Produktdetails:
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Nennleistung: | 3KW | Tube Voltage: | 10 - 60kV |
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Stabilität: | ≤0.005% | Garantie: | 1 Jahr |
Model: | AL-Y3500xrdf | Overall Dimensions: | 1320*1000*1800mm |
Hervorheben: | Integrierter XRD-XRF-Analysator mit Garantie,Röntgendiffraktionsinstrument für die Spektrometrie,XRF-Spektrometer AL-Y3500xrdf Modell |
Das AL-Y3500xrdf-Instrument ist ein High-End-Analysegerät, das Röntgendiffraktometrie (XRD) und Röntgenspektroskopie (EDS) integriert. Es wird hauptsächlich zur Elementzusammensetzungsanalyse und Strukturcharakterisierung von Materialien verwendet. Durch eine einzige Messung können gleichzeitig wichtige Informationen wie Elementzusammensetzung, Kristallstruktur, Phasen Zusammensetzung und Korngröße des Materials erhalten werden. Es wird in Bereichen wie Materialwissenschaft, Geologie, Physik, Chemie, Biologie, Halbleiter, Katalysatorcharakterisierung, Metallmatrixanalyse und Nanotechnologie eingesetzt.
Merkmale:
1.Effiziente Integration: Eine einzige Messung kann gleichzeitig Diffraktions- und Spektroskopiedaten liefern, wodurch der zeitaufwändige und fehleranfällige Prozess herkömmlicher schrittweiser Messungen entfällt.
2. Hohe Empfindlichkeit und Genauigkeit: Durch den Einsatz fortschrittlicher Detektoren und Algorithmen liegt die Nachweisgrenze bei bis zu ppm-Niveau, und die Strukturauflösungsgenauigkeit erreicht das atomare Niveau.
3. Multifunktionale Erweiterung: Verschiedene Funktionszubehörteile erfüllen die Anforderungen verschiedener Testzwecke. Sie unterstützen verschiedene Probenformen (Pulver, Blöcke, Filme usw.), sind mit speziellen Umgebungen wie hoher Temperatur, niedriger Temperatur und hohem Druck kompatibel und mit einem hochstabilen Röntgenstrahlgenerator-Steuerungssystem ausgestattet, um eine stabilere Wiederholgenauigkeit zu erzielen.
4. Hardware-Integration: Gemeinsame Nutzung der Röntgenquelle, des Probentisches und des Steuerungssystems, um die Synchronisation der optischen Pfade und die Signalübereinstimmung der beiden Technologien sicherzustellen.
5. Datenfusion: Durch dedizierte Software werden die Diffraktionsmuster und Spektraldaten gemeinsam analysiert. Durch die Integration der Kristallstrukturinformationen aus der Röntgendiffraktometrie (XRD) und der Elementzusetzungsdaten aus der Röntgenfluoreszenzspektroskopie (XRF) wird die voll dimensionale Charakterisierung der Substanz erreicht.
6. Die Identifizierung einer oder mehrerer Kristallphasen in unbekannten Proben kann gleichzeitig durchgeführt werden, und 40 Elemente können gleichzeitig analysiert werden.
7. Unter Verwendung mehrerer Kollimatoren und eines Sonnenschlitzsystems verfügt es über proprietäre Technologie des geistigen Eigentums.
8. Kristallstrukturanalyse (Rietveld-Strukturanalyse) wird durchgeführt, einschließlich grundlegender Parameter, empirischer Koeffizientenmethode usw.
9. Unter unkonventionellen Bedingungen (wie hohen und niedrigen Temperaturen) kann sich die Kristallstruktur ändern, und mehrere Probenplattformen können untergebracht werden.
10. Analyse von Dünnschichtproben, einschließlich der Kristallphase des Films, der Dicke von Mehrschichtfilmen, der Oberflächenrauheit und der Ladungsdichte.
11. Analyse von Mikroflächenproben, Metallmaterialtextur und Spannungsanalyse.
Technische Parameter
Nennleistung |
3 kW (Hochfrequenz-Hochspannungs-Steuerungstechnologie) |
Röhrenspannung |
10 - 60 kV |
Röhrenstrom |
5 - 50 mA |
Röntgenröhre |
Metallkeramikröhre, Materialien: Cu, Fe, Co, Cr, Mo usw., Leistung: 2,4 kW |
Fokusfleckgröße |
1×10 mm, 0,4×14 mm, 2×12 mm |
Stabilität |
≤0,005% |
Elementnachweisbereich |
Na (Natrium) ~ U (Uran) |
Goniometerstruktur |
Proben horizontal (θ - θ) |
Diffraktionskreisradius |
225 mm (oder kundenspezifisch nach Bedarf: 185 - 325 mm optional) |
Detektionsdicke |
Analysierbare Dicke der Metallbeschichtungsschicht 0,0025 μm |
Elementgehaltsmessbereich |
1 PPM - 99,99% |
2θ Messbereich |
- 110° ~ 168° |
Scangeschwindigkeit |
0,0012° ~ 50°/min |
Winkelpositionierungsgeschwindigkeit |
1500°/min |
Scanmodus |
θ/s/θ/d Verknüpfung, Einzelaktion; kontinuierlich, schrittweise, 0 mg |
Minimaler Schrittwinkel |
1/10000° |
Wiederholbarkeit des Winkels |
1/10000° |
2θ Winkellinearität |
Die Winkelabweichung aller Peaks innerhalb des vollen Spektrumbereichs internationaler Standardproben (Si, Al2O3) überschreitet nicht ±0,01° |
Detektor |
Szintillationsdetektor (SC), Einzelphotonendetektor, Hochgeschwindigkeits-Array-Detektor + hochauflösender Energiedetektor |
Maximale lineare Zählrate |
5×10⁵CPS (SC mit Überlaufzählkompensationsfunktion), 3×10⁵CPS (Einzelphoton), 9×10⁵CPS (Array), 1,5×10⁵CPS (Energie) |
Energieauflösung |
≤50% (SC), ≤200 eV (Einzelphoton), ≤25% (Array), ≤140 eV (Energie) |
Zählmodus |
Differential- oder Integralmodus, automatische PHA, Totzeitkorrektur |
Systemmessstabilität |
≤0,01% |
Streustrahlungsdosis |
≤1 μSv/h (außer Röntgenschutzeinrichtung) |
Instrumenten-Gesamtstabilität |
≤0,1% |
Gesamtabmessungen |
1320×1000×1800 mm |
Ansprechpartner: Ms. Kaitlyn Wang
Telefon: 19376687282
Faxen: 86-769-83078748