লোনরয় আইসিপি০৬ ইন্ডাক্টিভলি কপলড প্লাজমা ইটচিং মেশিন আইসিপি প্লাজমা ইটচিং অ্যাপারেশন ল্যাব আইসিপি+আরআইই ইটচিং প্রসেসিং সিস্টেম

LONROY ICP06 Inductively Coupled Plasma Etching Machine ICP প্লাজমা এচিং যন্ত্রপাতি ল্যাব ICP+RIE এচিং প্রসেসিং সিস্টেম

I. সরঞ্জাম ওভারভিউ

ICP06 Inductively Coupled Plasma Etching (ICP+RIE) সিস্টেম প্রাথমিকভাবে ফ্লোরিন নিযুক্ত করে

অক্সিজেন এবং আর্গনের সাথে মিলিত ভিত্তিক গ্যাস। ইন্ডাকটিভ কাপলিং এর synergistic কর্মের মাধ্যমে

স্রাব এবং ক্যাপাসিটিভ রেডিওফ্রিকোয়েন্সি কাপলিং ডিসচার্জ, প্রতিক্রিয়ার মধ্যে প্লাজমা তৈরি হয়

চেম্বার ফলস্বরূপ প্রতিক্রিয়াশীল ফ্রি র্যাডিকেলগুলি অস্থির অবস্থায় ফিল্ম পৃষ্ঠে রাসায়নিকভাবে প্রতিক্রিয়া করে

উপজাতগুলি নিষ্কাশন গ্যাসের মাধ্যমে সরানো হয় এবং চার্জযুক্ত আয়নগুলি ফিল্ম পৃষ্ঠে শারীরিকভাবে বোমাবর্ষণ করে।

এই দুটি প্রক্রিয়া পারস্পরিকভাবে সর্বোত্তম ফিল্ম রূপবিদ্যা অর্জনের জন্য এচিং কর্মক্ষমতা বাড়ায়।

1.1 কাজের নীতি:

আইসিপি এচার উচ্চ-নির্ভুলতা শুষ্ক এচিং ইন্ডাকটিভভাবে মিলিত প্লাজমার মাধ্যমে অর্জন করে

প্রযুক্তি, যা একটি উচ্চ-ফ্রিকোয়েন্সি ইলেক্ট্রোম্যাগন ব্যবহার করার মৌলিক নীতির উপর কাজ করে

উপাদানের জন্য প্রতিক্রিয়াশীল গ্যাসের সাথে মিলিত গ্যাস আয়নাইজেশন এবং প্লাজমা গঠনের জন্য etic ক্ষেত্র

এচিং বিশেষত, একটি উচ্চ-ফ্রিকোয়েন্সি পাওয়ার সোর্স (সাধারণত 13.56 মেগাহার্টজ) পর্যায়ক্রমে প্রযোজ্য

একটি আনয়ন কয়েলে বর্তমান, একটি সময়-পরিবর্তিত চৌম্বক ক্ষেত্র তৈরি করে যা জড় গ্যাসগুলিকে আয়নিত করে যেমন

আর্গন প্লাজমা উত্পাদন করতে। প্রতিক্রিয়া চেম্বারের মধ্যে, এই উচ্চ-ঘনত্বের প্লাজমা গ্যাসের সাথে বিক্রিয়া করে

CF4 এবং SF6 এর মত, শারীরিক বোমাবাজি এবং রাসায়নিক উভয় মাধ্যমে উপাদান এচিং সক্ষম করে

প্রতিক্রিয়া

এচিং প্রক্রিয়া চলাকালীন, ইন্ডাকটিভভাবে মিলিত প্লাজমা প্লাজমা ঘনত্ব নিয়ন্ত্রণ করে

ক্যাপাসিটিভভাবে মিলিত প্লাজমা আয়ন শক্তি নিয়ন্ত্রণ করে, যা রক্তরসের সুনির্দিষ্ট সমন্বয় সক্ষম করে

এচিং মরফোলজি এবং হার উভয়ই পরিবর্তন করুন।

একটি এচিং মেশিন দ্বারা খোঁচানোর জন্য উপযুক্ত সাবস্ট্রেট উপকরণগুলি প্লাজমার ধরণের উপর নির্ভর করে

