Procesor powierzchniowy plazmatyczny o szerokiej powierzchni Aktywacja powierzchniowa Oczyszczacz plazmy Maszyna do badań laboratoryjnych

Obróbka aktywacyjna powierzchni procesora o szerokiej powierzchni plazmowej

1. Zarys
Szeroka maszyna do czyszczenia plazmowego SPK-500S (czyszczarka plazmowa), gaz jest rozdzielany do stanu plazmowego poprzez zasilacz wzbudzenia, a plazma ACTS na powierzchni produktu oczyszcza zanieczyszczenia z powierzchni produktu, aby poprawić aktywność powierzchniową i zwiększyć przyczepność. Czyszczenie plazmowe to nowa, przyjazna dla środowiska, wydajna i stabilna obróbka powierzchni.

2. Cecha produktu
1. Pomiędzy metalowymi elektrodami umieszcza się dielektryk i wytwarza się jednolite pole elektryczne oraz generowana jest plazma, wykorzystując zjawisko polaryzacji na powierzchni dielektryka.
2. Może wytwarzać plazmę na dużą skalę i może być stosowany z automatycznym rurociągiem;
3. Bardziej niezawodny wzmacniacz mocy i moduł prądu stałego, wykorzystujący automatyczny dopasowujący kondensator próżniowy, aby zapewnić długoterminową gwarancję stabilnego czasu procesu;
4. Nadaje się do masowej produkcji produktów o dużych rozmiarach;
5. Niska temperatura obróbki, konwencjonalna temperatura obróbki < 40°C

3. Zastosowanie branżowe
1. Przemysł displayowy: montaż TP, aktywacja powierzchni paneli, czyszczenie powierzchni przed powlekaniem ITO;
2. Przemysł osłon szklanych: wstępna obróbka powłoki AF, usuwanie powłoki przelewowej AF/AS, drukowanie atramentu;
3. Półprzewodnik: zintegrowane łączenie pakietów, wstępna obróbka drutu, opakowanie ceramiczne, aktywacja powierzchni BGA/LED;
4. Płytka drukowana: czyszczenie organiczne FPC/PCB i aktywacja powierzchni;
5. Przemysł tworzyw sztucznych: modyfikacja powierzchni, zgrubienie powierzchni.

4. Specyfikacja sprzętu

2.2 Specyfikacje fabryczne

2.3 Wymagania ogólne

Rysunki wymiarowe wyposażenia: