Forno de Anilhamento Rápido de 6 polegadas Forno de Anilhamento Rápido de Wafer de Alta Precisão Forno de Anilhamento Rápido de Wafer

LO RP-Table-6 é um forno de recozimento rápido de wafer de 6 polegadas de bancada, que utiliza duas camadas de lâmpadas halógenas infravermelhas como fonte de calor para aquecer a cavidade interna de quartzo para isolamento térmico, e a carcaça da cavidade é de liga de alumínio resfriada a água, de modo que o produto é aquecido uniformemente e a temperatura da superfície é baixa.

LO RP-Table-6 é controlado por algoritmo PID, e o sistema pode ajustar rapidamente a potência de saída da lâmpada halógena infravermelha, tornando o controle de temperatura mais preciso.

Características do produto

1. Aquecimento por lâmpada halógena infravermelha de dupla camada, resfriamento rápido com nitrogênio;

2. Lâmpadas autodesenvolvidas são dispostas em grupos para melhorar a uniformidade da temperatura;

3. Controlado por algoritmo PID, a saída de potência da lâmpada é ajustada em tempo real;

4. Contas de usuário são divididas em três níveis de permissão para facilitar o gerenciamento de informações;

5. A interface principal do software pode exibir gás, temperatura, vácuo e outros parâmetros em tempo real;

6. O sistema salva automaticamente as informações relevantes de cada processo;

7. Identifica automaticamente informações de erro e protege o dispositivo automaticamente em caso de anormalidade:

8. Detecção de superaquecimento: A temperatura da liga de alumínio resfriada a água na carcaça da cavidade excede 70°C

9. Detecção de termopar: Durante o processo do sistema, o valor de monitoramento do termopar não corresponde à configuração

10. Detecção de aquecimento: Potência de saída anormal durante o aquecimento

11. Detecção de trava da porta do forno: se a trava da porta está travada antes de cada processo

12. Detecção de gás: a pressão do gás excede o intervalo definido, a pressão do gás é muito alta ou muito baixa

13. Detecção de fluxo de água: A taxa de fluxo de entrada de água é inferior ao valor padrão

14. Detecção de vazamento de água: Vazamento de água detectado

15. Interruptor de parada de emergência: Interrompe imediatamente o processo e corta a fonte de calor

LRP-Table-6 Aplicações Industriais

1. Recozimento IMP

2. Recozimento rápido após revestimento de ITO

3. Óxidos

4. Crescimento de nitreto

5. Recozimento de liga de silício

6. Processo de arsenieto de gálio

7. Liga rápida de contato ôhmico

8. Refluxo de oxidação

9. Outros Processos de Tratamento Térmico Rápido de Semicondutores