|
Productdetails:
|
| Type: | Testmachine | Nauwkeurigheidsklasse: | Hoge nauwkeurigheid |
|---|---|---|---|
| Nauwkeurigheid: | --- | Sollicitatie: | Auto -testen, laboratoriumtesten, laboratoriumtests |
| Ondersteuning op maat: | OEM, ODM, OBM | Stroom: | --- |
| Beschermingsklasse: | IP56 | Spanning: | 220V elektrische apparatuur |
| Garantie: | 1 jaar | Productnaam: | Tafelmodel snelgloeioven |
| Wafeltjegrootte: | Wafeltjes van 6 inch | Vormfactor van apparaat: | 910 mm * 860 mm * 695 mm (B * D * H) |
| Markeren: | 6 inch wafer snel gloeiende oven,hoogprecieze ovens voor het gloeien van wafers,snel gloeiende oven boven tafel |
||
Tafeltop Rapid Annealing Oven 6 inch Wafer Rapid Annealing Oven High Precision Wafer Rapid Annealing Oven
LRP-Table-6 is een desktop 6-inch wafer snel gloeiende oven die twee lagen infrarood halogeenlampen gebruikt als warmtebron om de interne kwartsholte te verwarmen voor thermische isolatie,en de holte is een watergekoelde aluminiumlegering, zodat het product gelijkmatig wordt verwarmd en de oppervlaktetemperatuur laag is.
LRP-Table-6 wordt bestuurd door PID-algoritme en het systeem kan snel het uitgangsvermogen van de infraroodhalogeenlamp aanpassen, waardoor de temperatuurcontrole nauwkeuriger wordt.
1.dubbellagige infraroodhalogeenlampverwarming, snel afkoelende stikstof;
2.De zelf ontwikkelde lampen worden in groepen gerangschikt om de temperatuur gelijkmatiger te maken;
3.Beheerd door PID-algoritme, wordt het vermogen van de lamp in realtime ingesteld;
4.Gebruikersaccounts zijn onderverdeeld in drie niveaus van machtigingen om het beheer van informatie te vergemakkelijken;
5.De hoofdinterface van de software kan gas-, temperatuur-, vacuüm- en andere parameters in realtime weergeven;
6.Het systeem slaat automatisch de relevante informatie van elk proces op;
7.Automatisch identificeren van foutinformatie en automatisch beschermen van het apparaat bij afwijkingen:
8.Oververhitting: de temperatuur van de met water gekoelde aluminiumlegering in de holte van de behuizing is hoger dan 70°C
9.Detectie van het thermocouple: tijdens het systeemproces komt de waarde van de thermocouple-monitoring niet overeen met de instelling
10.Verwarmingsdetectie: abnormaal uitgangsvermogen bij verwarming
11.Detectie van de deurvergrendeling van de oven: of de deurvergrendeling vóór elk proces is vergrendeld
12.Gasdetectie: de gasdruk overschrijdt het ingestelde bereik, de gasdruk is te groot of te klein
13.Waterstroomdetectie: de waterinlaatstroom is lager dan de standaardwaarde
14.Waterlekken detectie: waterlekken worden gedetecteerd
15.Noodstopknop: onmiddellijk het proces stoppen en de warmtebron afsnijden
1.IMP-opgloeiing
2.Snel gloeien na ITO-coating
3.oxiden
4.Nitride-groei
5.Verwarming van siliciumlegeringen
6.Galliumarsenideproces
7.met een breedte van niet meer dan 50 mm
8.Oxidatie-reflux
9.andere halfgeleiders met een snel warmtebehandelingsproces
Tafeltop Rapid Annealing Oven 6 inch Wafer Rapid Annealing Oven High Precision Wafer Rapid Annealing Oven
Technische specificatie
|
LRP-tabel-6 |
|
|
Wafergrootte |
6 inch wafers |
|
De vormfactor van het apparaat |
910mm × 860mm × 695mmW × D × H) |
|
Verwarmingstemperatuurbereik |
Kamertemperatuur: ~ 800°Cthermocouples) 500°C tot 1200°CInfrarood pyrometer) |
|
Verwarmingspercentage |
150°C/s Single Wafer ((Een kwartsbeugel vereist) 20°C/s Siliciumcarbide dragerplaat |
|
Temperatuuruniformiteit |
< 600°C,≤ ± 5°C ≥ 600°C,≤ ± 1% |
|
Herhaalbaarheid van temperatuurregeling |
± 2°C |
|
Houd tijd |
Programmeerbaar op aanvraag |
![]()
![]()
![]()
![]()
Contactpersoon: Kaitlyn Wang
Tel.: 19376687282
Fax: 86-769-83078748