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Produktdetails:
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| Typ: | Testmaschine | Genauigkeitsklasse: | Hohe Genauigkeit |
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| Genauigkeit: | / | Anwendung: | Autotests |
| Maßgeschneiderte Unterstützung: | OEM, ODM, OBM | Leistung: | - |
| Schutzklasse: | IP56 | Stromspannung: | 220 V |
| Garantie: | 1 Jahr | Genauigkeit der Wiederholbarkeitsmessung: | 0.01Nm |
| Einfallswinkelbereich: | 45-90° | Kartierungsstrich: | 100*100mm (optional) |
| Unterstützte Stichprobengröße: | Bis 200mm | ||
| Hervorheben: | Spektroskopischer Ellipsometer Labormaschine,Mapping-Spektroskopie-Ellipsometrie-Ausrüstung,Fabrikpreis Spektral-Ellipsometer |
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Mapping Spektroskopischer Ellipsometer Spektral Ellipsometer Spektroskopische Ellipsometrie Maschine Fabrikpreis
I. Überblick
Das ME-Mapping Spektral-Ellipsometer ist ein anpassbares Mapping-Messspektrometer mit Mapping-Funktion. Es ist mit einem automatischen Mapping-Messmodul ausgestattet und kann durch die Messung von ellipsometrischen Parametern und Transmissions-/Reflexionsraten schnell eine selbstdefinierte Mapping-Messcharakterisierung und -analyse von Schichtdicke und optischen Parametern erreichen.
1. Komplettlösung für Ellipsometrie-Mapping und Messung des gesamten Substrats;
2. Unterstützt Produktdesign und Anpassung von Funktionsmodulen mit One-Click-Messzeichnung;
3. Konfigurieren Sie das Mapping-Modul, das eine kundenspezifische Mehrpunkt-Positionsmessung des gesamten Substrats ermöglicht;
4. Die umfangreiche Datenbank und die geometrische Strukturmodellbibliothek gewährleisten eine leistungsstarke Datenanalysefähigkeit.
II. Produktmerkmale
1.Es wird eine zusammengesetzte Lichtquelle aus Deuteriumlampen und Halogenlampen verwendet, wobei der Spektralbereich von Ultraviolett bis Nahinfrarot (193 - 2500 nm) abgedeckt wird.
2.Hochpräzise Rotationskompensatormodulation und PCRSA-Konfiguration ermöglichen eine Hochgeschwindigkeitserfassung von Psi/Delta-Spektraldaten.
3.Es verfügt über die Fähigkeit, eine automatische Mehrpunkt-Positionsmessung für das gesamte Substrat vollständig anzupassen und bietet umfassende Berichte zur Schichtdickenmessung und -analyse;
4.Hunderte von Materialdatenbanken und mehrere Algorithmusmodellbibliotheken sind verfügbar und decken die überwiegende Mehrheit der aktuellen Photovoltaikmaterialien ab.
III. Produktanwendungen
ME-Mapping wird häufig in industriellen Anwendungen wie OLED, LED, Photovoltaik und integrierten Schaltkreisen eingesetzt und ermöglicht die schnelle Messung und Charakterisierung von Schichtdicke, optischen Konstanten und Schichtdickenverteilung auf großflächigen Substraten.
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Technische Spezifikation
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Modell |
ME-Mapping |
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Anwendungspositionierung |
Automatischer Typ |
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Grundfunktionen |
Psi/Delta, N/C/S, R/T und andere Spektren |
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Analytisches Spektrum |
380-1000nm (Unterstützungserweiterung auf 193-1650nm) |
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Einzelmesszeit |
≤15s |
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Wiederholbarkeitsmessgenauigkeit |
0,01 nm |
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Spotgröße |
Großer Spot 2-4 mm, Mikro-Spot 200 um/100 um |
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Genauigkeit der Brechzahlwiederholbarkeit |
0,0005
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Einfallswinkelbereich |
45-90° |
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Einstellmethode des Einfallswinkels |
Automatischer variabler Winkel |
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Fokusmethode |
Autofokus |
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Mapping-Hub |
100 * 100 mm (optional) |
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Unterstützte Probengröße |
Bis zu 200 mm |
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Ansprechpartner: Kaitlyn Wang
Telefon: 19376687282
Faxen: 86-769-83078748