Dip Coater Programmierbares Substrat Dip Abzug Beschichtung Maschine Sol-Gel Prozess Mehrschicht Dip Wafer Beschichtung System

Produkt Anwendung
Die Tauchbeschichtungsmaschine wird hauptsächlich zur Herstellung von Dünnschichtmaterialien mittels flüssigphasiger Methoden, wie dem Sol-Gel-Verfahren, verwendet. Ein sauberes, trockenes Substrat wird in eine Lösung (Sol) eingetaucht und dann mit voreingestellter Geschwindigkeit vertikal herausgezogen. Dieser Prozess scheidet eine Schicht ab, die als "Nassgel-Film" auf dem Substrat bezeichnet wird; wenn das Lösungsmittel aus dieser Schicht verdunstet, verfestigt sie sich zu einem "Trockengel-Film". Nachfolgendes Trocknen und Hochtemperatur-Wärmebehandlung wandeln den Trockengel-Film in den gewünschten Nanomaterial-Dünnfilm um. Die Filmdicke wird durch die Ausfahrgeschwindigkeit, die Flüssigkeitskonzentration und die Flüssigkeitsviskosität bestimmt.

Produktübersicht
Diese Tauchbeschichtungsmaschine wurde speziell für die Forschung zur Herstellung von Dünnschichten mittels flüssigphasiger Methoden (insbesondere des Sol-Gel-Verfahrens) entwickelt und ermöglicht das Wachstum von Filmen auf verschiedenen Substraten durch Tauchbeschichtung. Parameter wie Ausfahrgeschwindigkeit, Ausfahrhöhe, Eintauchzeit, Anzahl der Beschichtungszyklen (für mehrschichtige Abscheidung) und Intervalle zwischen den Beschichtungen sind stufenlos einstellbar und präzise gesteuert. Es gibt keine besonderen Anforderungen an das Substrat; die Beschichtung kann auf Platten-, Block- oder zylindrische Formen aufgebracht werden. Das System arbeitet stabil ohne Vibrationen an der Flüssigkeitsoberfläche, was die experimentelle Präzision und Effizienz erheblich verbessert.

Es eignet sich zur Beschichtung der Oberflächen verschiedener fester Materialien, einschließlich Siliziumwafer, Kristallwafer, Glas, Keramik und Metalle, und ist sowohl für die wissenschaftliche Forschung als auch für die industrielle Produktion anwendbar.