Maszyna do czyszczenia plazmy próżniowej 4L

Prysznica do oczyszczania plazmy

1.Przemysłowe zastosowania
Półprzewodnik/elektronika: czysty układ, usunięcie fotorezystora, poprawa wytrzymałości wiązania.
Urządzenia medyczne: Materiały polimerowe aktywowane (np. cewniki, soczewki kontaktowe) w celu zwiększenia biokompatybilności.
Przemysł motoryzacyjny: zajmujący się aktywacją powierzchniową gumy i reflektorów przed połączeniem.
Opakowania/drukowanie: Poprawa przyczepności do druku folii z tworzyw sztucznych.
Badania: modyfikacja powierzchni materiałów, wytwarzanie nanostruktur.

Prysznica do oczyszczania plazmy

2Zalety
Ochrona środowiska: brak rozpuszczalników chemicznych, zmniejszenie zanieczyszczeń.
Nie niszczące: działa tylko na powierzchni na głębokości nanoskali bez uszkodzenia podłoża.
Wydajność: krótki czas przetwarzania (od sekund do minut).
Wszechstronne: prace z szerokim zakresem gazów i materiałów (metali, tworzyw sztucznych, ceramiki itp.)