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Dettagli:
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| Tipo di macchina: | Rivestimento magnetron sputtering a doppio target | Voltaggio: | 220 V |
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| Potenza (w): | 2000 | Dimensione (l*w*h): | 710*480*580 |
| Garanzia: | 1 anno | peso (kg): | 100 |
| Evidenziare: | Acciaio inossidabile,Testatore di rivestimento con sputter a doppio bersaglio,Sistema di deposizione a controllo magnetico |
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Categoria | Articolo | Specifiche | |
Nome Prodotto | Rivestitrice a Sputtering Magnetron a Doppio Target da Banco con Camera in Acciaio Inossidabile | ||
Modello | LR-CK103 | ||
Piano Porta-Campioni | Dimensioni | φ100 mm | |
Velocità di Rotazione Regolabile | ≤20 rpm | ||
Pistole a Target Magnetron | Dotato di due target magnetron da 2 pollici; dimensioni target: diametro 50,8 mm, spessore ≤3 mm | ||
Camera di Vuoto | Dimensioni Camera | φ273 mm × 280 mm | |
Finestra di Osservazione | Frontale | ||
Materiale Camera | Acciaio Inossidabile 304 | ||
Meccanismo di Apertura | Coperchio superiore e porta anteriore | ||
Sistema di Vuoto | Pompa di Prelievo | Pompa a palette a due stadi | |
Pompa Molecolare | Pompa turbomolecolare ad alta velocità | ||
Misurazione del Vuoto | Manometro a vuoto composto | ||
Porta del Vuoto | ISO63 | ||
Porta di Scarico | KF16 | ||
Vuoto Ultimo del Sistema | 1.0 × 10⁻⁴ Pa | ||
Alimentazione | 220V AC, 50/60 Hz | ||
Velocità di Pompaggio | Velocità pompa di prelievo: 1,1 L/s | ||
Potenza di Uscita | Alimentatore DC: 500 W | ||
Altri Parametri | Tensione di Ingresso | 220V AC, 50 Hz | |
Potenza Totale del Sistema | 2 kW | ||
Dimensioni Complessive | 710 × 480 × 580 mm | ||
Persona di contatto: Kaitlyn Wang
Telefono: 19376687282
Fax: 86-769-83078748