Mesin Dip-Coating Multi-layer Withdrawal Film Deposition System Dry Wet Gel Film Coating Tester Photoresist Coater

Aplikasi Produk Sistem deposisi film celup dan tarik LR-Z268 terutama digunakan untuk menyiapkan bahan film tipis melalui metode fase cair seperti proses sol-gel. Substrat yang bersih dan kering dicelupkan ke dalam larutan, dan kemudian, sesuai dengan parameter yang telah ditentukan, ditarik perlahan dengan kecepatan yang terkontrol. Hal ini menghasilkan lapisan film tipis yang menempel pada substrat, yang dikenal sebagai "film gel basah." Saat pelarut menguap dari film gel basah ini, film tersebut mengeras pada substrat menjadi "film gel kering." Pengeringan lebih lanjut dan perlakuan panas suhu tinggi dari film gel kering menghasilkan bahan film nano-tipis yang diinginkan.

Parameter termasuk kecepatan tarik, ketinggian tarik, waktu pencelupan, jumlah siklus pelapisan (untuk pelapisan berlapis), dan waktu jeda antar pelapisan semuanya dapat disesuaikan secara terus menerus dan dikontrol secara presisi. Sistem ini tidak memberlakukan persyaratan khusus pada jenis substrat—wafer datar, blok, atau silinder semuanya dapat dilapisi. Dengan operasi yang stabil dan permukaan cairan bebas getaran selama pemrosesan, akurasi dan efisiensi eksperimental ditingkatkan secara signifikan.

Peralatan ini cocok untuk mendepositkan film pada permukaan padat seperti wafer silikon, chip semikonduktor, kaca, keramik, dan logam, dan banyak diterapkan dalam penelitian ilmiah dan produksi industri.

1. Digerakkan oleh motor servo, dikombinasikan dengan mekanisme pengangkat vertikal impor Jerman asli dan sistem kontrol yang dapat diprogram, memastikan presisi dan stabilitas operasional yang tinggi. Akurasi tinggi, kehalusan, dan ketiadaan getaran selama operasi motor servo tidak tertandingi oleh motor stepper.

2. Ditingkatkan dengan unit pengangkat vertikal impor Jerman asli yang terbuat dari bahan fungsional khusus, menawarkan presisi tinggi, transmisi bebas backlash, operasi mulus, ketahanan korosi, kinerja seumur hidup bebas perawatan, dan masa pakai yang diperpanjang.

3. Dirancang dengan struktur ruang tertutup, di mana larutan pelapis dan sampel ditempatkan di dalam ruang tertutup untuk mencegah gangguan dari lingkungan eksternal. Panel depan dan samping transparan memungkinkan pengamatan proses pelapisan yang jelas.

4. Kontrol program sepenuhnya otomatis dengan enam parameter yang dapat disesuaikan: kecepatan turun, waktu pencelupan, kecepatan tarik, dimensi pelapisan, jumlah siklus pelapisan, dan waktu jeda antar siklus—semuanya dapat disesuaikan secara terus menerus dan dikontrol secara presisi. Setelah program pelapisan diatur, seluruh proses—mulai dari turun hingga pencelupan dan penarikan—sepenuhnya otomatis.

5. Mendukung operasi sepenuhnya otomatis dan mode manual untuk prosedur pelapisan yang fleksibel.

6. Dilengkapi dengan antarmuka layar sentuh 7 inci yang menampilkan parameter waktu nyata selama operasi, memungkinkan pemantauan kemajuan pelapisan yang intuitif.

7. Beroperasi dengan lancar pada kecepatan tinggi dan rendah, tanpa getaran permukaan cairan selama bekerja, menghasilkan pembentukan film yang lebih seragam.

8. Konfigurasi standar mencakup tiga perlengkapan penjepit untuk penahanan substrat yang aman dan stabil. Kedua sisi rahang perlengkapan dilapisi dengan bantalan karet untuk mencegah kerusakan pada substrat.