নিযুক্ত প্লাজমাতে নির্দিষ্ট আয়নগুলির সাথে বিক্রিয়া করে উদ্বায়ী গঠন করতে সক্ষম শুধুমাত্র সেই উপাদানগুলি

যৌগগুলি দ্রুত এবং দক্ষ এচিং সহ্য করতে পারে। প্রক্রিয়া গ্যাসের ধরনের উপর ভিত্তি করে, এচিং

পদ্ধতিগুলি সাধারণত অক্সিজেন-ভিত্তিক, ফ্লোরিন-ভিত্তিক এবং ক্লোরিন-ভিত্তিক এচিং-এ শ্রেণীবদ্ধ করা হয়।

এই সরঞ্জামটি বিশেষভাবে ফ্লোরিন-ভিত্তিক বা কম ক্ষয়কারী গ্যাস এচিং প্রক্রিয়ার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে।

এই প্রযুক্তিটি প্লাজমা এচিং এবং রিঅ্যাকটিভ আয়ন এচিং উভয়ের বৈশিষ্ট্যকে একত্রিত করে,

কম-চাপ অপারেশন এবং উচ্চ প্লাজমা ঘনত্বের মতো সুবিধা প্রদান করে।

1.2 পণ্য বৈশিষ্ট্য:

1,অ্যালুমিনিয়াম খাদ ভ্যাকুয়াম চেম্বার, চমৎকার সিলিং কর্মক্ষমতা সহ অবিচ্ছেদ্য ছাঁচনির্মাণের মাধ্যমে নির্মিত এবং

উচ্চতর জারা প্রতিরোধের.

2,সংবেদনশীলভাবে মিলিত স্রাব এবং ক্যাপাসিটিভ রেডিও ফ্রিকোয়েন্সি মিলিত স্রাব একসাথে কাজ করে (বা আলাদাভাবে ব্যবহার করা যেতে পারে)।

৩,ব্যবহারকারী-বান্ধব নিয়ন্ত্রণ এবং প্রক্রিয়া পরামিতিগুলির রিয়েল-টাইম প্রদর্শন সহ টাচস্ক্রিন ইন্টারফেস

4,একাধিক প্রক্রিয়া সূত্র ডেটা এন্ট্রি সংরক্ষণ করুন; প্রয়োজন হিসাবে তাদের পুনরুদ্ধার করুন। ডেটা ট্রেসযোগ্য।

৫,6টি স্বাধীন গ্যাস চ্যানেল দিয়ে সজ্জিত, বিভিন্ন গ্যাসের অনুপাত কীভাবে পরিচ্ছন্নতাকে প্রভাবিত করে তা তদন্তের সুবিধা দেয়

কার্যকারিতা

৬,ডিভাইস এচিং স্টেজে একটি উত্তোলন প্রক্রিয়া রয়েছে এবং সর্বোত্তম প্রক্রিয়া কার্য সম্পাদনের জন্য বিভিন্ন ঘনত্বের গ্যাস ব্যবহার করে বিভিন্ন উচ্চতায় সামঞ্জস্য করা যেতে পারে।

1.3 প্রধান অ্যাপ্লিকেশন:

1. সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন: অ্যালুমিনিয়াম/টাংস্টেন মেটাল এচিং, এবং গ্যাএন পাওয়ার তৈরি

ডিভাইস

2. MEMS ডিভাইস: সেন্সর মাইক্রোস্ট্রাকচার তৈরি করা।

3. অপটোইলেক্ট্রনিক ডিভাইস: GaN-ভিত্তিক LED এর এচিং।

4. গবেষণা ক্ষেত্র: দ্বি-মাত্রিক পদার্থের পারমাণবিক স্তর যথার্থ এচিং

সরঞ্জামের বাহ্যিক মাত্রা এবং অভ্যন্তরীণ গহ্বরের চিত্রs

 স্ট্যান্ডার্ড আনুষাঙ্গিক

]

LONROY ICP06 Inductively Coupled Plasma Etching Machine ICP প্লাজমা এচিং যন্ত্রপাতি ল্যাব ICP+RIE এচিং প্রসেসিং সিস্টেম

প্রযুক্তিগত স্পেসিফিকেশন