Système de revêtement de plaquettes par trempage multicouche à processus sol-gel, machine de revêtement par retrait de trempage, revêtement de substrat programmable par trempage

Application du produit
La machine de trempage est principalement utilisée pour préparer des matériaux en couches minces par des méthodes en phase liquide, telles que le procédé sol-gel. Un substrat propre et sec est immergé dans une solution (sol) puis retiré verticalement à une vitesse prédéfinie. Ce processus dépose une couche appelée "film de gel humide" sur le substrat ; à mesure que le solvant s'évapore de cette couche, elle se solidifie en un "film de gel sec". Le séchage ultérieur et le traitement thermique à haute température transforment le film de gel sec en la couche mince de nanomatériaux souhaitée. L'épaisseur du film est déterminée par la vitesse de retrait, la concentration du liquide et la viscosité du liquide.

Présentation du produit
Cette machine de trempage est spécialement conçue pour la recherche sur la préparation de couches minces par des méthodes en phase liquide (en particulier le procédé sol-gel), permettant la croissance de films sur divers substrats par trempage. Les paramètres tels que la vitesse de retrait, la hauteur de retrait, le temps d'immersion, le nombre de cycles de revêtement (pour le dépôt multicouche) et les intervalles entre les revêtements sont réglables en continu et contrôlés avec précision. Il n'y a pas d'exigences particulières pour le substrat ; le revêtement peut être appliqué sur des formes planes, en bloc ou cylindriques. Le système fonctionne de manière stable sans vibration à la surface du liquide, améliorant considérablement la précision et l'efficacité expérimentales.

Il convient au revêtement des surfaces de divers matériaux solides, y compris les plaquettes de silicium, les plaquettes de cristal, le verre, la céramique et les métaux, et est applicable à la fois à la recherche scientifique et à la production industrielle.