テーブルトップ 6インチワッフル・ラピッド・アニールオーブン 高精度ワッフル・ラピッド・アニールオーブン

L についてRP-Table-6はデスクトップ用 6インチワッフル・ラップ・アニール・オーブンで 2層の赤外線ハロゲンランプを熱源として使って 内部のクォーツ腔を熱隔温します穴の殻は水冷蔵アルミ合金で表面温度が低いように 均等に熱します

L についてRP-Table-6はPIDアルゴリズムで制御され,システムは赤外線ハロゲンランプの出力量を迅速に調整し,温度制御をより正確にします.

製品の特徴

1.二重層赤外線ハロゲンランプの加熱,窒素の速冷;

2.自作のランプは温度均一性を高めるためにグループに分けられる.

3.PID アルゴリズムで制御され,ランプの出力量はリアルタイムで調整されます.

4.ユーザーアカウントは,情報管理を容易にするため,許可の3つのレベルに分けられます.

5.ソフトウェアの主なインターフェースは,ガス,温度,真空,その他のパラメータをリアルタイムで表示できます.

6.システムでは各プロセスの関連情報を自動的に保存します.

7.誤り情報を自動的に識別し,異常が発生した場合にデバイスを自動的に保護します.

8.過熱検知:水冷アルミニウム合金の温度が空洞ホイスの温度が70°Cを超えると

9.熱電偶検出: システムプロセス中に,熱電偶モニタリング値は設定値と一致しない.

10.熱検知: 熱した時の異常出力

11.炉のドアロック検知:各プロセス前にドアロックがロックされているかどうか

12.ガス検知:ガスの圧力が設定範囲を超えたり,ガスの圧力が大きすぎたり,小さすぎたり

13.水流検知:水入口の流量値はデフォルト値より低い

14.水漏れ検知: 水漏れ検知

15.緊急停止スイッチ: すぐにプロセスを停止し,熱源を切断

L についてRP-表6 産業用アプリケーション

1.IMP 焼却

2.ITOコーティング後の急速なアニール

3.オキシド

4.ニトリド増殖

5.シリシド合金製の火焼

6.ガリウムアルセニード処理

7.オム接触の高速合金

8.オキシデーション反流

9.他の半導体高速熱処理プロセス