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Produktdetails:
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| Maschinentyp: | Dual-Target-Magnetron-Sputter-Beschichter | Stromspannung: | 220 V |
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| Leistung (W): | 2000 | Abmessung (L*B*H): | 710*480*580 |
| Garantie: | 1 Jahr | Gewicht (kg): | 100 |
| Hervorheben: | Edelstahl-Magnetron-Sputteranlage,Dual-Target-Sputterbeschichtungsprüfgerät,Magnetisch gesteuertes Abscheidesystem |
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Kategorie | Artikel | Spezifikation | |
Produktname | Tisch-Magnetron-Sputteranlage mit Edelstahlkammer und zwei Targets | ||
Modell | LR-CK103 | ||
Probenteller | Abmessungen | φ100 mm | |
Einstellbare Drehzahl | ≤20 U/min | ||
Magnetron-Target-Kanonen | Ausgestattet mit zwei 2-Zoll-Magnetron-Targets; Target-Abmessungen: 50,8 mm Durchmesser, ≤3 mm Dicke | ||
Vakuumkammer | Kammerabmessungen | φ273 mm × 280 mm | |
Sichtfenster | Frontseitig | ||
Kammer-Material | 304 Edelstahl | ||
Öffnungsmechanismus | Oberer Deckel und Fronttür | ||
Vakuumsystem | Vorvakuumpumpe | Zweistufige Drehschieberpumpe | |
Molekularpumpe | Hochgeschwindigkeits-Turbomolekularpumpe | ||
Vakuummessung | Verbundvakuummeter | ||
Vakuumanschluss | ISO63 | ||
Abgasanschluss | KF16 | ||
Endvakuum des Systems | 1,0 × 10⁻⁴ Pa | ||
Stromversorgung | AC 220V, 50/60 Hz | ||
Pumpgeschwindigkeit | Vorvakuumpumpengeschwindigkeit: 1,1 L/s | ||
Ausgangsleistung | DC-Stromversorgung: 500 W | ||
Weitere Parameter | Eingangsspannung | AC 220V, 50 Hz | |
Gesamtleistung des Systems | 2 kW | ||
Gesamtabmessungen | 710 × 480 × 580 mm | ||
Ansprechpartner: Kaitlyn Wang
Telefon: 19376687282
Faxen: 86-769-83078748