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Mapping-Spektroskopischer Ellipsometer Spektral-Ellipsometer Spektroskopische Ellipsometrie Maschinenfabrikpreis

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CHINA DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD zertifizierungen
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Mapping-Spektroskopischer Ellipsometer Spektral-Ellipsometer Spektroskopische Ellipsometrie Maschinenfabrikpreis

Mapping Spectroscopic Ellipsometer Spectral Ellipsometer Spectroscopic Ellipsometry Machine Factory Price
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Großes Bild :  Mapping-Spektroskopischer Ellipsometer Spektral-Ellipsometer Spektroskopische Ellipsometrie Maschinenfabrikpreis

Produktdetails:
Herkunftsort: Guangdong, China
Markenname: LONROY
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: 1

Mapping-Spektroskopischer Ellipsometer Spektral-Ellipsometer Spektroskopische Ellipsometrie Maschinenfabrikpreis

Beschreibung
Typ: Testmaschine Genauigkeitsklasse: Hohe Genauigkeit
Genauigkeit: / Anwendung: Autotests
Maßgeschneiderte Unterstützung: OEM, ODM, OBM Leistung: -
Schutzklasse: IP56 Stromspannung: 220 V
Garantie: 1 Jahr Genauigkeit der Wiederholbarkeitsmessung: 0.01Nm
Einfallswinkelbereich: 45-90° Kartierungsstrich: 100*100mm (optional)
Unterstützte Stichprobengröße: Bis 200mm
Hervorheben:

Spektroskopischer Ellipsometer Labormaschine

,

Mapping-Spektroskopie-Ellipsometrie-Ausrüstung

,

Fabrikpreis Spektral-Ellipsometer

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I. Überblick

Das ME-Mapping Spektral-Ellipsometer ist ein anpassbares Mapping-Messspektrometer mit Mapping-Funktion. Es ist mit einem automatischen Mapping-Messmodul ausgestattet und kann durch die Messung von ellipsometrischen Parametern und Transmissions-/Reflexionsraten schnell eine selbstdefinierte Mapping-Messcharakterisierung und -analyse von Schichtdicke und optischen Parametern erreichen.

 

1. Komplettlösung für Ellipsometrie-Mapping und Messung des gesamten Substrats;

2. Unterstützt Produktdesign und Anpassung von Funktionsmodulen mit One-Click-Messzeichnung;

3. Konfigurieren Sie das Mapping-Modul, das eine kundenspezifische Mehrpunkt-Positionsmessung des gesamten Substrats ermöglicht;

4. Die umfangreiche Datenbank und die geometrische Strukturmodellbibliothek gewährleisten eine leistungsstarke Datenanalysefähigkeit.

 

II. Produktmerkmale

1.Es wird eine zusammengesetzte Lichtquelle aus Deuteriumlampen und Halogenlampen verwendet, wobei der Spektralbereich von Ultraviolett bis Nahinfrarot (193 - 2500 nm) abgedeckt wird.

2.Hochpräzise Rotationskompensatormodulation und PCRSA-Konfiguration ermöglichen eine Hochgeschwindigkeitserfassung von Psi/Delta-Spektraldaten.

3.Es verfügt über die Fähigkeit, eine automatische Mehrpunkt-Positionsmessung für das gesamte Substrat vollständig anzupassen und bietet umfassende Berichte zur Schichtdickenmessung und -analyse;

4.Hunderte von Materialdatenbanken und mehrere Algorithmusmodellbibliotheken sind verfügbar und decken die überwiegende Mehrheit der aktuellen Photovoltaikmaterialien ab.

 

III. Produktanwendungen 

ME-Mapping wird häufig in industriellen Anwendungen wie OLED, LED, Photovoltaik und integrierten Schaltkreisen eingesetzt und ermöglicht die schnelle Messung und Charakterisierung von Schichtdicke, optischen Konstanten und Schichtdickenverteilung auf großflächigen Substraten.

 

  

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Technische Spezifikation

 

 

Modell

ME-Mapping

Anwendungspositionierung

Automatischer Typ

Grundfunktionen

Psi/Delta, N/C/S, R/T und andere Spektren

Analytisches Spektrum

380-1000nm (Unterstützungserweiterung auf 193-1650nm)

Einzelmesszeit

≤15s

Wiederholbarkeitsmessgenauigkeit

0,01 nm

Spotgröße

Großer Spot 2-4 mm, Mikro-Spot 200 um/100 um

Genauigkeit der Brechzahlwiederholbarkeit

0,0005

 

Einfallswinkelbereich

45-90°

Einstellmethode des Einfallswinkels

Automatischer variabler Winkel

Fokusmethode

Autofokus

Mapping-Hub

100 * 100 mm (optional)

Unterstützte Probengröße

Bis zu 200 mm

 

 

 

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Kontaktdaten
DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD

Ansprechpartner: Kaitlyn Wang

Telefon: 19376687282

Faxen: 86-769-83078748

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