logo
Главная страница ПродукцияМашина для лабораторных испытаний

Процессор широкой поверхности плазмы Обработка активации поверхности Плазменный очиститель Лабораторная испытательная машина

Сертификация
КИТАЙ DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD Сертификаты
КИТАЙ DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD Сертификаты
Оставьте нам сообщение

Процессор широкой поверхности плазмы Обработка активации поверхности Плазменный очиститель Лабораторная испытательная машина

Wide Plasma Surface Processor Surface Activation Treatment Plasma cleaner Lab Test Machine
Wide Plasma Surface Processor Surface Activation Treatment Plasma cleaner Lab Test Machine

Большие изображения :  Процессор широкой поверхности плазмы Обработка активации поверхности Плазменный очиститель Лабораторная испытательная машина

Подробная информация о продукте:
Место происхождения: КИТАЙ
Фирменное наименование: Lonroy
Сертификация: ISO ASTM CE
Номер модели: SPK-500S
Оплата и доставка Условия:
Количество мин заказа: 1
Цена: Negotaible
Упаковывая детали: Деревянная упаковка
Время доставки: 5-8 рабочих дней
Условия оплаты: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Поставка способности: 200

Процессор широкой поверхности плазмы Обработка активации поверхности Плазменный очиститель Лабораторная испытательная машина

описание
Размер: L1800×W1107×H1408 мм Вес: 280 кг
Блок питания: Обменное давление 220В/50Гц Процесс обработки: 800 мм
Размер головки копья: L570*W90*H74 мм Масса головки копья: 10 кг
Выделить:

Широкий плазменный процессор для обработки поверхности

,

машина для обработки поверхности активацией

,

очиститель плазмы для лабораторных испытаний

Процессор широкой поверхности плазмы Обработка активации поверхности Плазменный очиститель Лабораторная испытательная машина

Процессор с широкой поверхностью плазмы с поверхностной активацией

1. Очертание
SPK-500S Wide Plasma Cleaning Machine ((Plasma cleaner), газ отделяется в плазменное состояние через источник питания возбуждения,и плазмы ACTS на поверхности продукта для очистки загрязняющих веществ на поверхности продуктаПлазменная очистка - это новая, экологически безопасная, эффективная и стабильная обработка поверхности.

 

2. Особенности продукта
1Диэлектрик помещается между металлическими электродами,и равномерное электрическое поле образуется и плазма генерируется, используя полярность на поверхности диэлектрика.
2Он может формировать плазму в больших масштабах и может использоваться с автоматическими трубопроводами;
3Более надежный усилитель мощности и модуль постоянного тока, использующий автоматический вакуумный конденсатор, чтобы обеспечить долгосрочную стабильную гарантию времени процесса;
4. Подходит для массового производства крупногабаритной продукции;
5Низкая температура обработки, обычная температура обработки < 40oC

 

3Применение в промышленности
1. Дисплейная промышленность: установка TP, активация поверхности панели, очистка поверхности перед покрытием ITO;
2Промышленность покрытия стекла: предварительная обработка покрытия AF, удаление переполнения AF/AS, печать чернилами;
3. полупроводники: интегрированная связь пакетов, предварительная обработка проволочных связей, керамическая упаковка, активация поверхности BGA / LED;
4- Круговая плата: органическая очистка и активация поверхности FPC/PCB;
5Промышленность пластика: модификация поверхности, грубость поверхности.

 

4. Спецификация оборудования


Широкий плазменный хозяин
Спецификация машины L1800×W1107×H1408 мм
Вес 280 кг.

Планирование требований
Обменное давление 220В/50Гц однофазный 2,5КВт
Спецификация плазменного генератора
Сила Регулируемая мощность 0-600 Вт
Основная частота 13.56 МГц
Соответствующий
Полностью автоматический вакуумный конденсатор
 
Спецификация головки плазменной пушки
Процесс лечения 800 мм
Размер головки копья L570*W90*H74 мм
Вес 10 кг

Голова пушки регулируется в высоту
 
0-10 мм ((точность регулирования ±0,3)

Общая высота обработки
 

от 1 до 5 мм и менее
 

Дальность охлаждения головки пушки
 
25-35oС
Процессовый газ
Использование газа Ar с O2 Двусторонний газ
Ar Диапазон регулирования газа

 
≤ 50 л/мин
Диапазон регулирования газа O2

 
≤50SCCM
Спецификация трубопровода
Скорость трубопровода
0-100 - мм/с регулируется
 
Кормовой ремень 1.5M
Материал ремня Противоположность поскользнению ПУ
Индукция и сигнализация
Система обнаружения Индукция карт и ламинирования и аварийная остановка
  С функцией звуковой и световой сигнализации

 

2.2 Спецификации завода

Требования к среде установки
Спрос на электроэнергию Обменное давление 220В/50Гц однофазный 2,5КВт

Hvac, аргонный газ (Ar)
давление: 0,3-0,8 МПа
Поток: 15-50 л/мин
чистота: 99,99%
Оборудование кислорода (O2) давление: 0,1-0,5 МПа

Поток: 0-100мл/мин
чистота: 99,99%
Сервисное разрешение 100 см

 

2.3 Общие требования

Общие требования
Определение риска Определение опасности высокого давления
Услужная среда температура:15-30oC
влажность воздуха: 30~70%
Другие вопросы, требующие внимания Никаких горючих газов, коррозионных газов, взрывов или реактивной пыли

 

Список конфигураций
Серийный номер Имя Модель и спецификация Количество Примечание
1 Плазменная мощность 0-600 Вт 1  
2
Плазменное сопоставляющее устройство
 
совпадение 1  
3 Сборка
Длина 1800 мм * ширина 520 мм

 
1  
4 ПЛК ПЛК Panasonic 1  
5 Устройства низкого напряжения
Обычное электрическое устройство

 
1  
6 Потокомер Ar и O2 2  
7 Машина для охлаждения воды 450W,5-35oC 1  
8
Плазменная головка
 
500 рублей 1  

 

Список расходных материалов
Серийный номер Имя Модель и спецификация Количество Время жизни
1 керамическая ванна керамика 1 4000-6000 часов
2 Чи-пластинка R500-02 1 6000-10000 часов
3 электрод R500-01 1 15000 часов

 

Рисунки габаритов оборудования:

Процессор широкой поверхности плазмы Обработка активации поверхности Плазменный очиститель Лабораторная испытательная машина

Процессор широкой поверхности плазмы Обработка активации поверхности Плазменный очиститель Лабораторная испытательная машина

Контактная информация
DONGGUAN LONROY EQUIPMENT CO LTD

Контактное лицо: Kaitlyn Wang

Телефон: 19376687282

Факс: 86-769-83078748

Оставьте вашу заявку (0 / 3000)

Другие продукты