ロータリーレオメーター 回転レオメーター せん断回転レオメーター 高効率回転粘弾性レオメーター

測定システム（ユーザーサンプルに応じて選択可能）：

プレート・プレートシステム：微粒子を含むサンプルに適しています。

特徴：サンプル量が少ない、せん断速度場分布が不均一。コーン・プレートシステム：粒子を含まないサンプルに適しています。

特徴：サンプル量が少ない、せん断速度場分布が均一。同軸システム：微粒子を含む、または含まないサンプルに適しています。

特徴：サンプル量が多い、せん断速度場分布が不均一。

その他の特殊ローターは、ユーザーの要求に応じてカスタマイズ可能です。

温度制御システム：

1) 半導体温度制御システム：

温度制御範囲：-40～195℃（周囲温度30℃以下の場合）高精度：0.01℃分解能

安定性：±0.2℃

2) 電気加熱温度制御システム：

温度制御範囲：室温～280℃高精度：0.01℃分解能

安定性：±0.2℃

3) 超低温制御システム：

温度制御範囲：-117～100℃高精度：0.01℃分解能

安定性：±0.2℃

その他の温度制御システム：

ユーザーのニーズに応じてカスタマイズ可能です。

ワークステーション

デスクトップシステムワークステーション、機器操作およびデータ解析ソフトウェアを搭載、12種類の言語を選択可能。応力-ひずみ波形表示や多重調波解析などの高度な機能を備えています。

異なる温度制御モジュールとローターを使用することで、制御応力試験、制御ひずみ試験、制御速度試験、クリープ試験、振動試験（周波数、時間、温度、振幅スキャン）、UV硬化試験、粉体レオロジー試験、超高温試験、超高圧試験、法線応力試験、引張試験、トライボロジー試験、時間-温度重ね合わせ計算、

応力緩和試験、およびユーザー定義モードを実行できます。

異なるプラグインを使用することで、赤外分光法、ラマン分光法、および光学顕微鏡システムと組み合わせて使用できます。

測定可能なレオロジーパラメータ：弾性貯蔵弾性率（G'）

粘性損失弾性率（G"）

複素弾性率（G*）

弾性率-時間関数 G(t)

位相角（G'/G''）

定常せん断粘度（η）動的複素粘度（η*）

せん断速度、せん断応力

時間-温度

IRotary Rheometer Rotational Rheometer Shear Rotational Rheometer High Efficiency Rotational Viscoelasticity Rheometer