Programmabile per Rivestimento a Immersione Substrato Macchina per Rivestimento a Immersione Processo Sol-gel Sistema di Rivestimento a Immersione Multi-strato Wafer

Applicazione del prodotto
La macchina per il rivestimento di immersione è utilizzata principalmente per la preparazione di materiali a film sottile mediante metodi di fase liquida, come il processo sol-gel.il substrato secco viene immerso in una soluzione (sol) e poi estratto verticalmente ad una velocità prestabilitaQuesto processo deposita sul substrato uno strato noto come "film gel umido"; man mano che il solvente evapora da questo strato, si solidifica in un "film gel secco"." Successiva asciugatura e trattamento termico ad alta temperatura trasformano la pellicola di gel secco nel nanomateriale sottile desiderato.Lo spessore del film è determinato dalla velocità di estrazione, dalla concentrazione del liquido e dalla viscosità del liquido.

Visualizzazione del prodotto
Questa macchina per il rivestimento in immersione è stata appositamente progettata per la ricerca sulla preparazione di film sottili mediante metodi di fase liquida (in particolare il processo sol-gel),che consente la crescita di pellicole su vari substrati attraverso un rivestimento di immersione- parametri quali la velocità di estrazione, l'altezza di estrazione, il tempo di immersione, il numero di cicli di rivestimento (per la deposizione a più strati),e gli intervalli tra i rivestimenti sono regolabili continuamente e controllati con precisioneNon sono richiesti requisiti particolari per il substrato; il rivestimento può essere applicato su fogli, blocchi o forme cilindriche.miglioramento significativo della precisione e dell'efficienza sperimentali.

È adatto per rivestire le superfici di vari materiali solidi, inclusi wafer di silicio, wafer di cristallo, vetro, ceramiche e metalli,e applicabile sia alla ricerca scientifica che alla produzione industriale.