Mesin Pelapis Celup Proses Sol-gel Pelapis Perendaman Pelindung Nitrogen Penganalisis Ketebalan Film

Aplikasi Produk Produk ini terutama digunakan untuk menyiapkan bahan film tipis melalui metode fase cair—seperti proses sol-gel—di bawah atmosfer nitrogen. Substrat yang bersih dan kering direndam dalam larutan (sol); menggunakan parameter yang telah ditentukan, substrat kemudian ditarik secara vertikal dengan kecepatan terkontrol. Proses ini mengendapkan lapisan yang dikenal sebagai "film gel basah" pada substrat. Saat pelarut menguap dari lapisan ini, ia mengeras menjadi "film gel kering." Pengeringan selanjutnya dan perlakuan panas suhu tinggi mengubah film gel kering menjadi bahan film tipis nano yang diinginkan. Ketebalan film ditentukan oleh kecepatan penarikan, konsentrasi larutan, dan viskositas larutan.

Pengantar Produk Mesin Pelapis Celup yang Dilindungi Nitrogen dirancang khusus untuk penelitian yang melibatkan persiapan bahan film tipis melalui metode fase cair (terutama proses sol-gel) di bawah atmosfer nitrogen. Mekanisme penarikan vertikal ditempatkan di dalam ruang tertutup, yang memiliki saluran masuk nitrogen dan sistem kontrol tekanan di dinding sampingnya. Selama proses pelapisan, larutan ditempatkan di dalam ruang, dan substrat diamankan ke mekanisme penarikan. Ruang diisi dengan nitrogen (asupan nitrogen dapat disesuaikan untuk mengontrol kelembaban internal), dan setelah mengatur parameter pelapisan, proses pelapisan celup dilanjutkan di bawah perlindungan atmosfer nitrogen. Sangat cocok untuk bahan film tipis yang rentan terhadap oksidasi atau sensitif terhadap kelembaban. Gas inert, seperti argon, juga dapat digunakan sebagai pengganti nitrogen. Parameter seperti kecepatan penarikan, ketinggian penarikan, waktu perendaman, jumlah siklus pelapisan (untuk pelapisan multi-lapisan), dan interval pelapisan dapat disesuaikan terus menerus dan dikontrol secara presisi. Tidak ada persyaratan khusus untuk substrat pelapisan; bahan dalam bentuk lembaran, balok, atau silinder semuanya dapat dilapisi. Sistem beroperasi dengan stabil tanpa getaran di permukaan cairan selama operasi, secara signifikan meningkatkan presisi dan efisiensi eksperimental. Sangat cocok untuk proses pelapisan permukaan pada berbagai macam bahan padat, termasuk wafer silikon, wafer kristal, kaca, keramik, dan logam. Berlaku untuk penelitian ilmiah dan produksi industri.

Fitur Produk Mesin Pelapis Celup yang Dilindungi Nitrogen 1. Mekanisme pengangkatan dan sistem kontrol program menggunakan komponen impor dari Taiwan dan Jerman, memastikan presisi dan stabilitas operasional. 2. Kontrol program sepenuhnya otomatis dengan banyak parameter. Enam parameter dapat dikonfigurasi—kecepatan turun, waktu perendaman, kecepatan pengangkatan, panjang pelapisan, jumlah siklus pelapisan, dan waktu interval—semuanya dapat disesuaikan terus menerus untuk kontrol yang presisi. 3. Setelah program pelapisan diatur, seluruh proses—mulai dari turun dan perendaman hingga fase pengangkatan/pelapisan—berjalan sepenuhnya otomatis. 4. Operasi yang mulus pada kecepatan tinggi dan rendah; permukaan cairan tetap tidak terganggu selama pelapisan, menghasilkan film yang seragam bebas dari goresan. 5. Layar sentuh LCD 4,3 inci memfasilitasi kontrol yang mudah. Parameter ditampilkan secara real-time selama operasi, memberikan pandangan yang jelas tentang kemajuan pelapisan. 6. Sensor batas dipasang di posisi atas dan bawah; mesin berhenti secara otomatis saat mencapai batas ini, mencegah perjalanan berlebih selama pengangkatan atau penurunan. 7. Dilengkapi dengan penjepit rahang datar yang dirancang unik yang mencengkeram sampel secara merata dari kedua sisi tanpa menyebabkan kerusakan. 8.Dilengkapi dengan sensor nitrogen presisi tinggi dan sistem penghemat nitrogen yang unik, menghasilkan konsumsi nitrogen yang sangat rendah.