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Edelstahlkammer Dual-Target-Magnetron-Sputteranlage Sputterbeschichtungsprüfgerät Magnetisch gesteuertes Abscheidesystem

Bescheinigung
CHINA DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD zertifizierungen
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Edelstahlkammer Dual-Target-Magnetron-Sputteranlage Sputterbeschichtungsprüfgerät Magnetisch gesteuertes Abscheidesystem

Stainless Steel Chamber Dual-Target Magnetron Sputtering Coater Sputter Coating Tester Magnetic Controlled Deposition System
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Großes Bild :  Edelstahlkammer Dual-Target-Magnetron-Sputteranlage Sputterbeschichtungsprüfgerät Magnetisch gesteuertes Abscheidesystem

Produktdetails:
Herkunftsort: Guangdong, China
Markenname: LONROY
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: 1
Preis: $1,000

Edelstahlkammer Dual-Target-Magnetron-Sputteranlage Sputterbeschichtungsprüfgerät Magnetisch gesteuertes Abscheidesystem

Beschreibung
Maschinentyp: Dual-Target-Magnetron-Sputter-Beschichter Stromspannung: 220 V
Leistung (W): 2000 Abmessung (L*B*H): 710*480*580
Garantie: 1 Jahr Gewicht (kg): 100
Hervorheben:

Edelstahl-Magnetron-Sputteranlage

,

Dual-Target-Sputterbeschichtungsprüfgerät

,

Magnetisch gesteuertes Abscheidesystem

Produktbeschreibung
Magnetron-Sputteranlage mit Edelstahlkammer und zwei Targets, Sputterbeschichter, magnetisch gesteuertes Abscheidesystem

Kurze Einführung Diese Anlage ist ein Magnetron-Sputterbeschichter mit zwei Targets, der für die Abscheidung von Metallschichten entwickelt wurde. Sie findet Anwendung in Bereichen wie Elektronik, Optik und Spezialkeramik und ist auch für die SEM-Probenvorbereitung im Labor geeignet.
Magnetron-Sputteranlage mit Edelstahlkammer und zwei Targets, Sputterbeschichter, magnetisch gesteuertes Abscheidesystem
Detaillierte Einführung Dieser Magnetron-Sputterbeschichter mit zwei Targets ist für die Abscheidung von Metallschichten konzipiert und findet Anwendung in den Bereichen Elektronik, Optik und Spezialkeramik sowie bei der SEM-Probenvorbereitung im Labor. Das System verfügt über eine Hochvakuum-Edelstahlkammer mit einem Quarz-Sichtfenster (inklusive Blende) zur einfachen Beobachtung und Aufzeichnung während der Experimente. Das Kammerdesign gewährleistet eine hervorragende Vakuumleistung und eine kompakte Stellfläche, was es ideal für den Laboreinsatz macht. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer rotierenden, beheizbaren Probenspindel ausgestattet, um die Schichtgleichmäßigkeit und Abscheidequalität effektiv zu verbessern. Das System verwendet ein modulares Design mit einfacher Bedienlogik und einer intuitiven Benutzeroberfläche, was eine einfache Handhabung gewährleistet.
Magnetron-Sputteranlage mit Edelstahlkammer und zwei Targets, Sputterbeschichter, magnetisch gesteuertes Abscheidesystem
Anwendungen Dieses Gerät ist ein Magnetron-Sputterbeschichter mit zwei Targets, der zur Herstellung von Metallschichten verwendet wird. Es findet Anwendung in der Elektronik, Optik und bei der Herstellung von Spezialkeramik sowie bei der SEM-Probenvorbereitung im Labor.
Magnetron-Sputteranlage mit Edelstahlkammer und zwei Targets, Sputterbeschichter, magnetisch gesteuertes Abscheidesystem
Edelstahlkammer Dual-Target-Magnetron-Sputteranlage Sputterbeschichtungsprüfgerät Magnetisch gesteuertes Abscheidesystem
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Magnetron-Sputteranlage mit Edelstahlkammer und zwei Targets, Sputterbeschichter, magnetisch gesteuertes Abscheidesystem
Spezifikation
Technische Spezifikationen
Kategorie
Artikel
Spezifikation
Produktname
Tisch-Magnetron-Sputteranlage mit Edelstahlkammer und zwei Targets
Modell
LR-CK103
Probenteller
Abmessungen
φ100 mm
Einstellbare Drehzahl
≤20 U/min
Magnetron-Target-Kanonen
Ausgestattet mit zwei 2-Zoll-Magnetron-Targets; Target-Abmessungen: 50,8 mm Durchmesser, ≤3 mm Dicke
Vakuumkammer
Kammerabmessungen
φ273 mm × 280 mm
Sichtfenster
Frontseitig
Kammer-Material
304 Edelstahl
Öffnungsmechanismus
Oberer Deckel und Fronttür
Vakuumsystem
Vorvakuumpumpe
Zweistufige Drehschieberpumpe
Molekularpumpe
Hochgeschwindigkeits-Turbomolekularpumpe
Vakuummessung
Verbundvakuummeter
Vakuumanschluss
ISO63
Abgasanschluss
KF16
Endvakuum des Systems
1,0 × 10⁻⁴ Pa
Stromversorgung
AC 220V, 50/60 Hz
Pumpgeschwindigkeit
Vorvakuumpumpengeschwindigkeit: 1,1 L/s
Ausgangsleistung
DC-Stromversorgung: 500 W
Weitere Parameter
Eingangsspannung
AC 220V, 50 Hz
Gesamtleistung des Systems
2 kW
Gesamtabmessungen
710 × 480 × 580 mm
Unsere Vorteile
Edelstahlkammer Dual-Target-Magnetron-Sputteranlage Sputterbeschichtungsprüfgerät Magnetisch gesteuertes Abscheidesystem

Kontaktdaten
DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD

Ansprechpartner: Kaitlyn Wang

Telefon: 19376687282

Faxen: 86-769-83078748

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