตรด์
5.การหลอมโลหะผสมซิลิไซด์
6.กระบวนการแกลเลียมอาร์เซไนด์
7.อัลลอยด์สัมผัสเร็วแบบโอห์มมิก
8.กรดไหลย้อนออกซิเดชั่น
9.กระบวนการบำบัดความร้อนอย่างรวดเร็วของเซมิคอนดักเตอร์อื่นๆ
เตาหลอมอย่างรวดเร็วแบบตั้งโต๊ะบนโต๊ะ เตาหลอมแบบรวดเร็วแบบเวเฟอร์ขนาด 6 นิ้ว เตาอบแบบหลอมอย่างรวดเร็วแบบเวเฟอร์ความแม่นยำสูง
ข้อกำหนดทางเทคนิค
|
ลRP-ตาราง-6 |
|
|
ขนาดเวเฟอร์ |
เวเฟอร์ขนาด 6 นิ้ว |
|
ฟอร์มแฟคเตอร์ของอุปกรณ์ |
910 มม. × 860 มม. × 695 มม. (ก×ล×ส) |
|
ช่วงอุณหภูมิความร้อน |
อุณหภูมิห้อง~~800℃(เทอร์โมคัปเปิล) 500°C~1200°C(ไพโรมิเตอร์อินฟราเรด) |
|
อัตราความร้อน |
เวเฟอร์เดี่ยว 150°C/s (ต้องใช้ขายึดควอตซ์) 20°C/sแผ่นพาหะซิลิคอนคาร์ไบด์ |
|
ความสม่ำเสมอของอุณหภูมิ |
<600 ℃,≤±5℃ ≥600℃,≤±1% |
|
การทำซ้ำการควบคุมอุณหภูมิ |
± 2 ℃ |
|
ถือเวลา |
สามารถตั้งโปรแกรมได้ตามคำขอ |
![]()
![]()
![]()
![]()
ผู้ติดต่อ: Kaitlyn Wang
โทร: 19376687282
แฟกซ์: 86-769-83078748